[4-(羟甲基)-2,5-二甲基苯基]甲醇 | 22530-09-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: [4-(羟甲基)-2,5-二甲基苯基]甲醇
• 英文名称: 1,4-bis(hydroxymethyl)-2,5-dimethylbenzene
• 英文别名: 1,4-bis-hydroxymethyl-2,5-dimethyl-benzene；1,4-Bis-hydroxymethyl-2,5-dimethyl-benzol；1,4-Dihydroxymethyl-2,5-dimethylbenzol；2,5-Dimethylol-p-xylol；1,4-Benzenedimethanol, 2,5-dimethyl-；[4-(hydroxymethyl)-2,5-dimethylphenyl]methanol
• CAS: 22530-09-2
• 化学式: C₁₀H₁₄O₂
• mdl: MFCD00720263
• 分子量: 166.22
• InChiKey: VNMZUQPYTXUYJM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  156-157 °C
• 沸点：
  327.0±37.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1?+-.0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.9
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  [4-(羟甲基)-2,5-二甲基苯基]甲醇 在 氢溴酸 、 乙酸酐 作用下， 生成 1,4-双(溴甲基)-2,5-二甲苯
  参考文献：
  名称：

  抑制HIV复制的亚苯基双（亚甲基）连接的双-四氮杂大环的合成与构效关系。大环尺寸和取代基对芳族连接基的影响。

  摘要：

  先前我们已经描述了JM2763（一种1,4,8,11的正丙基连接的二聚体）对几种类型的1型人类免疫缺陷病毒（HIV-1）和2型（HIV-2）病毒的有效和选择性抑制。 -四氮杂大环（cyclam）环系统。在进一步研究中，我们还发现掺入芳香族而不是脂肪族的连接基会导致类似物具有更高的抗病毒效力。原型，JM3100（19a，以八盐酸盐的形式分离），其中包含连接环基环的对亚苯基双（亚甲基）部分，可抑制HIV-1（IIIB）和HIV-2（ROD）在EC50为4.2时的复制。分别为5.9 nM和5.9 nM，而在超过421 microM的浓度下仍对MT-4细胞无毒。为了确定有效活动所需的双四氮杂大环化合物的结构特征，我们制备了一系列新的亚苯基双（亚甲基）连接的类似物，其中大环的环大小从12至16个环成员变化。取决于亚苯基双（亚甲基）连接基（对位或间位）的取代，亚微摩尔抗HIV活性由带有12-14个环成

  DOI：

  10.1021/jm00002a019
• 作为产物：
  描述：

  1,4-bis-acetoxymethyl-2,5-dimethyl-benzene 在 alkaline solution 作用下， 生成 [4-(羟甲基)-2,5-二甲基苯基]甲醇
  参考文献：
  名称：

  v. Braun; Nelles, Chemische Berichte, 1934, vol. 67, p. 1094,1096

  摘要：

  DOI：
• 作为试剂：
  描述：

  2,5-双(氯甲基)-对-二甲苯 、 水 、 potassium carbonate 在 1,4-二氧六环 、 [4-(羟甲基)-2,5-二甲基苯基]甲醇 、 crude product 、 甲醇 作用下， 以 1,4-二氧六环 为溶剂， 反应 3.0h， 以to isolate crude 2,5dimethyl benzene 1,4dimethanol的产率得到[4-(羟甲基)-2,5-二甲基苯基]甲醇
  参考文献：
  名称：

  POLYESTER COMPOSITIONS HAVING IMPROVED HEAT RESISTANCE

  摘要：

  一种物质组合物，包括由以下衍生的聚酯组合物：(i) 20至80摩尔％的第一二元醇，该二元醇是由式(I)的二取代二甲苯乙二醇衍生而来，其中R1和R2分别选自包括脂肪基，芳香基，环脂基，卤素的基团；(ii)第二二元醇和(iii)二酸。还公开了这些聚酯与聚碳酸酯的混合物，以及制备这些组合物和制品的方法。

  公开号：

  US20080242783A1

文献信息

• SILICON-CONTAINING COMPOUND, URETHANE RESIN, STRETCHABLE FILM, AND METHOD FOR FORMING THE SAME
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20190106528A1

