申请人:SAMSUNG SDI CO., LTD.
公开号:US10287468B2
公开(公告)日:2019-05-14
The present invention relates to a CMP slurry composition, for an organic film, for polishing an organic film and an organic film polishing method using same, the CMP slurry composition comprising: a polar solvent and/or a non-polar solvent; metal oxide abrasives; an oxidant; and a heterocyclic compound, wherein the heterocyclic compound, as a heteroatom, comprises one or two of oxygen (O) atom, sulfur (S) atom and nitrogen (N) atom and has carbon content of 50-95 atom %.
本发明涉及一种用于有机薄膜抛光的 CMP 浆料组合物以及使用该组合物的有机薄膜抛光方法,该 CMP 浆料组合物包括:极性溶剂和/或非极性溶剂;金属氧化物磨料;氧化剂;以及杂环化合物,其中杂环化合物作为杂原子,包括氧(O)原子、硫(S)原子和氮(N)原子中的一个或两个,且碳含量为 50-95 原子%。