{2,4,6-tris[bis(trimethylsilyl)methyl]phenyl}silane | 162608-99-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: {2,4,6-tris[bis(trimethylsilyl)methyl]phenyl}silane
• 英文别名: [[3,5-Bis[bis(trimethylsilyl)methyl]-2-silylphenyl]-trimethylsilylmethyl]-trimethylsilane；[[3,5-bis[bis(trimethylsilyl)methyl]-2-silylphenyl]-trimethylsilylmethyl]-trimethylsilane
• CAS: 162608-99-3
• 化学式: C₂₇H₆₂Si₇
• 分子量: 583.388
• InChiKey: UZQISJZAKMJYCF-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  490.7±45.0 °C(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  8.19
• 重原子数：
  34
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.78
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  {2,4,6-tris[bis(trimethylsilyl)methyl]phenyl}silane 在 N-溴代丁二酰亚胺(NBS) 、 叔丁基锂 、 lithium diisopropyl amide 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙醚 、 正庚烷 、 乙基苯 、 正戊烷 、 苯 为溶剂， 反应 15.5h， 生成 1-{2,4,6-tris[bis(trimethylsilyl)methyl]phenyl}-1-silanaphthalene
  参考文献：
  名称：

  动力学稳定的1-硅烷萘的合成及其性能

  摘要：

  第一个带有 2,4,6-tris[bis(trimethylsilyl)methyl] 苯基 (Tbt) 或 2,6-bis[bis(trimethylsilyl)methyl]-4-[tris(trimethylsilyl)] 的动力学稳定的 1-硅烷萘甲基]苯基(B...

  DOI：

  10.1246/bcsj.78.977
• 作为产物：
  描述：

  1-bromo-2,4,6-tris[bis(trimethylsilyl)methyl]benzene 在 四氯化硅 、 叔丁基锂 作用下， 生成 {2,4,6-tris[bis(trimethylsilyl)methyl]phenyl}silane
  参考文献：
  名称：

  Tokitoh, Norihiro; Takahashi, Masaki; Matsumoto, Tsuyoshi, Phosphorus, Sulfur and Silicon and the Related Elements, 1991, vol. 59, # 1-4, p. 161 - 164

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Synthesis, Structure, and Reactivity of the First Kinetically Stabilized Silanethione
  作者：Hiroyuki Suzuki、Norihiro Tokitoh、Renji Okazaki、Shigeru Nagase、Midori Goto

  DOI：10.1021/ja980783c

  日期：1998.11.1

  addition of sulfur. The molecular structure of 2a was determined by X-ray crystallographic analysis. Desulfurization of 2a at −78 °C afforded a silicon−sulfur double bond compound (silanethione 7a). Although the formation of 7a was confirmed by various trapping reactions, 7a dimerized at room temperature to give 1,3,2,4-dithiadisiletane 8, whose molecular structure was determined by X-ray crystallographic

  二芳基四硫杂环戊烷 2a,b 带有庞大的芳基，如 2,4,6-三[双（三甲基甲硅烷基）甲基]苯基（Tbt）、三甲苯基（Mes）和 2,4,6-三异丙基苯基（Tip），通过以下方法获得二氢硅烷 3a 与元素硫的热反应，高位阻二硅烷 4 与硫的反应，或二溴硅烷 6 的还原然后加入硫。2a 的分子结构是通过 X 射线晶体学分析确定的。2a 在 -78 °C 下脱硫得到硅硫双键化合物（硅烷硫酮 7a）。尽管通过各种捕获反应证实了 7a 的形成，但 7a 在室温下二聚得到 1,3,2,4-二硫代二硅烷 8，其分子结构由 X 射线晶体学分析确定。2b 的脱硫得到第一个稳定的硅烷硫酮，Tbt(Tip)SiS (7b)，为黄色晶体，其在惰性气体下热稳定直至其熔点 (185-189 °C)，并在 396 nm 处显示 λmax (n→π*)，在 724 cm-1 处显示 νSiS (拉曼)。化学换...
• An Unexpected Elimination of Cyclopentadienide Anion in the Reaction of Silacyclohexadienes with a Bulky Aryllithium
  作者：Keiji Wakita、Norihiro Tokitoh、Renji Okazaki

  DOI：10.1246/cl.1998.687

  日期：1998.7

  The reaction of silacyclohexadienes with an extremely hindered aryllithium, TbtLi (Tbt = 2,4,6-tris[bis(trimethylsilyl)methyl]phenyl), gave no expected Tbt-subsituted silacyclohexadienes but trihydrosilane, TbtSiH3, via the elimination of cyclopentadienide anion. By contrast, 1,1-difluoro-1-silacyclohexa-2,4-diene underwent a normal substitution though the yield was very low.

  硅杂环己二烯与受阻极强的芳基锂 TbtLi（Tbt = 2,4,6-三[双（三甲基甲硅烷基）甲基]苯基）的反应没有产生预期的 Tbt 取代的硅杂环己二烯，而是通过消除环戊二烯阴离子得到三氢硅烷 TbtSiH3。相比之下，1,1-二氟-1-硅杂环六-2,4-二烯虽然产率非常低，但进行了正常的取代。
• Reaction of Stable Silylene–Isocyanide Complexes with Boranes: Synthesis and Properties of the First Stable Silylborane–Isocyanide Complexes
  作者：Nobuhiro Takeda、Takashi Kajiwara、Norihiro Tokitoh

  DOI：10.1246/cl.2001.1076

  日期：2001.11

  Stable silylene–isocyanide complexes [Tbt(Mes)SiCNAr (Ar = Tbt, Mes*; Tbt = 2,4,6-tris[bis(trimethylsilyl)methyl]phenyl; Mes = mesityl; Mes* = 2,4,6-tri-t-butylphenyl)] reacted with BH3·THF to give the first stable silylborane–isocyanide complexes [Tbt(Mes)SiHBH2CNAr]. The thermal equilibrium between Tbt(Mes)SiHBH2CNAr and TbtSiH2BH(Mes)CNAr was observed.

  稳定的亚硅烷-异氰化物配合物 [Tbt(Mes)SiCNAr (Ar = Tbt, Mes*; Tbt = 2,4,6-tris[bis(trimethylsilyl)methyl]phenyl; Mes = mesityl; Mes* = 2,4,6-三叔丁基苯基）]与 BH3·THF 反应得到第一个稳定的甲硅烷基硼烷 - 异氰化物配合物 [Tbt(Mes)SiHBH2CNAr]。观察到 Tbt(Mes)SiHBH2CNAr 和 TbtSiH2BH(Mes)CNAr 之间的热平衡。
• Synthesis and Properties of an Overcrowded Silabenzene Stable at Ambient Temperature
  作者：Keiji Wakita、Norihiro Tokitoh、Renji Okazaki、Shigeru Nagase

  DOI：10.1002/(sici)1521-3773(20000204)39:3<634::aid-anie634>3.0.co;2-#

  日期：2000.2.4
• TOKITOH, NORIHIRO;TAKAHASHI, MASAKI;MATSUMOTO, TSUYOSHI;SUZUKI, HIROYIKI;+, PHOSPH., SULFUR AND SILICON AND RELAT. ELEM., 58-59,(1991) N-4, C. 161-16+
  作者：TOKITOH, NORIHIRO、TAKAHASHI, MASAKI、MATSUMOTO, TSUYOSHI、SUZUKI, HIROYIKI、+

  DOI：——

  日期：——