二叔丁氧基二乙酰氧基硅烷 | 13170-23-5

• 物质功能分类: 化学试剂 - 硅烷试剂
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 二叔丁氧基二乙酰氧基硅烷
• 中文别名: 二叔丁氧二乙酰氧基硅
• 英文名称: diacetoxydi-tert-butoxysilane
• 英文别名: di-t-butoxydiacetoxysilane；(Oac)2Si(Ot-bu)2；Diacetoxy-di-tert-butoxy-silan；di-tert-butoxydiacetoxysilane；[acetyloxy-bis[(2-methylpropan-2-yl)oxy]silyl] acetate
• CAS: 13170-23-5
• 化学式: C₁₂H₂₄O₆Si
• 分子量: 292.404
• InChiKey: OPARTXXEFXPWJL-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  -4°C
• 沸点：
  102°C 5mm
• 密度：
  1.02
• 闪点：
  95°C
• LogP：
  -0.2-1.41 at 20℃
• 物理描述：
  Liquid

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.18
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  71.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

ADMET

毒理性

• 副作用

Dermatotoxin - 皮肤烧伤。

Dermatotoxin - Skin burns.

来源:Haz-Map, Information on Hazardous Chemicals and Occupational Diseases

安全信息

• TSCA：
  Yes
• 危险等级：
  8
• 危险品标志：
  C
• 安全说明：
  S26,S28,S36/37/39,S45
• 危险类别码：
  R34
• 危险品运输编号：
  UN 1760
• 包装等级：
  II
• 危险类别：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  二叔丁氧基二乙酰氧基硅烷 在 ammonium hydroxide 作用下， 以 四氢呋喃 、 水 为溶剂， 反应 76.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  基于双官能硅烷醇的HBD催化剂，用于将CO 2固定为环状碳酸酯†

  摘要：

  前所未有的硅烷醇系的双官能HBD催化剂的第一实施例[（吨迪布奥）2 {（N（CH 2 CH 2）3 N）CH 2 CH 2 ö}的Si（OH）] +我-和（外消旋） -和（- [R） - [（吨迪布奥）2 {（N（CH 2 CH 2）3 N）CH 2（ET）CHO）}的Si（OH）] +我-由特制的硅烷醇制备直接结合到其结构中的四烷基铵单元。这些双官能硅烷醇与其他通式（t BuO）2（RO）SiOH（R ​​= Me，Et，i Pr，–CH 2 CH 2 I和–CH（Et）CH 2 I）的混合烷氧基硅烷醇一起使用。使用环氧化物和工业级二氧化碳的库，系统地研究了其对制备环状碳酸酯的催化性能。在没有溶剂和外部亲核试剂的情况下，催化剂负载量为4 mol％，双功能催化剂在70°C和75 psi CO 2下的10 h内显示出环氧化物良好至非常好的转化为相应的环状碳酸酯。此外，用于通过水解相应的乙酰氧基甲硅烷基醇盐（t

  DOI：

  10.1039/c9nj04840e
• 作为产物：
  描述：

  二-叔-丁氧基二氯硅烷 在 NaCH₃COO 、 pyridine 作用下， 以76%的产率得到二叔丁氧基二乙酰氧基硅烷
  参考文献：
  名称：

  Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 125, page 348 - 350

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Pulsed ultraviolet laser deposition of SiO₂ films at 248 nm
  作者：Paul B. Comita、Janos Farkas、B. Yang、Y. H. Chuang、J. O’Connor、K. C. Liu、M. G. Cohen

  DOI：10.1063/1.113655

  日期：1995.3.20

  Photochemical laser‐induced deposition of silicon dioxide thin films is reported with excimer laser radiation at 248 nm. A deposition rate of 0.25 A/pulse was obtained at room temperature. The deposited films were characterized by scanning electron microscopy, x‐ray photoelectron spectroscopy, ellipsometry and optical microscopy. The films exhibited excellent properties (n=1.47, k=0.05) derived from

  据报道，使用 248 nm 准分子激光辐射光化学激光诱导沉积二氧化硅薄膜。在室温下获得了 0.25 A/脉冲的沉积速率。通过扫描电子显微镜、X 射线光电子能谱、椭偏仪和光学显微镜对沉积的薄膜进行表征。薄膜表现出优异的性能（n = 1.47，k = 0.05）来自椭圆光度数据。沉积不需要氧化共反应物。
• Multinuclear rhodium complexes supported by tetra-<i>tert</i>-butoxy disiloxide ligand: synthesis, structure, and reactivity
  作者：Yusuke Ishizaka、Kazuhiro Matsumoto、Kazuhiko Sato、Jun-Chul Choi

  DOI：10.1039/d2nj03095k

  日期：——

  basic reactivity was elucidated. When 3 reacted with carbon monoxide, a dinuclear rhodium carbonyl complex, Rh(CO)2}2μ-(OSi(OtBu)2)2O} (A), formed as an intermediate, which produced a bis-dinuclear rhodium carbonyl complex, [Rh(CO)2}2μ-(OSi(OtBu)2)2O}]2 (4), by spontaneous dimerization. The dimerization of A could be attributed to the relatively weak electron-donating ability of the tetra-tert-butoxy

  氧化铑络合物已被用作均相催化剂和二氧化硅负载金属催化剂的模型化合物。然而，很少制备具有多齿硅氧烷配体的铑配合物。在这项研究中，由双齿四叔丁氧基二硅氧烷配体支持的双核铑配合物Rh(COD)} 2 μ-(OSi(O t Bu) 2 ) 2 O} ( 3 ) (COD = 环辛二烯) , 被合成并阐明了它的基本反应性。当3与一氧化碳反应时，形成双核羰基铑络合物，Rh(CO) 2 } 2 μ-(OSi(O t Bu) 2 ) 2O} ( A ) 作为中间体形成，生成双核铑羰基络合物 [Rh(CO) 2 } 2 μ-(OSi(O t Bu) 2 ) 2 O}] 2 ( 4 ) ，通过自发二聚化。A的二聚化可归因于四叔丁氧基二硅氧烷配体相对较弱的给电子能力，这表明硅氧烷配体上的取代基对氧化铑配合物的形成有很大的影响。此外，3与三甲基膦（PMe 3) 提供不同的双核铑配合物，(PMe 3 )Rh(COD)}
• US256957
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• US256956
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• GB65774
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——