2,2-bis[{(4-methoxybenzyl)oxy}methyl]propane-1,3-diol | 256341-02-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,2-bis[{(4-methoxybenzyl)oxy}methyl]propane-1,3-diol
• 英文别名: 2,2-Bis[(4-methoxyphenyl)methoxymethyl]propane-1,3-diol
• CAS: 256341-02-3
• 化学式: C₂₁H₂₈O₆
• 分子量: 376.45
• InChiKey: SVNKTVRGOOASQD-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  553.6±50.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.171±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  27
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.43
• 拓扑面积：
  77.4
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,2-bis[{(4-methoxybenzyl)oxy}methyl]propane-1,3-diol 在 palladium on activated charcoal 4-二甲氨基吡啶 、 氢气 、 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 、 乙酸乙酯 为溶剂， 反应 28.0h， 生成 2,2-二(羟基甲基)丙烷-1,3-二基二肉豆蔻酸酯
  参考文献：
  名称：

  A versatile synthesis of tetraester polyamine lipids for gene transfection

  摘要：

  The preparation of polyamine lipids via Michael addition of diamines to tetraester bisacrylates is described. A new pentaerythritol protection strategy enabled the synthesis of a bis(p-methoxybenzyl)diether diol which was used to prepare the saturated and unsaturated diester cores. (C) 1999 Elsevier Science Ltd. All rights reserved.

  DOI：

  10.1016/s0040-4039(99)01934-6
• 作为产物：
  描述：

  4-甲氧基苯甲醛 在 二异丁基氢化铝 、 对甲苯磺酸 作用下， 生成 2,2-bis[{(4-methoxybenzyl)oxy}methyl]propane-1,3-diol
  参考文献：
  名称：

  不含酯的碳酸三亚甲基酯衍生物的合成新方法

  摘要：

  不含酯的聚碳酸三亚甲基酯（PTMC）衍生物具有生物相容性和生物降解性，分解后不会产生任何酸性化合物。然而，它们的合成方法受到限制，从而妨碍了它们的材料应用。在这里，我们建立了无酯碳酸三亚甲基酯（TMC）衍生物的新型合成路线。描述了使用六种醛和一种酮作为起始化合物的新型合成途径。关键反应是通过氢化二异丁基铝使环状缩醛结构中的两个受保护的羟基选择性脱保护。这种新颖的合成途径意味着可以将TMC侧链中的醛基转化为醚基。通常，仅将衍生自伯醇的取代基引入侧链。因此，与常规方法相比，我们成功地将反应步骤的数量从五个减少到三个。此外，新型合成路线的发展使得能够引入衍生自仲醇的取代基，从而有望产生更多类型的无酯的TMC衍生物。

  DOI：

  10.1016/j.tetlet.2018.12.002

文献信息

• Molecular Resists Based On Functionalized Polycarbocycles
  申请人：Argitis Panagiotis

  公开号：US20090220887A1

  公开（公告）日：2009-09-03

  The present invention refers to new organic molecules, derived from the class of polycarbocycle derivatives, and their application as components of photoresists, and in particular as components of photoresist compositions where no polymer is comprised as one of the photoresists components. In these photoresist formulations the new molecule(s) is/are the main component(s) (i.e. percentage higher than 50% w/w).
• US8247158B2
  申请人：——

  公开号：US8247158B2

  公开（公告）日：2012-08-21