背景:迄今为止,已经开发了许多用于羟基官能团的保护基。醇最常被保护为醚和酯,其中烷基和苄基醚是强保护基,而其他诸如THP,TBS,TPS和M
EM / MOM醚则对酸不稳定。在所有其他羟基保护基中,甲
硅烷基醚是最常用的保护基,因为它们易于安装且有效安装,并且对各种有用的试剂和反应条件稳定。在甲
硅烷基醚中,三乙基甲
硅烷基(
TES),叔丁基二甲基甲
硅烷基(TB
DMS),
三异丙基甲
硅烷基(
TIPS)和叔丁基二苯基甲
硅烷基(T
BDPS)部分是多步有机合成中常用的羟基保护基。 方法:一种温和,有效和选择性的方法,用于脱保护高产率开发的各种甲
硅烷基醚,方法是在室温下在
甲醇中使用20 MOl%的
三氟甲磺酸锌(II)(Zn(OTf)2)作为溶剂,而不影响两者报道了对酸和碱敏感的保护基。 结果:为了研究该方法的一般性,从具有不同保护基团的多种底物制备了几种甲
硅烷基醚,并使用MeOH中的Zn(OTf)2对其进行甲
硅烷基化。