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methyl 2-acetoxy 4-methyl pentanoate

中文名称
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中文别名
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英文名称
methyl 2-acetoxy 4-methyl pentanoate
英文别名
Methyl 2-acetyloxy-4-methylpentanoate
methyl 2-acetoxy 4-methyl pentanoate化学式
CAS
——
化学式
C9H16O4
mdl
——
分子量
188.224
InChiKey
NVOJXKTYTSSIFJ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.8
  • 重原子数:
    13
  • 可旋转键数:
    6
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.78
  • 拓扑面积:
    52.6
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    methyl 2-acetoxy 4-methyl pentanoate 在 C24H32FeN6(2+)*2F6Sb(1-)双氧水溶剂黄146 作用下, 以 乙腈 为溶剂, 反应 16.2h, 生成 [(3S)-5,5-dimethyl-2-oxooxolan-3-yl] acetate 、 (R)-5,5-dimethyl-2-oxotetrahydrofuran-3-yl acetate
    参考文献:
    名称:
    Directed Metal (Oxo) Aliphatic C–H Hydroxylations: Overriding Substrate Bias
    摘要:
    The first general strategy for a directing effect on metal (oxo)-promoted C-H hydroxylations is described. Carboxylic acid moieties on the substrate overcome unfavorable electronic, steric, and stereoelectronic biases in C-H hydroxylations catalyzed by the non-heme iron complex Fe(PDP). In a demonstration of the power of this directing effect, C-H oxidation is diverted away from an electronically favored C-1 H abstraction/rearrangement pathway in the paclitaxel framework to enable installation of C-2 oxidation in the naturally occurring oxidation state and stereoconfiguration.
    DOI:
    10.1021/ja301685r
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    Kodama, vol. 41, p. 970
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • Pattern forming method, composition kit and resist film, manufacturing method of electronic device using these, and electronic device
    申请人:FUJIFILM Corporation
    公开号:US10031419B2
    公开(公告)日:2018-07-24
    There is provided a pattern forming method comprising (i) forming a film on a substrate using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which contains (A) a resin which decomposes due to an action of an acid to change its solubility with respect to a developer and (C) a specific resin, (ii) forming a top coat layer using a top coat composition which contains a resin (T) on the film, (iii) exposing the film which has the top coat layer to actinic rays or radiation, and (iv) forming a pattern by developing the film which has the top coat layer after the exposing.
    本发明提供了一种图案形成方法,包括(i)使用感光树脂组合物或辐射敏感树脂组合物在基底上形成胶片,该组合物包含(A)由于酸的作用而分解,从而改变其相对于显影剂的溶解度的树脂和(C)特定树脂、(ii) 使用含有树脂 (T) 的表层组合物在胶片上形成表层,(iii) 将具有表层的胶片暴露于放 射线或辐射,(iv) 在暴露后对具有表层的胶片进行显影,形成图案。
  • Conversion of Esters to 2-Acetoxy Esters via 2-Nosyloxy Esters
    作者:Robert V. Hoffman、Deborah Stoll
    DOI:10.1080/00397919108020815
    日期:1991.1
    Reaction of 2-nosyloxy esters, available in high yields from the reaction of trimethylsilyl ketene acetals with p-((nitrobenzene)sulfonyl) peroxide, with sodium acetate in DMF produces 2-acetoxy ester in good yields.
  • Kodama, vol. 41, p. 970
    作者:Kodama
    DOI:——
    日期:——
  • Kodama, Journal of Biochemistry, vol. 1, p. 215
    作者:Kodama
    DOI:——
    日期:——
  • HOFFMAN, ROBERT V.;STOLL, DEBORAH, SYNTH. COMMUN., 21,(1991) N, C. 223-227
    作者:HOFFMAN, ROBERT V.、STOLL, DEBORAH
    DOI:——
    日期:——
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