5-(1-hydroxy-5-methoxypentyl)-2-norbornene | 471910-87-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 5-(1-hydroxy-5-methoxypentyl)-2-norbornene
• 英文别名: 1-(2-bicyclo[2.2.1]hept-5-enyl)-5-methoxypentan-1-ol
• CAS: 471910-87-9
• 化学式: C₁₃H₂₂O₂
• 分子量: 210.316
• InChiKey: UHWARABRFAYDGQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.85
• 拓扑面积：
  29.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-(1-hydroxy-5-methoxypentyl)-2-norbornene 在 乙酸酐 作用下， 以 吡啶 、 4-二甲氨基吡啶 、 水 为溶剂， 以97%的产率得到5-(1-acetoxy-5-methoxypentyl)-2-norbornene
  参考文献：
  名称：

  Ether, polymer, resist composition and patterning process

  摘要：

  提供了一种化学式为（1）的醚化合物，其中R1为H或C1-6烷基，R2为C1-6烷基，R3为H，C1-15酰基或C1-15烷氧羰基，可以用卤素原子取代，k为0或1，m为0到3，n为3到6。该醚化合物聚合形成具有改进反应性、坚固性和基底附着性的聚合物。以该聚合物为基础树脂的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有优异的敏感性、分辨率和蚀刻抵抗性，并适用于电子束或深紫外线微图案化。

  公开号：

  US20020161150A1
• 作为产物：
  描述：

  5-降冰片烯-2-甲醛 、 4-氯丁基甲基醚 在 盐酸 作用下， 以 四氢呋喃 、 正己烷 、 水 为溶剂， 以75.4%的产率得到5-(1-hydroxy-5-methoxypentyl)-2-norbornene
  参考文献：
  名称：

  Ether, polymer, resist composition and patterning process

  摘要：

  提供了一种化学式为（1）的醚化合物，其中R1为H或C1-6烷基，R2为C1-6烷基，R3为H，C1-15酰基或C1-15烷氧羰基，可以用卤素原子取代，k为0或1，m为0到3，n为3到6。该醚化合物聚合形成具有改进反应性、坚固性和基底附着性的聚合物。以该聚合物为基础树脂的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有优异的敏感性、分辨率和蚀刻抵抗性，并适用于电子束或深紫外线微图案化。

  公开号：

  US20020161150A1

文献信息

• US6624335B2
  申请人：——

  公开号：US6624335B2

  公开（公告）日：2003-09-23
• US6784268B2
  申请人：——

  公开号：US6784268B2

  公开（公告）日：2004-08-31
• Ether, polymer, resist composition and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20020161150A1

  公开（公告）日：2002-10-31

  An ether compound of formula (1) is provided wherein R 1 is H or C 1-6 alkyl, R 2 is C 1-6 alkyl, R 3 is H, C 1-15 acyl or C 1-15 alkoxycarbonyl which may be substituted with halogen atoms, k is 0 or 1, m is from 0 to 3, and n is from 3 to 6. The ether compound is polymerized to form a polymer having improved reactivity, robustness and substrate adhesion. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity, resolution, and etching resistance, and lends itself to micropatterning with electron beams or deep-UV. 1

  提供了一种化学式为（1）的醚化合物，其中R1为H或C1-6烷基，R2为C1-6烷基，R3为H，C1-15酰基或C1-15烷氧羰基，可以用卤素原子取代，k为0或1，m为0到3，n为3到6。该醚化合物聚合形成具有改进反应性、坚固性和基底附着性的聚合物。以该聚合物为基础树脂的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有优异的敏感性、分辨率和蚀刻抵抗性，并适用于电子束或深紫外线微图案化。