α-chloroacrylate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: α-chloroacrylate
• 英文别名: 2-Chloroacrylate；2-chloroprop-2-enoate
• 化学式: C₃H₂ClO₂
• 分子量: 105.501
• InChiKey: SZTBMYHIYNGYIA-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.9
• 重原子数：
  6
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  40.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-hydroxy-3,5-diiodobenzyl alcohol 、 α-chloroacrylate 在 对甲苯磺酸 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 以73 %的产率得到
  参考文献：
  名称：

  COMPOUND, (CO)POLYMER, COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING COMPOUND

  摘要：

  本发明的目的是提供一种能形成高分辨率和高灵敏度薄膜的组合物或类似物。上述目的可以通过以下化合物实现。一种含碘的（甲基）丙烯酸酯化合物，其表示为通式（1）：其中，R1代表氢原子、甲基基团或卤素；每个独立的R2代表具有1到20个碳原子的线性有机基团、具有3到20个碳原子的支链有机基团或具有3到20个碳原子的环状有机基团；A代表具有1到30个碳原子的有机基团；n1代表0或1；n2代表1到20的整数。

  公开号：

  US20220119336A1
• 作为产物：
  描述：

  (S)-2-chloropropanoate 、 NADP⁺ 生成 α-chloroacrylate 、 氢(+1)阳离子 、 NADPH(4-)
  参考文献：
  名称：

  2-卤代丙烯酸酯还原酶，一种中链脱氢酶/还原酶超家族的新型酶，可催化不饱和有机卤素化合物的碳-碳双键的还原。

  摘要：

  土壤细菌，伯克霍尔德氏菌。WS以2-氯丙烯酸酯为唯一碳源生长。为了鉴定代谢2-氯丙烯酸酯的酶，我们对2-氯丙烯酸酯和乳酸生长的细菌细胞中的蛋白质进行了比较二维凝胶电泳。结果，我们发现，当细胞在2-氯丙烯酸酯上生长时，可诱导合成名为CAA43的蛋白质。克隆了CAA43基因并显示出编码333个氨基酸残基的蛋白质（M（r）35,788），该蛋白质与来自大肠杆菌的NADPH依赖性醌氧化还原酶具有显着的序列相似性（38.2％同一性）。CAA43在大肠杆菌中过量产生，并纯化至均质。纯化的蛋白质催化了2-氯丙烯酸酯的碳-碳双键的NADPH依赖性还原反应，生成（S）-2-氯丙酸酯，在伯克霍尔德氏菌中，它可能被（S）-2-卤代酸脱卤酶进一步代谢为（R）-乳酸。WS。NADH不能用作还原剂。尽管序列与醌氧化还原酶相似，但CAA43并未作用于1,4-苯醌和1,4-萘醌。2-氯丙烯酸酯类似物，例如丙烯酸酯和甲基丙

  DOI：

  10.1074/jbc.m414605200

文献信息

• Halogenated anti-reflective coatings
  申请人：——

  公开号：US20020192594A1

  公开（公告）日：2002-12-19

  Anti-reflective coatings formed from new polymers and having high etch rates are provided. Broadly, the coatings are formed from a polymer binder and a light attenuating compound. The polymer binder has halogen atoms bonded thereto, preferably to functional groups on the polymer binder rather than to the polymer backbone. Preferred polymer binders comprise acrylic polymers while it is preferred that the halogenated functional groups of the polymer binders be dihalogenated, and more preferably trihalogenated, with chlorine, fluorine, or bromine atoms.

  提供了由新型聚合物形成的具有高刻蚀率的防反射涂层。广义上，这些涂层由聚合物粘合剂和光衰减化合物形成。聚合物粘合剂具有卤素原子结合在其中，最好结合在聚合物粘合剂的功能基团上，而不是聚合物主链上。首选的聚合物粘合剂包括丙烯酸聚合物，而聚合物粘合剂的卤化功能基团最好是二卤代的，更好的是三卤代的，其中卤素原子为氯、氟或溴原子。
• Halogen-containing polyacrylate derivatives
  申请人：Toyo Soda Manufacturing Co., Ltd.

  公开号：US04752635A1

  公开（公告）日：1988-06-21

  A halogen-containing polyacrylate derivative having the formula: ##STR1## wherein A is a structural unit derived from a copolymerizable monomer having a double bond; R is ##STR2## wherein each of R.sub.1 and R.sub.2 is a hydrogen atom or a fluorinated methyl group, provided R.sub.1 and R.sub.2 are not hydrogen atoms at the same time, and R.sub.3 is a hydrogen atom or a lower alkyl group; X is a halogen atom or a methyl group; and m is a positive integer, n is 0 or a positive integer, and n/m is from 0 to 2, preferably from 0 to 1.

  具有以下公式的含卤聚丙烯酸酯衍生物：##STR1## 其中A是来自可共聚单体具有双键的结构单元；R是##STR2## 其中R.sub.1和R.sub.2中的每一个是氢原子或氟代甲基基团，但R.sub.1和R.sub.2不能同时为氢原子，而R.sub.3是氢原子或低烷基基团；X是卤原子或甲基基团；m是正整数，n为0或正整数，且n/m在0到2之间，最好在0到1之间。
• A method of image-wise exposing and developing halogen-containing
  申请人：Toyo Soda Manufacturing Co., Ltd.

  公开号：US04822721A1

  公开（公告）日：1989-04-18

  Halogen-containing polyacrylate derivatives having the formula: ##STR1## wherein A is a structural unit derived from a copolymeriazable monomer having a double bond; R is ##STR2## wherein each of R.sub.1 and R.sub.2 is a hydrogen atom or a fluorinated methyl group, provided R.sub.1 and R.sub.2 are not hydrogen atoms at the same time, and R.sub.3 is a hydrogen atom or a lower alkyl group; X is a halogen atom or a methyl group; and m is a positive integer, n is 0 or a positive integer, and n/m from 0 to 2, preferably from 0 to 1 are disclosed. Also disclosed are methods for forming a resist pattern by using the halogen-containing polyacrylate derivatives as a resist material.

  具有以下式子的含卤基聚丙烯酸酯衍生物：##STR1## 其中A是来源于可共聚单体的双键的结构单元; R是 ##STR2## 其中R.sub.1和R.sub.2中的每一个都是氢原子或氟甲基基团，只要R.sub.1和R.sub.2不同时是氢原子，而R.sub.3是氢原子或低碳基基团; X是卤素原子或甲基基团; m是正整数，n是0或正整数，n/m从0到2，最好从0到1。还公开了使用含卤基聚丙烯酸酯衍生物作为抗蚀材料形成抗蚀图案的方法。