5-(propanoyl-2)bicyclo<2.2.1>-2-heptene | 77936-56-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 5-(propanoyl-2)bicyclo<2.2.1>-2-heptene
• 英文别名: exo,endo-5-Norbornenylaceton；1-(Bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-yl)propan-2-one；1-(2-bicyclo[2.2.1]hept-5-enyl)propan-2-one
• CAS: 77936-56-2
• 化学式: C₁₀H₁₄O
• 分子量: 150.221
• InChiKey: IVVSGCMAIALZMK-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  106-107 °C(Press: 30 Torr)
• 密度：
  0.9815 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.7
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-(propanoyl-2)bicyclo<2.2.1>-2-heptene 在 一水合肼 、 sodium hydroxide 作用下， 以 乙醇 、 水 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 3-[(bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-yl)methyl]-5-(furan-2-yl)-4,5-dihydro-1H-pyrazole
  参考文献：
  名称：

  含呋喃片段不饱和酮的合成及抗菌活性

  摘要：

   抽象的 呋喃系列不饱和酮是通过糠醛与一些不饱和酮的羟醛-巴豆缩合反应合成的。已发现最佳条件包括使用氢氧化钠醇作为反应介质和室温，这可提供更高的区域选择性、目标不饱和酮的产率为 65-75%，并且不产生副产物。合成的不饱和酮分子中存在被羰基激活的 C=C 双键，这使得它们成为制备各种潜在生物活性化合物的有希望的底物。特别是，它们与水合肼、氨基硫脲和仲胺反应生成新的呋喃衍生物。

  DOI：

  10.1134/s1070428024030035
• 作为产物：
  描述：

  5-(propyn-2-yl)bicyclo<2.2.1>-2-heptene 在 硫酸 、 mercury(II) sulfate 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 5.0h， 以96%的产率得到5-(propanoyl-2)bicyclo<2.2.1>-2-heptene
  参考文献：
  名称：

  Diene condensation of allylacetylene and allylethynyldimethylcarbinol with cyclopentadiene and some transformations of the obtained adducts

  摘要：

  DOI：

  10.1007/bf00962267

文献信息

• Novel ester compounds having alicyclic structure and method for preparing same
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20010051742A1

  公开（公告）日：2001-12-13

  Ester compounds of formula (1) are useful as monomers to form base resins for use in chemically amplified resist compositions adapted for micropatterning lithography. 1 R 1 is H or C 1-6 alkyl, R 2 is an unsubstituted or halo-substituted acyl or alkoxycarbonyl group of 1-15 carbon atoms, R 3 is an acid labile group, k is 0 or 1, and m is an integer from 0 to 5.

  式（1）的酯化合物是有用的单体，可形成基础树脂，用于化学增强的抗蚀剂组合物，适用于微图案化学制图。其中，1R1为氢或C1-6烷基，R2为未取代或卤代的1-15个碳原子的酰基或烷氧羰基基团，R3为酸敏感基团，k为0或1，m为0至5的整数。
• Ester compounds having alicyclic structure and method for preparing same
  申请人：Shin-Etsu Chemical, Co., Ltd.

  公开号：US06403822B2

  公开（公告）日：2002-06-11

  Ester compounds of formula (1) are useful as monomers to form base resins for use in chemically amplified resist compositions adapted for micropatterning lithography. R1 is H or C1-6 alkyl, R2 is an acid labile group, k is 0 or 1, and m is an integer from 0 to 5.

  式（1）的酯化合物可用作单体，形成基础树脂，用于化学增强型抗蚀剂组合物，适用于微图案制造光刻。其中，R1为H或C1-6烷基，R2为酸敏感基团，k为0或1，m为0到5的整数。
• Ester compounds having alicyclic structure, and methods for preparing the same
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP1149826A2

  公开（公告）日：2001-10-31

  Ester compounds of formula (1) are useful as monomers to form base resins for use in chemically amplified resist compositions adapted for micropatterning lithography. R1 is H or C1-6 alkyl, R2 is an unsubstituted or halo-substituted acyl or alkoxycarbonyl group of 1-15 carbon atoms, R3 is an acid labile group, k is 0 or 1, and m is an integer from 0 to 5.

  式（1）的酯类化合物可作为单体形成基底树脂，用于微图案光刻的化学放大抗蚀剂组合物。 R1 是 H 或 C1-6 烷基，R2 是未取代或卤代取代的酰基或 1-15 个碳原子的烷氧羰基，R3 是易酸基团，k 是 0 或 1，m 是 0 至 5 的整数。
• Photochemistry of 5-norbornenylacetone and 5-norbornenylacetaldehyde
  作者：Ronald R. Sauers、Kenneth William Kelly

  DOI：10.1021/jo00827a047

  日期：1970.2
• VELIEV M. G.; GUSEJNOV M. M.; YANOVSKAYA L. A.; GAXRAMANOV R. F., IZV. AN CCCP CEP. XIM., 1981, HO 1, 144-149
  作者：VELIEV M. G.、 GUSEJNOV M. M.、 YANOVSKAYA L. A.、 GAXRAMANOV R. F.

  DOI：——

  日期：——