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三丁基硫脲 | 2422-88-0

中文名称
三丁基硫脲
中文别名
三丁基-2-硫脲
英文名称
Tributylthiourea
英文别名
1,1,3-tributylthiourea
三丁基硫脲化学式
CAS
2422-88-0
化学式
C13H28N2S
mdl
MFCD00082697
分子量
244.44
InChiKey
UDYXMTORTDACTG-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    313.5±25.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    0.9933 (rough estimate)
  • LogP:
    4 at 20℃ and pH6.7-6.9

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.2
  • 重原子数:
    16
  • 可旋转键数:
    10
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.923
  • 拓扑面积:
    16.6
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    2

安全信息

  • 海关编码:
    2930909090

制备方法与用途

类别
有毒物质
毒性分级
中毒
急性毒性
口服-大鼠 LD50: 3000 毫克/公斤; 口服-小鼠 LD50: 4300 毫克/公斤
可燃性危险特性
热分解排除有毒氮氧化物, 硫氧化物烟雾
储运特性
库房低温干燥通风
灭火剂
水, 干粉, 二氧化碳, 泡沫

反应信息

  • 作为反应物:
    参考文献:
    名称:
    Substituted aryl and heteroaryl derivatives, the preparation thereof and the use therof as pharmaceutical compositions
    摘要:
    本发明涉及一种新的取代芳基和杂环芳基衍生物,其通式如下: 其中A、Ar、n、X、Y1、Y2、Y3、Y4、R1和R5如权利要求1所定义,其前药、互变异构体、立体异构体、其混合物及其盐,特别是与无机或有机酸或碱的生理上可接受的盐,具有有价值的性质。因此,上述通式I中R5不包含氰基的化合物具有特别的抗血栓作用和选择性因子Xa抑制作用,通常具有改善的相容性。上述通式I中R5包含氰基的化合物是制备通式I中抗血栓化合物的有价值中间体。
    公开号:
    US07005437B2
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文献信息

  • RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
    申请人:Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
    公开号:US20160145231A1
    公开(公告)日:2016-05-26
    A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.
    描述了一种包含由通式(1)或(2)表示的化合物的光刻胶组合物,使用该组合物形成光刻胶图案的方法,用于该组合物的多化合物,以及可以由其衍生的醇化合物。
  • RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING A RESIST PATTERN, COMPOUND, AND POLYMER
    申请人:ASANO Yuusuke
    公开号:US20120156612A1
    公开(公告)日:2012-06-21
    A radiation-sensitive resin composition includes a first polymer that includes a repeating unit having an acid-labile group and becomes alkali-soluble upon dissociation of the acid-labile group, and a radiation-sensitive acid-generating agent. The acid-labile group has a structure shown by a general formula (1). R 1 represents a methyl group or the like, R 2 represents a hydrocarbon group that forms a cyclic structure, R 3 represents a fluorine atom or the like, R 4 represents a carbon atom, and n 1 is an integer from 1 to 7.
    一种辐射敏感树脂组合物包括第一聚合物,其中包括具有酸敏感基团的重复单元,在酸敏感基团解离后变为碱溶解性,并且包括辐射敏感酸发生剂。酸敏感基团具有通式(1)所示的结构。R1代表甲基基团或类似物,R2代表形成环状结构的基团,R3代表原子或类似物,R4代表原子,n1为1至7之间的整数。
  • OPTICAL COMPONENT FORMING COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF
    申请人:Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
    公开号:US20200262787A1
    公开(公告)日:2020-08-20
    The present invention provides an optical component forming composition comprising a tellurium-containing compound or a tellurium-containing resin.
    本发明提供了一种包括含化合物或含树脂的光学元件成型组合物。
  • METHOD FOR PRODUCING ARYL, HETEROARYL, OR ALKENYL-SUBSTITUTED UNSATURATED HYDROCARBON
    申请人:Nishizawa Toshiaki
    公开号:US20120142975A1
    公开(公告)日:2012-06-07
    The present invention relates to a method for producing aryl-, heteroaryl- or alkenyl-substituted unsaturated hydrocarbons, containing: reacting aryl halides, heteroaryl halides or alkenyl halides with alkynes or alkenes in the presence of a palladium catalyst to obtain a crude product, and subsequently distillatively purifying the crude product in the presence of a compound having at least one NC═S group.
    本发明涉及一种生产含芳基、杂芳基或基取代的不饱和烃的方法,包括:在催化剂存在下,将芳基卤化物、杂芳基卤化物或基卤化物与炔烃烃反应,以获得粗产品,随后在至少含有一个NC═S基团的化合物存在下,对粗产品进行蒸馏纯化。
  • RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, MONOMER, POLYMER, AND PRODUCTION METHOD OF RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
    申请人:MARUYAMA Ken
    公开号:US20120237876A1
    公开(公告)日:2012-09-20
    A radiation-sensitive resin composition includes a solvent and a polymer. The polymer includes a repeating unit represented by a formula (I), a repeating unit represented by a formula (II), or a both thereof. Each of R 1 to R 3 independently represents a hydroxyl group, or the like. At least one of R 1 represents a group having two or more heteroatoms. l is an integer from 1 to 5. Each of m and n is independently an integer from 0 to 5. Each of R 7 and R 11 independently represents a hydrogen atom, or the like. Each of R 8 to R 10 independently represents a hydrogen atom, or the like. A represents —O—, or the like. D represents a substituted or unsubstituted methylene group, or the like.
    一种辐射敏感树脂组合物包括溶剂和聚合物。该聚合物包括由式(I)表示的重复单元,由式(II)表示的重复单元,或两者兼有。R1至R3中的每一个独立地表示一个羟基或类似物。其中至少一个R1表示具有两个或更多杂原子的基团。l是从1到5的整数。m和n中的每一个独立地是从0到5的整数。R7和R11中的每一个独立地表示原子或类似物。R8到R10中的每一个独立地表示原子或类似物。A表示—O—或类似物。D表示取代或未取代的亚甲基基团或类似物。
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