2,4-dihydroxy-3-iodo-6-methoxyphenyl methyl ketone | 74047-32-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 2,4-dihydroxy-3-iodo-6-methoxyphenyl methyl ketone
• 英文别名: 2,4-dihydroxy-3-iodo-6-methoxy-acetophenone；1-(2,4-Dihydroxy-3-iodo-6-methoxyphenyl)ethanone
• CAS: 74047-32-8
• 化学式: C₉H₉IO₄
• 分子量: 308.073
• InChiKey: OJBGVYDHZOOVJO-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  198–200°C
• 沸点：
  341.2±42.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.879±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.1
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.22
• 拓扑面积：
  66.8
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,4-dihydroxy-3-iodo-6-methoxyphenyl methyl ketone 在 吡啶 、 4,4-二甲氧基-2-甲基-2-丁醇 作用下， 反应 16.0h， 生成 isoevodionol
  参考文献：
  名称：

  Donnelly, Dervilla M. X.; Molloy, David J.; Reilly, John P., Journal of the Chemical Society. Perkin transactions I, 1995, # 20, p. 2531 - 2534

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2',4'-二羟基-6'-甲氧基苯乙酮 在 碘 、 过碘酸 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 反应 2.0h， 以86%的产率得到2,4-dihydroxy-3-iodo-6-methoxyphenyl methyl ketone
  参考文献：
  名称：

  Donnelly, Dervilla M. X.; Molloy, David J.; Reilly, John P., Journal of the Chemical Society. Perkin transactions I, 1995, # 20, p. 2531 - 2534

  摘要：

  DOI：

文献信息

• An elegant synthesis of some naturally occurring linear acetylchromenes: eupatoriochromene, methyleupatoriochromene (encecalin); evodionol and methylevodionol
  作者：V.K. Ahluwalia、Chandra Prakash、Ranjna Gupta

  DOI：10.1016/0040-4020(82)80200-7

  日期：1982.1

  An elegant synthesis of linear acetylchromenes, viz eupatoriochromene, methyleupatoriochromene (encecalin), evodionol and methlevodionol, has been achieved by blocking the reactive position position C-3 of the appropriate ketones with an iodo group, prenylation with 3-chloro-3-methylbut-1-yne and subsequent cyclisation. Regiospecific introduction of C-prenyl group in the less reactive C-5 has been

  通过用碘基团封闭适当的酮的反应位置C-3并与3-氯-3-甲基丁烯基进行异戊烯基化，可以实现线性乙酰基色烯，即紫杉萜烯，甲基紫檀烯（encecalin），evodionol和甲基levodionol的精巧合成。 1-炔和随后的环化。通过适当的3-碘代酮与2-甲基丁-3-烯-2-醇的反应已经实现了C-异戊烯基在反应性较低的C-5中的区域特异性引入。5-异戊烯基酮也是合成线性乙酰基色烯的重要中间体。
• COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20210389669A1

  公开（公告）日：2021-12-16

  Disclosed are a compound represented by formula (I), a resin and a resist composition: wherein R 1 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen, hydrogen or halogen atom, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, R 4 represents a fluorine atom, an alkyl fluoride group having 1 to 6 carbon atoms or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and —CH 2 — included in the alkyl fluoride group and the alkyl group may be replaced by —O— or —CO—, R 5 represents a hydrogen atom, an alkylcarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms or an acid-labile group, m2 represents an integer of 1 to 4, m4 represents an integer of 0 to 3, and m5 represents 1 or 2, in which 2≤m2+m4+m5≤5.

  揭示了一种由公式（I）表示的化合物，树脂和抗蚀组合物： 其中R1代表具有1至6个碳原子的烷基基团，其可以具有卤素，氢或卤素原子，R2和R3各自独立地表示氢原子或具有1至12个碳原子的碳氢基团，R4表示氟原子，具有1至6个碳原子的烷基氟化物基团或具有1至12个碳原子的烷基基团，且包括在烷基氟化物基团和烷基基团中的-CH2-可以被- O-或-CO-所取代，R5表示氢原子，具有2至6个碳原子的烷基羰基基团或酸敏感基团，m2表示1至4的整数，m4表示0至3的整数，m5表示1或2，在其中2≤m2+m4+m5≤5。