O-acetyl-2-methyladamantan-2-ol | 58081-36-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: O-acetyl-2-methyladamantan-2-ol
• 英文别名: 2-Methyl-2-adamantyl-acetat；Essigsaeure-2-methyl-2-adamantylester；(2-Methyl-2-adamantyl) acetate
• CAS: 58081-36-0
• 化学式: C₁₃H₂₀O₂
• 分子量: 208.301
• InChiKey: ZYCNMZAKMGJJCM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.7
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  O-acetyl-2-methyladamantan-2-ol 在 三氟甲磺酸三甲基硅酯 作用下， 生成
  参考文献：
  名称：

  Synthesis of tert-Alkyl Phosphines: Preparation of Di-(1-adamantyl)phosphonium Trifluoromethanesulfonate and Tri-(1-adamantyl)phosphine

  摘要：

  DOI：

  10.15227/orgsyn.098.0289
• 作为产物：
  描述：

  金刚烷酮 在 4-二甲氨基吡啶 、 magnesium 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙醚 为溶剂， 反应 72.0h， 生成 O-acetyl-2-methyladamantan-2-ol
  参考文献：
  名称：

  2-取代和2,2-二取代的金刚烷衍生物作为研究取代基化学位移和C–H ax ⋯Y ax环己烷接触的模型—来自实验和理论NMR光谱化学位移和DFT结构的结果

  摘要：

  完整的1 H和13关于各种2-取代和2,2-二取代的金刚烷衍生物C NMR化学位移分配1 - 38在CDCl 3溶液中的NMR实验化学结构信息和DFT-GIAO组合的基础上实现的（B3LYP / 6-31 + G（d，p）-GIAO）计算溶液中的化学位移。讨论了取代基诱导的13 C NMR化学位移（SCS）。C-H斧⋯ÿ斧接触是有机化学中空间位阻的教科书原型。在新的金刚烷衍生物的基础上，将进一步研究这些接触的性质，这些新的金刚烷衍生物在C-2处被取代，以提供1,4-C-H ax ⋯Y ax和1,5-C-H ax的模型⋯Y轴触点。在B3LYP / 6-31 + G（d，p）的计算预测的C-H之间NBO hyperconjugative吸引相互作用的存在斧和Y斧组沿C-H斧⋯ý斧触点。的1层1 H NMR信号分离，Δ δ（γ-CH 2），反映了H-CH键合的强度斧⋯ÿ斧头接触。

  DOI：

  10.1016/j.tet.2015.01.044

文献信息

• SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20190137873A1

  公开（公告）日：2019-05-09

  The present invention can provide a salt and a resist composition including the salt, capable of producing a resist pattern with satisfactory line edge roughness (LER). A salt represented by formula (I): wherein R 1 and R 2 each represent a chain hydrocarbon group which may have a substituent, an alicyclic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, or R 1 and R 2 are bonded each other to form a ring together with sulfur atoms to which they are bonded, R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, —CH 2 — included in the hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—, and A − represents a counter anion.

  本发明提供了一种盐和包括该盐的抗蚀剂组合物，能够产生具有令人满意的线边粗糙度（LER）的抗蚀图案。该盐由式（I）表示：其中R1和R2各代表可能具有取代基的链烃基，可能具有取代基的脂环烃基或可能具有取代基的芳香烃基，或者R1和R2彼此相连以形成与它们结合的硫原子一起的环，R3、R4和R5各自独立地表示氢原子、氟原子或具有1至12个碳原子的烃基，烃基中包括的—CH2—可以被—O—或—CO—所取代，A-表示反离子。
• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20190112265A1

  公开（公告）日：2019-04-18

  A salt comprising a group represented by the formula (aa): wherein X a and X b independently each represent an oxygen atom or a sulfur atom, and X 1 represents a C1-C12 saturated hydrocarbon group which has a moiety represented by formula (1 a ) or (2 a ):

  一种盐，其由公式（aa）表示的基团组成：其中Xa和Xb分别独立地表示氧原子或硫原子，而X1表示具有由公式（1a）或（2a）表示的基团的C1-C12饱和碳氢基团。
• CYCLIC COMPOUND, PHOTORESIST BASE MATERIAL AND PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：Shibata Mitsuru

  公开号：US20100190107A1

  公开（公告）日：2010-07-29

  A cyclic compound shown by the following formula (I):

  一个由以下公式（I）所示的环状化合物：
• SALT, QUENCHER, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20210063875A1

  公开（公告）日：2021-03-04

  Disclosed are a salt represented by formula (I), a quencher, and a resist composition including the same:

  揭示了一种由化学式（I）表示的盐，一种淬火剂，以及包括它们的抗蚀组合物：
• ONIUM SALT COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20210149301A1

  公开（公告）日：2021-05-20

  An onium salt having formula (1) serving as an acid diffusion inhibitor and a chemically amplified resist composition comprising the acid diffusion inhibitor are provided. When processed by lithography, the resist composition exhibits dissolution contrast, acid diffusion suppressing effect, and excellent lithography performance factors such as CDU, LWR and sensitivity.

  提供具有公式（1）的醇铵盐，作为酸扩散抑制剂和化学增强型抗蚀剂组合物。当通过光刻加工时，该抗蚀剂组合物表现出溶解对比度，抑制酸扩散效果以及出色的光刻性能因素，例如CDU，LWR和灵敏度。