[DE] METALLKOMPLEXE MIT ADAMANTANÄHNLICHER STRUKTUR<br/>[EN] METAL COMPLEXES WITH AN ADAMANTANE-LIKE STRUCTURE<br/>[FR] COMPLEXES METALLIQUES AVEC UNE STRUCTURE SEMBLABLE A L'ADAMANTANE
申请人:BASF AKTIENGESELLSCHAFT
公开号:WO1998016534A1
公开(公告)日:1998-04-23
(DE) Metallkomplexe der allgemeinen Formel (I), in der die Substituenten folgende Bedeutung haben: M ein Metall der III., IV., V. oder VI. Nebengruppe des Periodensystems der Elemente oder ein Metall der Lanthanoidenreihe, Y ein negatives Abgangsatom oder eine negative Abgangsgruppe, X und X1 ein negativ geladenes oder neutrales Atom der IV., V. oder VI. Hauptgruppe des Periodensystems der Elemente, Z Wasserstoff, C1- bis C10-Alkyl, C3- bis C10-Cycloalkyl, C1- bis C10-Alkoxy, C1- bis C10-Alkylthiolat oder Dialkylamid mit jeweils 1 bis 4 C-Atomen im Alkylrest, R1 bis R11 Wasserstoff, kohlenstofforganische oder siliciumorganische Reste, n 0, 1 oder 2 und die Wertigkeit von M (2+n) ist.(EN) Disclosed are metal complexes of the general formula (I), in which the substituents have the following notations: M is a metal of the subgroup III, IV, V or VI in the periodic table of the elements or a metal of the lanthanide series; Y is a negative nucleofuge atom or a negative leaving group; X and X1 are neutral atoms or negatively loaded atoms from the main group IV, V or VI in the periodic table of the elements; Z is hydrogen, C1- to C10-alkyl, C3- to C10-cycloalkyl, C1- to C10-alkoxy, C1- to C10-alkylthiolat or dialkylamide with, in each case, 1 to 4 C-atoms in the alkyl residues; R1 to R11 are hydrogen, organocarbon or organosilicon residues, n is 0, 1 or 2, and the valence of M is (2+n).(FR) La présente invention porte sur les complexes métalliques correspondant à la formule générale (I), où les substituants ont les significations suivantes: M est un métal du sous-groupe III, IV, V ou VI de la classification périodique des éléments ou un métal de la série des lanthanides; Y est un atome de décharge négatif ou un groupe de décharge négatif; X et X1 sont des atomes neutres ou de charge négative du groupe principal IV, V ou VI de la classification périodique des éléments; Z est hydrogène, C1- à C10-alkyle, C3- à C10-cycloalkyle, C1- à C10-alkoxy, C1 à C10-alkylthiolat ou dialkylamide avec, dans chaque cas, 1 à 4 atomes de C dans les résidus d'alkyle; R1 à R11 sont hydrogène, des résidus organocarbonés ou organosiliciés, n est 0, 1 ou 2 et la valence de M (2+n).
下列发明涉及符合一般式(I)的金属复合物,其中各取代基的意义如下:M为元素周期表中第III至VI族或镧系元素系中的金属;Y为带有负电荷的原子核位体或带有负电荷的离体基团;X、X1为第IV、V、VI族元素主族中的中性原子或负电荷的原子;Z为氢、C1-C10-基团、C3-C10环烷基、C1-C10-氧基、C1-C10-硫醚-alkyl或双-alkyl胺基(每个情况下,C基团中有1至4个C原子);R1至R11为氢、有机碳基团或有机硅基团残余,n为0、1或2,且M的价态为(2+n)。