  公开（公告）日：2019-04-11

  The present invention provides a silicon-containing compound shown by the following formula ( 1 ): wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 each independently represent a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, a 3,3,3-trifluoropropyl group, or a group shown by —(OSiR 7 R 8 ) n —OSiR 9 R 10 R 11 ; R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , and R 11 have the same meanings as R 1 to R 6 ; X represents a linear or branched alkylene group having 3 to 7 carbon atoms optionally having an ether group; and “n” is an integer in the range of 0 to 100. This provides a stretchable film that hats excellent stretchability and strength, with the film surface having excellent repellency, and a method for forming the same; as well as a urethane resin used for the stretchable film; and a silicon-containing compound to be a material of the urethane resin.

  本发明提供了一种含硅化合物，其化学式如下（1）所示：其中R1、R2、R3、R4、R5和R6分别独立地表示具有1至6个碳原子的直链、支链或环烷基基团，苯基，3,3,3-三氟丙基基团，或者由—(OSiR7R8)n—OSiR9R10R11所示的基团；R7、R8、R9、R10和R11具有与R1至R6相同的含义；X表示具有3至7个碳原子的直链或支链烷基基团，可选地具有醚基；“n”是0至100范围内的整数。这提供了一种具有优异的延展性和强度的可拉伸薄膜，薄膜表面具有优异的防水性，以及形成该薄膜的方法；以及用于可拉伸薄膜的聚氨酯树脂；以及用于聚氨酯树脂的硅含量化合物。
• Fluorinated Dicarboxylic Acid Derivative and Polymer Obtained Therefrom
  申请人：Isono Yoshimi

  公开号：US20110301305A1

  公开（公告）日：2011-12-08

  According to the present invention, a polymer is obtained by polycondensation of a fluorinated dicarboxylic acid derivative of the general formula (M-1) or an acid anhydride of the fluorinated dicarboxylic acid with a polyfunctional compound having two to four reactive groups corresponding in reactivity to carbonyl moieties of the fluorinated dicarboxylic acid derivative or acid anhydride. [Chem. 134] AOCF 2 C-Q-CF 2 COA′  (M-1) In the above formula, Q represents a divalent organic group having a substituted or unsubstituted aromatic ring; and A and A′ each independently represent an organic group. This polymer exhibits a sufficiently low dielectric constant for use as a semiconductor protection film and has the capability of forming a film at a relatively low temperature of 250° C. or lower.

  根据本发明，通过将通式(M-1)的含氟二羧酸衍生物或含氟二羧酸酸酐与具有与含氟二羧酸衍生物或酸酐的羰基部分相对应的两到四个反应性基团的多官能化合物进行聚合缩合反应，可以得到一种聚合物。[Chem. 134]AOCF2C-Q-CF2COA′  (M-1)在上述公式中，Q代表具有取代或未取代芳香环的二价有机基团; A和A'各自独立地表示有机基团。该聚合物表现出足够低的介电常数，可用作半导体保护膜，并具有在相对较低的温度下（250℃或更低）形成膜的能力。
• Aromatic amine resins, their production process and thermosetting resin compositions making use of the same
  申请人：MITSUI TOATSU CHEMICALS, Inc.

  公开号：EP0311387A2

  公开（公告）日：1989-04-12

  Disclosed herein is an aromatic amine resin formed of a mixture of aromatic amine compounds represented by the following general formula (a): wherein A means a phenylene, alkyl-substituted phenylene, diphenylene, diphenyl ether or naphthylenyl group, R¹ denotes a halogen atom or a hydroxyl, C1-4 alkoxy or C1-5 alkyl group, ℓ stands for 1 or 2, m is an integer of 0-3, when m is 2 or 3, R¹s may be the same or different and two of R¹s may join together into a 5- to 6-membered alicyclic moiety which may optionally contain one or more side chains, and n stands for an integer of 0-300.

