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4-乙酰氧基-3,5-二碘-苯甲酸 | 41072-98-4

中文名称
4-乙酰氧基-3,5-二碘-苯甲酸
中文别名
——
英文名称
3.5-Diiod-4-acetoxybenzoesaeure
英文别名
4-Acetoxy-3,5-diiodobenzoesaeure;4-acetoxy-3,5-diiodo-benzoic acid;4-Acetoxy-3,5-dijod-benzoesaeure;4-Acetyloxy-3,5-diiodobenzoic acid
4-乙酰氧基-3,5-二碘-苯甲酸化学式
CAS
41072-98-4
化学式
C9H6I2O4
mdl
——
分子量
431.953
InChiKey
JVPBGCMTWXCGAZ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.5
  • 重原子数:
    15
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.11
  • 拓扑面积:
    63.6
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    4

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    4-乙酰氧基-3,5-二碘-苯甲酸氯化亚砜 、 Petroleum ether 作用下, 生成 4-acetoxy-3,5-diiodo-benzoyl chloride
    参考文献:
    名称:
    Goldberg et al., Quarterly Journal of Pharmacy and Pharmacology, 1946, vol. 19, p. 483,486
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    The influence of oxide and adsorbates on the nanomechanical response of silicon surfaces
    摘要:
    在这篇文章中,我们报告了表面氧化物和相对湿度对疏水和亲水硅表面纳米机械响应的影响。深度感应纳米压痕与力调制相结合,可以测量接触前的表面力、表面能和相互作用刚度。研究了几种接触状态:预接触、表观接触、弹性接触和弹塑性接触。湿度和表面处理都会影响接触前和表面接触状态下的表面机械特性。在高湿度条件下,疏水和亲水表面都会形成半月板。湿度对疏水表面的影响要小得多,而且是完全可逆的。在弹性和弹塑性状态下,机械响应取决于氧化层厚度。小载荷(300 nN)下的不可逆性是由于表面氧化物的变形造成的。在 1 μN 以上,变形是弹性的,直到平均接触压力达到 11 GPa,硅发生压力诱导的相变,导致氧化层突入和突破。弹入所需的临界载荷取决于氧化层厚度和尖端半径。对于较厚的氧化层,基底的影响减小,塑性变形发生在氧化膜本身,而不会发生爆裂。对深度为 5 纳米的氧化层和硅基底的弹性模量和硬度进行了定量测量。
    DOI:
    10.1557/jmr.2000.0081
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文献信息

  • The influence of oxide and adsorbates on the nanomechanical response of silicon surfaces
    作者:S. A. Syed Asif、K. J. Wahl、R. J. Colton
    DOI:10.1557/jmr.2000.0081
    日期:2000.2

    In this article we report the influence of surface oxides and relative humidity on the nanomechanical response of hydrophobic and hydrophilic Si surfaces. Depth-sensing nanoindentation combined with force modulation enabled measurement of surface forces, surface energy, and interaction stiffness prior to contact. Several regimes of contact were investigated: pre-contact, apparent contact, elastic contact, and elasto-plastic contact. Both humidity and surface preparation influenced the surface mechanical properties in the pre- and apparent-contact regimes. Meniscus formation was observed for both hydrophobic and hydrophilic surfaces at high humidity. Influence of humidity was much less pronounced on hydrophobic surfaces and was fully reversible. In the elastic and elasto-plastic regimes, the mechanical response was dependent on oxide layer thickness. Irreversibility at small loads (300 nN) was due to the deformation of the surface oxide. Above 1 μN, the deformation was elastic until the mean contact pressure reached 11 GPa, whereby Si underwent a pressure-induced phase transformation resulting in oxide layer pop-in and breakthrough. The critical load required for pop-in was dependent on oxide thickness and tip radius. For thicker oxide layers, substrate influence was reduced and plastic deformation occurred within the oxide film itself without pop-in. Elastic modulus and hardness of both the oxide layer and Si substrate were measured quantitatively for depths <5 nm.

    在这篇文章中,我们报告了表面氧化物和相对湿度对疏水和亲水硅表面纳米机械响应的影响。深度感应纳米压痕与力调制相结合,可以测量接触前的表面力、表面能和相互作用刚度。研究了几种接触状态:预接触、表观接触、弹性接触和弹塑性接触。湿度和表面处理都会影响接触前和表面接触状态下的表面机械特性。在高湿度条件下,疏水和亲水表面都会形成半月板。湿度对疏水表面的影响要小得多,而且是完全可逆的。在弹性和弹塑性状态下,机械响应取决于氧化层厚度。小载荷(300 nN)下的不可逆性是由于表面氧化物的变形造成的。在 1 μN 以上,变形是弹性的,直到平均接触压力达到 11 GPa,硅发生压力诱导的相变,导致氧化层突入和突破。弹入所需的临界载荷取决于氧化层厚度和尖端半径。对于较厚的氧化层,基底的影响减小,塑性变形发生在氧化膜本身,而不会发生爆裂。对深度为 5 纳米的氧化层和硅基底的弹性模量和硬度进行了定量测量。
  • Goldberg et al., Quarterly Journal of Pharmacy and Pharmacology, 1946, vol. 19, p. 483,486
    作者:Goldberg et al.
    DOI:——
    日期:——
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