1,4-bis(2,4-dihydroxyphenyl)butanedione | 16290-14-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1,4-bis(2,4-dihydroxyphenyl)butanedione
• 英文别名: 1,4-Bis(2,4-dihydroxyphenyl)butane-1,4-dione
• CAS: 16290-14-5
• 化学式: C₁₆H₁₄O₆
• 分子量: 302.284
• InChiKey: MAACIAXDWACWDX-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.12
• 拓扑面积：
  115
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,4-bis(2,4-dihydroxyphenyl)butanedione 在 盐酸 、 汞 、 锌 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 生成 1,4-Bis-(2,4-dihydroxyphenyl)-butan
  参考文献：
  名称：

  Chiron,R.; Graff,Y., Bulletin de la Societe Chimique de France, 1967, p. 1901 - 1904

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  β-(2-hydroxy-4-methoxybenzoyl)propionic acid methyl ester 、 间苯二酚 在 盐酸 、 三氯化铝 、 sodium chloride 作用下， 生成 1,4-bis(2,4-dihydroxyphenyl)butanedione
  参考文献：
  名称：

  来自 Gnetum ula 的 1,4-双-（2,4-二羟基苯基）丁二酮？

  摘要：

  摘要 根据目前合成的1,4-双-(2,4-二羟基苯基)丁二酮及其与从Gnetum ula中分离的非同一性，其在该植物中的存在值得怀疑。

  DOI：

  10.1016/0031-9422(91)85305-j

文献信息

• Lichtempfindliches Gemisch auf Basis von o-Naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0056092A1

  公开（公告）日：1982-07-21

  Lichtempfindliches Gemisch auf Basis von o-Naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial. Es wird ein lichtempfindliches Gemisch beschrieben, das als lichtempfindliche Verbindung einen Naphthochinondiazidsulfonsäureester der allgemeinen Formel I enthält, worin D der Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonyl- oder -4-sulfonylrest ist, R1, R2, R3 Wasserstoff- oder Halogenatome, R,', R2' und R3' Alkylgruppen mit 1-4 Kohlenstoffatomen oder Reste der Formel DO sind und n eine Zahl von 2 bis 18 bedeutet, wobei insgesamt nicht mehr als drei DO-Reste an einem Benzolring stehen. Das Gemisch wird zur Herstellung von Druckplatten und Photoresists verwendet.

  基于邻萘醌噻嗪类的感光混合物及其制备的感光复印材料 所述光敏混合物含有通式 I 的萘醌噻嗪类磺酸酯作为光敏化合物 其中 D 是萘醌-(1,2)-二叠氮-(2)-5-磺酰基或-4-磺酰基、 R1、R2、R3 为氢原子或卤素原子、 R、'、R2'和 R3'是具有 1-4 个碳原子的烷基或式 DO 的基团，以及 n 是 2 至 18 之间的数字 苯环上的 DO 自由基总数不超过三个。该混合物用于生产印版和光刻胶。
• Positive type photoresist composition
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：EP0445819A2

  公开（公告）日：1991-09-11

  A novel positive type photoresist composition is provided comprising a quinodiazide compound and an alkali-soluble resin as essential components, characterized in that there is contained at least one of compounds represented by formulae (I) to (VI): The positive type photoresist of the present invention exhibits excellent sensitivity, percent film remaining, resolution, heat resistance, resist shape and developability.

  本发明提供了一种新型正型光刻胶组合物，该组合物由一种喹吖啶化合物和一种碱溶性树脂作为基本成分组成，其特征在于其中含有至少一种由式（I）至（VI）表示的化合物： 本发明的正型光刻胶具有优异的灵敏度、残膜率、分辨率、耐热性、抗蚀剂形状和显影性。
• Cosmetic composition containing polyorganosiloxane-containing epsilon-polylysine polymer, and polyhydric alcohol, and production thereof
  申请人：Ichimaru Pharcos Co., Ltd.

  公开号：EP1604647A1

  公开（公告）日：2005-12-14

  It has been desired to develop a highly preservative and antibacterial cosmetic composition that can easily be applied to both emulsion and non-emulsion type cosmetics. It has also been desired to develop a method of improving a preservative and/or antibacterial effect(s) of a cosmetic composition comprising polyorganosiloxane-containing epsilon-polylysine and thereby reducing the amount of antibacterial preservative agent to be used. There is provided a cosmetic composition comprising one or a combination of two or more of polyorganosiloxane-containing epsilon-polylysine compounds obtained by reacting epsilon-polylysine with polyorganosiloxane or a physiologically acceptable salt thereof, and polyhydric alcohol.

  人们一直希望开发一种高防腐性和抗菌性的化妆品组合物，这种组合物既可用于乳液型化妆品，也可用于非乳液型化妆品。此外，还希望开发一种方法，以改善含有聚有机硅氧烷的ε-聚赖氨酸的化妆品组合物的防腐和/或抗菌效果，从而减少抗菌防腐剂的用量。 本发明提供了一种化妆品组合物，该组合物包含一种或两种以上的含聚有机硅氧烷的ε-聚赖氨酸化合物的组合，这些ε-聚赖氨酸化合物是通过ε-聚赖氨酸与聚有机硅氧烷或其生理上可接受的盐以及多元醇反应而得到的。
• Khan; Khan; Javed, Indian Journal of Chemistry - Section B Organic and Medicinal Chemistry, 1990, vol. 29, # 12, p. 1101 - 1106
  作者：Khan、Khan、Javed

  DOI：——

  日期：——
• Rao et al., Proceedings - Indian Academy of Sciences, Section A, 1947, # 26, p. 299,308
  作者：Rao et al.

  DOI：——

  日期：——