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4-(1'-chloroacetoxycyclohexan-1'-yl)butanolide | 946617-06-7

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
4-(1'-chloroacetoxycyclohexan-1'-yl)butanolide
英文别名
[1-(5-Oxooxolan-2-yl)cyclohexyl] 2-chloroacetate
4-(1'-chloroacetoxycyclohexan-1'-yl)butanolide化学式
CAS
946617-06-7
化学式
C12H17ClO4
mdl
——
分子量
260.718
InChiKey
JNOXFANVFGHRQI-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.4
  • 重原子数:
    17
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.83
  • 拓扑面积:
    52.6
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    甲基丙烯酸4-(1'-chloroacetoxycyclohexan-1'-yl)butanolide四丁基碘化铵potassium carbonate 作用下, 以 甲苯 为溶剂, 反应 10.5h, 以72.9%的产率得到4-(1'-methacryloyloxyacetoxycyclohexan-1'-yl)butanolide
    参考文献:
    名称:
    TERTIARY ALCOHOL DERIVATIVE, POLYMER COMPOUND AND PHOTORESIST COMPOSITION
    摘要:
    (1) 提供了一种用于光刻胶组合物的聚合物化合物,该聚合物化合物在曝光后的显影溶液中具有高溶解速率,并且在显影过程中膨胀小。(2) 提供了一种用于制备此类聚合物化合物的原料化合物。(3) 还提供了一种包含该聚合物化合物的光刻胶组合物。具体而言,提供了以下通式(1)表示的三级醇衍生物。(在公式中,R1和R2与碳原子一起形成环,并且R1和R2表示具有2至9个碳原子的线性、支链或环烷基,可以在任意位置含有氧原子;R3表示氢原子或甲基基团;w表示具有1至10个碳原子的线性、支链或环烷基;n表示0或1。)
    公开号:
    US20090029290A1
  • 作为产物:
    描述:
    4-(1'-hydroxycyclohexan-1'-yl)butanolide氯乙酰氯4-二甲氨基吡啶三乙胺 作用下, 以 二氯甲烷 为溶剂, 反应 20.5h, 以83%的产率得到4-(1'-chloroacetoxycyclohexan-1'-yl)butanolide
    参考文献:
    名称:
    TERTIARY ALCOHOL DERIVATIVE, POLYMER COMPOUND AND PHOTORESIST COMPOSITION
    摘要:
    (1) 提供了一种用于光刻胶组合物的聚合物化合物,该聚合物化合物在曝光后的显影溶液中具有高溶解速率,并且在显影过程中膨胀小。(2) 提供了一种用于制备此类聚合物化合物的原料化合物。(3) 还提供了一种包含该聚合物化合物的光刻胶组合物。具体而言,提供了以下通式(1)表示的三级醇衍生物。(在公式中,R1和R2与碳原子一起形成环,并且R1和R2表示具有2至9个碳原子的线性、支链或环烷基,可以在任意位置含有氧原子;R3表示氢原子或甲基基团;w表示具有1至10个碳原子的线性、支链或环烷基;n表示0或1。)
    公开号:
    US20090029290A1
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文献信息

  • US8105746B2
    申请人:——
    公开号:US8105746B2
    公开(公告)日:2012-01-31
  • US8541606B2
    申请人:——
    公开号:US8541606B2
    公开(公告)日:2013-09-24
  • TERTIARY ALCOHOL DERIVATIVE, POLYMER COMPOUND AND PHOTORESIST COMPOSITION
    申请人:Fukumoto Takashi
    公开号:US20090029290A1
    公开(公告)日:2009-01-29
    (1) A polymer compound for photoresist composition which is high in dissolution rate in a developing solution after exposure and small swelling at the development and (2) a compound which is a raw material for such a polymer compound are provided. Furthermore, (3) a photoresist composition containing the subject polymer compound is provided. In detail, a tertiary alcohol derivative represented by the following general formula (1) is provided. (In the formula, R 1 and R 2 are taken together to form a ring together with a carbon atom to which R 1 and R 2 are bonded, and R 1 and R 2 as taken represent a linear, branched or cyclic alkylene group having from 2 to 9 carbon atoms, which may contain an oxygen atom at an arbitrary position; R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group; w represents a linear, branched or cyclic alkylene group having from 1 to 10 carbon atoms; and n represents 0 or 1.)
    (1) 提供了一种用于光刻胶组合物的聚合物化合物,该聚合物化合物在曝光后的显影溶液中具有高溶解速率,并且在显影过程中膨胀小。(2) 提供了一种用于制备此类聚合物化合物的原料化合物。(3) 还提供了一种包含该聚合物化合物的光刻胶组合物。具体而言,提供了以下通式(1)表示的三级醇衍生物。(在公式中,R1和R2与碳原子一起形成环,并且R1和R2表示具有2至9个碳原子的线性、支链或环烷基,可以在任意位置含有氧原子;R3表示氢原子或甲基基团;w表示具有1至10个碳原子的线性、支链或环烷基;n表示0或1。)
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