2-pentyl 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl ether | 91787-13-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 2-pentyl 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl ether
• 英文别名: 2-(1,1,1,3,3,3-Hexafluoropropan-2-yloxy)pentane
• CAS: 91787-13-2
• 化学式: C₈H₁₂F₆O
• 分子量: 238.173
• InChiKey: GSMKGSFBKQOKRO-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  139.8±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.187±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-溴戊烷 、 六氟异丙醇 在 sodium 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 反应 20.0h， 以20%的产率得到2-pentyl 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl ether
  参考文献：
  名称：

  Katritzky, Alan R.; Lopez-Rodriguez, Maria L.; Marquet, Jorge, Journal of the Chemical Society. Perkin transactions II, 1984, # 3, p. 349 - 354

  摘要：

  DOI：

文献信息

• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20150086912A1

  公开（公告）日：2015-03-26

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having a repeating unit (A) represented by the specific formula (I) capable of generating an acid on the side chain of the resin upon irradiation with an actinic ray or radiation, and a resist film formed with the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method comprising: exposing the resist film, and developing the exposed resist film, and a method for manufacturing a semiconductor device, containing the pattern forming method, and a semiconductor device manufactured by the manufacturing method of the semiconductor device.