1-ethoxymethoxy-4-methylbenzene | 35117-05-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚醚
• 英文名称: 1-ethoxymethoxy-4-methylbenzene
• 英文别名: formaldehyde-(ethyl-p-tolyl-acetal)；Formaldehyd-(aethyl-p-tolyl-acetal)；Methylenglykol-aethyl-p-tolyl-aether；Aethoxy-methyl-p-tolyl-aether；1-(Ethoxymethoxy)-4-methylbenzene
• CAS: 35117-05-6
• 化学式: C₁₀H₁₄O₂
• 分子量: 166.22
• InChiKey: BJHFFBLZQNKMDN-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  235℃[at 101 325 Pa]
• 密度：
  0.983[at 20℃]
• LogP：
  2.85 at 25℃

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-甲氧甲基苯酚 在 萘 、 lithium 、 sodium hydride 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 6.5h， 生成 1-ethoxymethoxy-4-methylbenzene
  参考文献：
  名称：

  烷氧基取代的苄基甲基醚的还原锂化以及与交叉偶联反应的连接

  摘要：

  将2-和4-乙氧基甲氧基苄基甲基醚用作合成1,2-或1,4-二芳基取代的苯的有用的起始原料。所提出的反应顺序涉及苄基烷基醚的还原锂化与芳族三氟甲磺酸酯的金属催化的交叉偶联反应之间的联系。

  DOI：

  10.1016/j.tet.2003.11.085

文献信息

• HARMFUL ARTHROPOD CONTROL COMPOSITION, AND FUSED HETEROCYCLIC COMPOUND
  申请人：Iwakoshi Mitsuhiko

  公开号：US20110039843A1

  公开（公告）日：2011-02-17

  Disclosed is a harmful arthropod control composition comprising, as an active ingredient, a fused heterocyclic compound represented by formula (1) [wherein A 1 and A 2 independently represent a nitrogen atom or the like; R 1 and R 4 independently represent a halogen atom or the like; R 2 and R 3 independently represent a halogen atom or the like; R 5 and R 6 independently represent a linear C1-C6 hydrocarbon group which may be substituted, or the like (provided that both R 5 and R 6 cannot represent a hydrogen atom simultaneously); and n represents 0 or 1]. The harmful arthropod control composition has an excellent efficacy to control harmful arthropods.

  揭示了一种包括如下式（1）所表示的融合杂环化合物作为活性成分的有害节肢动物控制组合物[其中A1和A2独立地表示氮原子或类似物；R1和R4独立地表示卤素原子或类似物；R2和R3独立地表示卤素原子或类似物；R5和R6独立地表示可被取代的直链C1-C6烃基或类似物（前提是R5和R6不能同时表示氢原子）；n表示0或1]。该有害节肢动物控制组合物具有优异的效果，可用于控制有害节肢动物。
• ARTHROPOD PEST CONTROL METHOD AND COMPOSITION
  申请人：IWAKOSHI Mitsuhiko

  公开号：US20120245167A1

  公开（公告）日：2012-09-27

  Disclosed is a harmful arthropod control composition comprising, as an active ingredient, a fused heterocyclic compound represented by formula (1) [wherein A 1 and A 2 independently represent a nitrogen atom or the like; R 1 and R 4 independently represent a halogen atom or the like; R 2 and R 3 independently represent a halogen atom or the like; R 5 and R 6 independently represent a linear C1-C6 hydrocarbon group which may be substituted, or the like (provided that both R 5 and R 6 cannot represent a hydrogen atom simultaneously); and n represents 0 or 1]. The harmful arthropod control composition has an excellent efficacy to control harmful arthropods.

  公开了一种有害节肢动物控制组合物，其包含作为活性成分的由式（1）表示的融合杂环化合物[其中A1和A2独立地表示氮原子或类似物；R1和R4独立地表示卤素原子或类似物；R2和R3独立地表示卤素原子或类似物；R5和R6独立地表示线性C1-C6烃基，可以被取代，或类似物（前提是R5和R6不能同时表示氢原子）；n表示0或1]。该有害节肢动物控制组合物具有优异的控制有害节肢动物的功效。
• COMPOSITION AND METHOD FOR CONTROLLING ARTHROPOD PESTS
  申请人：Otsuki Junko

  公开号：US20120245159A1

  公开（公告）日：2012-09-27

  The present invention provides: an arthropod pests control composition comprising, as active ingredients, a condensed heterocyclic compound and a neonicotinoid compound; a method for controlling arthropod pests which comprises applying effective amounts of a condensed heterocyclic compound and a neonicotinoid compound to the arthropod pests or a locus where the arthropod pests inhabit; and so on.

  本发明提供了一种节肢动物害虫控制组合物，其包括紧缩杂环化合物和新烟碱类化合物作为活性成分；一种控制节肢动物害虫的方法，其包括将有效量的紧缩杂环化合物和新烟碱类化合物应用于节肢动物害虫或节肢动物害虫栖息地的方法等。
• FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING CROSSLINKABLE REACTIVE SILICONE
  申请人：Nissan Chemical Industries, Ltd.

  公开号：EP3222688A1

  公开（公告）日：2017-09-27

  There is provided film-forming composition having favorable effects such as curability and embeddability and resist underlayer film for use in lithography process for semiconductor devices. A film-forming composition comprising, as silane, hydrolyzable silane, hydrolysis product thereof, or hydrolysis-condensation product thereof, wherein hydrolyzable silane includes hydrolyzable silane of Formula (1):         R1aR2bSi(R3)4-(a+b)     Formula (1) in Formula (1), R1 is organic group of Formula (2) and is bonded to silicon atom through Si-C bond: Film-forming composition, wherein the hydrolyzable silane is combination of hydrolyzable silane of Formula (1) with another hydrolyzable silane, wherein other hydrolyzable silane is at least one selected from group consisting of hydrolyzable silane of Formula (3):         R7cSi(R8)4-c     Formula (3) and hydrolyzable silane of Formula (4):         (R9dSi(R10)3-d]2Ye     Formula (4) Resist underlayer film, obtained by applying the resist underlayer film-forming composition on semiconductor substrate and baking.

  本发明提供的成膜组合物具有良好的效果，如固化性和嵌入性以及用于半导体器件光刻工艺的抗蚀底层膜。 一种成膜组合物，包括作为硅烷的可水解硅烷、其水解产物或其水解缩合产物，其中可水解硅烷包括式（1）的可水解硅烷： R1aR2bSi(R3)4-(a+b) 式(1) 在式(1)中，R1 是式(2)的有机基团，并通过 Si-C 键与硅原子结合： 成膜组合物，其中可水解硅烷是式(1)的可水解硅烷与另一种可水解硅烷的组合，其中另一种可水解硅烷至少是从式(3)的可水解硅烷组成的组中选出的一种： R7cSi(R8)4-c 式(3) 和式 (4) 的可水解硅烷： (R9dSi(R10)3-d]2Ye 式（4） 将抗蚀剂底层成膜组合物涂在半导体衬底上并烘烤而得到的抗蚀剂底层薄膜。
• Hayashi,S. et al., Chemical and pharmaceutical bulletin, 1972, vol. 20, p. 15 - 20
  作者：Hayashi,S. et al.

  DOI：——

  日期：——