一种新的、高选择性的键官能化策略,通过两种过渡
金属催化剂的中继和无痕
缩醛导向基团的使用实现,已被用于在单个容器中轻松形成 C-Si 键并伴随
硅基团的官能化. 具体而言,该方法涉及廉价且容易获得的
乙酸苯酯的 Ir 催化氢化
硅烷化的中继,利用二取代的甲
硅烷基合成子提供甲
硅烷基
缩醛和 Rh 催化的邻-CH 甲
硅烷基化以提供二
恶唑啉。随后对
硅的亲核加成去除了
缩醛导向基团并直接提供未掩蔽的
苯酚产物,从而在单个容器中获得
硅上的有用官能团。这种用于
苯酚催化邻 CH 甲
硅烷基化的无痕
缩醛导向基团策略也成功应用于多取代
芳烃的制备。值得注意的是,已经开发了一种新的正式 α-
氯乙酰导向基团,它允许空间位阻
酚的催化还原 CH 甲
硅烷基化。特别是,这种新方法允许获得其他催化途径难以获得的高度通用且分化良好的 1,2,3-三取代
芳烃。此外,所得二
恶唑啉可以作为色谱稳定的卤代
硅烷等价物,不仅可以去除
缩醛导向基团,还可以