1,8-bis(acridin-9-yl)octane | 141946-29-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 喹啉及其衍生物
• 英文名称: 1,8-bis(acridin-9-yl)octane
• 英文别名: Acridine, 9,9'-(1,8-octanediyl)bis-；9-(8-acridin-9-yloctyl)acridine
• CAS: 141946-29-4
• 化学式: C₃₄H₃₂N₂
• 分子量: 468.641
• InChiKey: OQZQPVXWVWYBJB-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  698.4±38.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.157±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  10.6
• 重原子数：
  36
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  6.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.24
• 拓扑面积：
  25.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  癸二酸 、 二苯胺 在 zinc(II) chloride 作用下， 反应 40.0h， 以55%的产率得到1,8-bis(acridin-9-yl)octane
  参考文献：
  名称：

  一锅合成吖啶基链烷酸和新型双吖啶

  摘要：

  摘要 在无水氯化锌存在下，二苯胺与脂肪族二羧酸的缩合反应生成 ω-(吖啶-9-y1)链烷-α-油酸和 α,ω-双(吖啶-9-基)烷烃，在在规定的实验条件下，产量中等至高。

  DOI：

  10.1080/00397919908085921

文献信息

• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, RESIST PATTERN MANUFACTURING METHOD, AND PRINTED CIRCUIT BOARD MANUFACTURING METHOD
  申请人：Hitachi Chemical Company, Ltd.

  公开号：EP2284611A1

  公开（公告）日：2011-02-16

  A photosensitive resin composition comprising a (A) binder polymer, a (B) photopolymerizing compound having ethylenic unsaturated bonds in the molecule, a (C) photopolymerization initiator and a (D) polymerization inhibitor, wherein the (C) photopolymerization initiator comprises an acridine compound, and the content of the (D) polymerization inhibitor is 20-100 ppm by weight.

  一种光敏树脂组合物，包括（A）粘合剂聚合物、（B）分子中含有乙烯不饱和键的光聚合化合物、（C）光聚合引发剂和（D）聚合抑制剂，其中（C）光聚合引发剂包括吖啶化合物，而（D）聚合抑制剂的含量按重量计为 20-100 ppm。
• Photosensitive element, laminate, permanent mask resist, method for producing same, and method for producing semiconductor package
  申请人：HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD.

  公开号：US11054744B2

  公开（公告）日：2021-07-06

  Provided is a photosensitive element including a support film, and a photosensitive layer provided on the support film and formed from a photosensitive resin composition, in which the surface roughness of the surface of the support film that is in contact with the photosensitive layer is 200 to 4,000 nm.

  本发明提供了一种光敏元件，包括支撑膜和设置在支撑膜上并由光敏树脂组合物形成的光敏层，其中与光敏层接触的支撑膜表面的粗糙度为 200 至 4,000 nm。
• PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITION AND PHOTOPOLYMERIZABLE ELEMENT
  申请人：HITACHI CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：EP0503076B1

  公开（公告）日：1997-12-03
• COMPOSITION
  申请人：Adeka Corporation

  公开号：EP3339331B1

  公开（公告）日：2022-02-16
• PHOTO-CATIONIC POLYMERIZABLE EPOXY RESIN COMPOSITION, LIQUID DISCHARGE HEAD, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
  申请人：Ishikura Hiroe

  公开号：US20080292993A1

  公开（公告）日：2008-11-27

  A liquid discharge head having a substrate provided with energy generating elements for generating energy to discharge a liquid, discharge portions including discharge ports for discharging the liquid, and flow paths supplying the liquid to the discharge portions and a method for its manufacture are provided. The method includes the steps of forming a layer of a negative type photosensitive resin on the substrate, and exposing the layer to light having a wavelength of 365 nm to form the discharge portions.