  本发明公开了一种芳香胺树脂，该树脂由以下通式(a)代表的芳香胺化合物混合物形成： 其中 A 表示亚苯基、烷基取代亚苯基、二苯基、二苯醚或萘基，R¹ 表示卤素原子或羟基、C1-4 烷氧基或 C1-5 烷基，ℓ 表示 1 或 2，m 为 0-3 的整数、当 m 为 2 或 3 时，R¹ 可相同或不同，两个 R¹ 可连接成 5 至 6 元脂环分子，该分子可选择包含一条或多条侧链，n 代表 0 至 300 的整数。
• Neue, strahlungsempfindliche Verbindungen, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches Gemisch und Aufzeichnungsmaterial
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0369219A1

  公开（公告）日：1990-05-23

  Die Erfindung betrifft neue strahlungsempfindliche Verbindungen, die Ester oder Amide einer 1,2-Naphthochinon-(2)-diazid-4-sulfonsäure der allgemeinen Formel darstellen, worin R1 und R2 gleich oder verschieden sind und Wasserstoff, eine Alkyl-, Alkylether- oder Alkylthioethergruppe, deren Kohlenstoffketten durch Ethersauerstoffatome unterbrochen sein können, eine Acylamino-, Carbonsäureester-, Sulfonsäureester- oder Sulfonamidgruppe bedeuten, wobei R1 und R2 nicht gleichzeitig Wasserstoff sind. Die Verbindungen werden als strahlungsempfindliche Komponente in strahlungsempfindlichen Gemischen verwendet, mit denen entsprechende Aufzeichnungsmaterialien hergestellt werden können. Die Verbindungen haben eine nach längeren Wellenlängen gerichtete Absorption in Anpassung an den Emissionsbereich handelsüblicher Strahlungsquellen. Sie gestatten auch in sicherer und praktischer Weise die Durchführung von negativ arbeitenden Bildumkehrprozessen.

  本发明涉及新型辐射敏感化合物，它们是通式为 1,2-萘醌-(2)-二叠氮-4-磺酸的酯或酰胺。 其中 R1和R2相同或不同，并且是氢、烷基、烷基醚或烷基硫醚基团（其碳链可被醚氧原子打断）、酰氨基、羧酸酯、磺酸酯或磺酰胺基团，其中 R1 和 R2 不同时为氢。 这些化合物可用作辐射敏感混合物中的辐射敏感成分，用它们可以生产出相应的记录材料。这些化合物的吸收波长较长，与市售辐射源的发射范围相适应。它们还能以安全实用的方式实现负像反转过程。
• SILICON-CONTAINING COMPOUND, URETHANE RESIN, STRETCHABLE FILM AND METHOD FOR FORMING THE SAME
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3530682A1

  公开（公告）日：2019-08-28

  This is to provide a stretchable film having excellent stretchability and strength and excellent water repellency on the surface of the film, a method for forming the same, a urethane resin used for the stretchable film and a silicon-containing compound as a material of the urethane resin. A silicon-containing compound represented by the following general formula (1), wherein, R1, R2, R3, R4, R5, and R6 each represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, a 3,3,3-trifluoropropyl group or a group represented by -(OSiR7R8)n-OSiR9R10R11; R7, R8, R9, R10 and R11 are the same as those of R1 to R6; "n" is an integer in the range of 0 to 100; A represents a linear or branched alkylene group having 3 to 6 carbon atoms; and "m" is an integer in the range of 1 to 3.

  本发明旨在提供一种拉伸性和强度优异且薄膜表面防水性优异的拉伸薄膜、形成该薄膜的方法、用于该拉伸薄膜的聚氨酯树脂以及作为聚氨酯树脂材料的含硅化合物。由以下通式（1）表示的含硅化合物、 其中，R1、R2、R3、R4、R5 和 R6 分别代表具有 1 至 6 个碳原子的直链、支链或环状烷基、苯基、3,3,3-三氟丙基或由-(OSiR7R8)n-OSiR9R10R11 所代表的基团；R7、R8、R9、R10 和 R11 与 R1 至 R6 相同；"n "是 0 至 100 范围内的整数；A 代表具有 3 至 6 个碳原子的直链或支链亚烷基；以及 "m "是 1 至 3 范围内的整数。