4-sec-Butyl-2-methyl-phenol | 42413-56-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-sec-Butyl-2-methyl-phenol
• 英文别名: 6-Oxy-1-methyl-3-sek.-butyl-benzol；2-Methyl-4-sek.-butyl-phenol；4-sek.-Butyl-o-kresol；2-Methyl-4-<1-methyl-propyl>-phenol；2-Methyl-4-sec.-butyl-phenol；4-sec.-Butyl-2-methyl-phenol；2-Methyl-4-(1-methylpropyl)phenol；4-butan-2-yl-2-methylphenol
• CAS: 42413-56-9
• 化学式: C₁₁H₁₆O
• 分子量: 164.247
• InChiKey: FQHKOGUQBQFHAI-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  238 °C
• 密度：
  0.9743 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.6
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.45
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-sec-Butyl-2-methyl-phenol 在 palladium on activated charcoal 氢气 、 potassium carbonate 、 N,N-二乙基苯胺 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 生成 2,4-Di-sec.-butyl-6-methyl-phenol
  参考文献：
  名称：

  200.酸催化的烷基芳基醚的重排。第四部分。氯化铝对甲苯基醚的重排

  摘要：

  DOI：

  10.1039/jr9600000959
• 作为产物：
  描述：

  2-Methyl-4-sek.-butyl-anisol 在 氢碘酸 、 乙酸酐 作用下， 生成 4-sec-Butyl-2-methyl-phenol
  参考文献：
  名称：

  200.酸催化的烷基芳基醚的重排。第四部分。氯化铝对甲苯基醚的重排

  摘要：

  DOI：

  10.1039/jr9600000959

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, MONOMER, POLYMER, AND PRODUCTION METHOD OF RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：MARUYAMA Ken

  公开号：US20120237876A1

  公开（公告）日：2012-09-20

  A radiation-sensitive resin composition includes a solvent and a polymer. The polymer includes a repeating unit represented by a formula (I), a repeating unit represented by a formula (II), or a both thereof. Each of R 1 to R 3 independently represents a hydroxyl group, or the like. At least one of R 1 represents a group having two or more heteroatoms. l is an integer from 1 to 5. Each of m and n is independently an integer from 0 to 5. Each of R 7 and R 11 independently represents a hydrogen atom, or the like. Each of R 8 to R 10 independently represents a hydrogen atom, or the like. A represents —O—, or the like. D represents a substituted or unsubstituted methylene group, or the like.

  一种辐射敏感树脂组合物包括溶剂和聚合物。该聚合物包括由式(I)表示的重复单元，由式(II)表示的重复单元，或两者兼有。R1至R3中的每一个独立地表示一个羟基或类似物。其中至少一个R1表示具有两个或更多杂原子的基团。l是从1到5的整数。m和n中的每一个独立地是从0到5的整数。R7和R11中的每一个独立地表示氢原子或类似物。R8到R10中的每一个独立地表示氢原子或类似物。A表示—O—或类似物。D表示取代或未取代的亚甲基基团或类似物。
• [EN] SUBSTITUTED ACYL SULFONAMIDES FOR TREATING CANCER<br/>[FR] ACYLSULFONAMIDES SUBSTITUÉS POUR LE TRAITEMENT DU CANCER
  申请人：BROAD INST INC

  公开号：WO2022081807A1

  公开（公告）日：2022-04-21

  The present invention provides acyl sulfonamide compounds of general formula (I): in which R1, R2, R3, R4, R5, R6· Raand Rbare as described and defined herein, methods of preparing said compounds, intermediate compounds useful for preparing said compounds, pharmaceutical compositions and combinations comprising said compounds, and the use of said compounds for manufacturing pharmaceutical compositions for the treatment or prophylaxis of diseases, in particular of hyperproliferative disorders, as a sole agent or in combination with other active ingredients as well as methods of treatment and/or prophylaxis of diseases, particularly cancer, more particularly cancer in which KAT6A and/or KAT6B is focally amplified, said method comprising administering an effective amount of at least one compound of formula (I) to a subject in need thereof.

  本发明提供了通式（I）的酰基磺酰胺化合物：其中，R1、R2、R3、R4、R5、R6·Ra和Rb如本文所述和定义，以及制备该化合物的方法，用于制备该化合物的中间体化合物，包含该化合物的药物组合物和组合物，以及使用该化合物制造用于治疗或预防疾病的药物组合物，特别是治疗过度增生性疾病的药物组合物，作为唯一的活性成分或与其他活性成分组合使用，以及治疗和/或预防疾病的方法，特别是癌症，更特别是KAT6A和/或KAT6B局部扩增的癌症，其中该方法包括向需要该方法的受体中施用至少一种通式（I）的有效量化合物。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, MASK BLANK PROVIDED WITH ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE, AND COMPOUND
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20160280675A1

  公开（公告）日：2016-09-29

  The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a crosslinking agent having a polarity converting group and an alkali-soluble resin, in which the polarity converting group is a group capable of decomposing by the action of an alkaline aqueous solution to generate a carboxylic acid or sulfonic acid on the side having a crosslinking group.

  感光树脂或辐射敏感树脂组合物包括具有极性转换基团和可溶于碱性树脂的交联剂，其中极性转换基团是一种能够通过碱性水溶液作用分解并在具有交联基团的侧面生成羧酸或磺酸的基团。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：HIRANO Shuji

  公开号：US20080248419A1

  公开（公告）日：2008-10-09

  A positive resist composition, includes: (A) a resin that has a group having absorption at 248 nm at a main chain terminal of the resin (A), and a pattern forming method uses the composition.

  一种正性光刻胶组合物，包括：（A）一种具有在树脂（A）的主链端具有在248nm处吸收的基团的树脂，并且使用该组合物进行图案形成的方法。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
  申请人：Inasaki Takeshi

  公开号：US20120301817A1

  公开（公告）日：2012-11-29

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having a repeating unit represented by the following formula (1), a resist film using the composition, and a pattern forming method.

  一种感光树脂组合物，其包括（P）一种具有以下式（1）所表示的重复单元的树脂，使用该组合物的光阻膜以及一种图案形成方法。