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4-丙氧基-4’-二苯甲酸 | 59748-13-9

中文名称
4-丙氧基-4’-二苯甲酸
中文别名
4-丙氧基-4'-二苯甲酸;4-N-丙基氧基联苯-4-羧酸
英文名称
4'-propoxybiphenyl-4-carboxylic acid
英文别名
4-(4-n-Propyloxyphenyl)benzoesaeure;4-Propyloxy-biphenyl-4'-carbonsaeure;4'-propyloxy-4-biphenylcarboxylic acid;4'-Propoxy-biphenyl-4-carbonsaeure;4-(4-n-propyloxyphenyl)-benzoic acid;4-(4-propoxyphenyl)benzoic Acid
4-丙氧基-4’-二苯甲酸化学式
CAS
59748-13-9
化学式
C16H16O3
mdl
MFCD00799359
分子量
256.301
InChiKey
ACCMUAPHRVODJN-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 稳定性/保质期:
    避免接触氧化物

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.7
  • 重原子数:
    19
  • 可旋转键数:
    5
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.187
  • 拓扑面积:
    46.5
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    3

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • Optically active compound and photosensitive resin composition
    申请人:——
    公开号:US20030211421A1
    公开(公告)日:2003-11-13
    A photoactive compound is used in combination with a photosensitizer, represented by the following formula (1): A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) wherein A represents a hydrophobic unit comprising at least one kind of hydrophobic groups selected from a hydrocarbon group and a heterocyclic group, J represents a connecting group, X-Pro represents a hydrophilic group protected by a protective group Pro which is removable by light exposure, m represents 0 or 1, and n represents an integer of not less than 1. The protective group Pro may be removable by light exposure in association with the photosensitizer (especially, a photo acid generator), or may be a hydrophobic protective group. The hydrophilic group may be a hydroxyl group or a carboxyl group. The photoactive compound has high sensitivity to a light source of short wavelength beams, for resist application, therefore, the photoactive compound is advantageously used for forming a pattern with high resolution.
    一种光活性化合物与光敏剂结合使用,由以下公式(1)表示: A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) 其中,A代表至少包括一种从烃基和杂环基中选择的疏水基的疏水单元,J代表连接基团,X-Pro代表由光照可去除的保护基团Pro保护的亲水基团,m代表0或1,n代表不少于1的整数。 保护基团Pro可以与光敏剂(特别是光酸发生剂)一起通过光照可去除,也可以是疏水保护基团。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光源具有很高的敏感性,用于光刻应用,因此,该光活性化合物有利于形成具有高分辨率的图案。
  • Echinocandine derivatives with antimicrobial activity
    申请人:Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd.
    公开号:US06331521B1
    公开(公告)日:2001-12-18
    The invention relates to new polypeptide compounds represented by the following formula [I]: wherein R1 is hydrogen, etc, R2 is hydrogen, etc, R3 is hydrogen, etc, and R4 is hydrogen, etc, or a salt thereof which have antimicrobial activities (especially, antifungal activities), inhibitory activity on &bgr;-1,3-glucan synthase, to process for preparation thereof, to a pharmaceutical composition comprising the same, and to a method for the prophylactic and/or therapeutic treatment of infectious diseases including Pneumocystis carinii infection (e.g. Pneumocystis carinii pneumonia) in a human being or an animal.
    本发明涉及新的多肽化合物,其表示为以下式子[I]:其中R1为氢等;R2为氢等;R3为氢等;R4为氢等;或其盐,具有抗微生物活性(特别是抗真菌活性),对β-1,3-葡聚糖合酶的抑制活性,及其制备方法、包含其的药物组合物,以及用于预防和/或治疗包括人类或动物的肺孢子菌感染(例如肺孢子菌性肺炎)的传染病的方法。
  • OPTICALLY ACTIVE COMPOUND AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
    申请人:Kansai Research Institute, Inc.
    公开号:EP1375463A1
    公开(公告)日:2004-01-02
    A photoactive compound is used in combination with a photosensitizer, represented by the following formula (1):         A-[(J)m-(X-Pro)]n     (1)    wherein A represents a hydrophobic unit comprising at least one kind of hydrophobic groups selected from a hydrocarbon group and a heterocyclic group, J represents a connecting group, X-Pro represents a hydrophilic group protected by a protective group Pro which is removable by light exposure, m represents 0 or 1, and n represents an integer of not less than 1. The protective group Pro may be removable by light exposure in association with the photosensitizer (especially, a photo acid generator), or may be a hydrophobic protective group. The hydrophilic group may be a hydroxyl group or a carboxyl group. The photoactive compound has high sensitivity to a light source of short wavelength beams, for resist application, therefore, the photoactive compound is advantageously used for forming a pattern with high resolution.
    光活性化合物与光敏剂结合使用,光敏剂由下式(1)表示: A-[(J)m-(X-Pro)]n (1) 其中 A 代表疏水单元,包括至少一种选自烃基和杂环基的疏水基团;J 代表连接基团;X-Pro 代表亲水基团,该亲水基团受保护基团 Pro 的保护,该保护基团可通过光照去除;m 代表 0 或 1;n 代表不小于 1 的整数。 保护基 Pro 可以通过与光敏剂(特别是光酸发生器)一起进行光照射而去除,也可以是疏水保护基。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光束的光源具有很高的灵敏度,因此在抗蚀剂应用中,光活性化合物可用于形成具有高分辨率的图案。
  • DE2535046
    申请人:——
    公开号:——
    公开(公告)日:——
  • FR2288732
    申请人:——
    公开号:——
    公开(公告)日:——
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