2-propyl-2H-benzotriazole | 16584-03-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并三唑类
• 英文名称: 2-propyl-2H-benzotriazole
• 英文别名: 2-propylbenzotriazole；2-propyl-2H-benzotriazole；2-Propyl-2H-benzotriazol
• CAS: 16584-03-5
• 化学式: C₉H₁₁N₃
• 分子量: 161.206
• InChiKey: MNTRQYJOOUIDTM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  30.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-propyl-2H-benzotriazole 在 lithium diisopropyl amide 作用下， 以 四氢呋喃 、 环己烷 为溶剂， 以65%的产率得到rac-3,4-Bis(benzotriazol-2-yl)hexane
  参考文献：
  名称：

  Katritzky, Alan R.; Wu, Jing; Kuzmierkiewicz, Wojciech, Liebigs Annalen der Chemie, 1994, # 1, p. 7 - 12

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  T406石油添加剂 、 溴丙烷 在 potassium carbonate 作用下， 以 丁酮 为溶剂， 以47.5%的产率得到2-propyl-2H-benzotriazole
  参考文献：
  名称：

  一种有机光转换剂、光转换胶膜和光伏组件

  摘要：

  本发明提供一种有机光转换剂、光转换胶膜和光伏组件，所述有机光转换剂包括具有式X所示结构的化合物中的任意一种或至少两种的组合，上述具有式X所示结构的化合物的分子结构中有更多的取代基团对母核进行取代，进而可以有效保护母核，使其免受外部亲电试剂以及紫外线光子能量的攻击，使得所述有机光转换剂具有优异的耐候性，特别是具有优异的耐紫外线性能，进而可以有效延长采用所述有机光转换剂制备得到的光转换胶膜以及进一步得到的光伏组件的使用寿命。

  公开号：

  CN117327023A

文献信息

• FUSED HETEROCYCLIC COMPOUNDS AS ION CHANNEL MODULATORS
  申请人：Corkey Britton Kenneth

  公开号：US20120289493A1

  公开（公告）日：2012-11-15

  The present disclosure relates to compounds that are sodium channel inhibitors and to their use in the treatment of various disease states, including cardiovascular diseases and diabetes. In particular embodiments, the structure of the compounds is given by Formula I: wherein Q, R 1 , X 1 , X 2 , Y and R 2 are as described herein, to methods for the preparation and use of the compounds and to pharmaceutical compositions containing the same.

  本公开涉及一类为钠通道抑制剂的化合物，以及它们在治疗各种疾病状态中的应用，包括心血管疾病和糖尿病。在特定实施例中，该化合物的结构由式I给出： 其中Q、R1、X1、X2、Y和R2如本文所述，以及制备和使用该化合物的方法，以及含有该化合物的药物组合物。
• Sodium hydrogen exchanger inhibitory activity of benzotriazole derivatives
  作者：Dhandeep Singh、Om Silakari

  DOI：10.1016/j.ejmech.2016.10.005

  日期：2017.1

  Series of benzotriazole derivatives were synthesized and evaluated for their Sodium hydrogen exchanger-1 inhibitory potential. All compounds inhibit Sodium hydrogen exchanger-1 in the in-vitro platelet swelling assay. This is perhaps the first report of NHE-1 inhibitory activity of benzotriazole. The 1-alkyl benzotriazole derivatives were found to be more active than the 2-alkyl isomers. The activity

  合成了一系列苯并三唑衍生物，并评估了其对氢交换剂-1的抑制潜力。在体外血小板溶胀试验中，所有化合物均抑制氢交换钠-1 。这也许是关于苯并三唑NHE-1抑制活性的首次报道。发现1-烷基苯并三唑衍生物比2-烷基异构体更具活性。活性随烷基部分链长的增加而增加。效力从苯并三唑（IC 50  = 192.68μM）增加到庚基衍生物（化合物13; IC 50  = 59.23μM）。引入负电性氧原子可进一步提高效力，如苯甲酰基所示（化合物16，IC 50 ＝51.57μM）和磺酰基基团（化合物17，IC 50  ＝50.89μM；化合物18，IC 50  ＝49.95μM ）。
• Green and Efficient Protocol for N-Alkylation of Benzotriazole Using Basic Ionic Liquid [Bmim]OH as Catalyst Under Solvent-Free Conditions
  作者：Zhang-Gao Le、Tao Zhong、Zong-Bo Xie、Xue-Xia Lü、Xia Cao

  DOI：10.1080/00397910903277888

  日期：2010.8.5

  N-Alkylation of benzotriazole bearing an acidic hydrogen atom attached to nitrogen with alkyl halides is accomplished in basic ionic liquid [Bmim]OH (1-butyl-3-methylimidazolium hydroxide) under solvent-free conditions. The procedure is convenient and efficient and generally affords the N-alkylated product.

  在碱性离子液体 [Bmim]OH（1-丁基-3-甲基咪唑鎓氢氧化物）中，在无溶剂条件下，将带有与氮相连的酸性氢原子的苯并三唑与烷基卤进行 N-烷基化。该程序方便有效，通常提供N-烷基化产物。
• Polishing composition and polishing process
  申请人：FUJIMI INCORPORATED

  公开号：EP1085067A1

  公开（公告）日：2001-03-21

  Object: To provide a polishing composition which is capable of polishing a tantalum-containing compound at a high stock removal rate and whereby the copper surface after polishing is scarcely corroded, and to provide a polishing process where dishing can be minimized. Means to accomplish the object: A polishing composition comprising an abrasive, oxalic acid, an ethylenediamine derivative, a benzotriazole derivative and water and not containing an oxidizing agent, and a polishing composition comprising an abrasive, oxalic acid, an ethylenediamine derivative, a benzotriazole derivative, water and hydrogen peroxide. Further, a polishing process for forming a copper printed wiring, which is a polishing process for a semiconductor device and which comprises a first polishing step wherein polishing is completed immediately before reaching a barrier layer while a copper layer still slightly remains, and second and third polishing steps wherein the remaining copper layer and the barrier layer are polished, wherein in the second polishing step, a polishing composition containing hydrogen peroxide is used and all the copper layer to be removed, is removed by polishing, and then, in the third polishing step, a polishing composition not containing hydrogen peroxide is used and all the barrier layer to be removed, is removed by polishing.

  目的提供一种抛光组合物，该组合物能够以较高的去料率对含钽化合物进行抛光，抛光后的铜表面几乎不会被腐蚀，并提供一种抛光工艺，该工艺可以最大限度地减少碟形。实现目标的方法：一种由研磨剂、草酸、乙二胺衍生物、苯并三唑衍生物和水组成且不含氧化剂的抛光组合物，以及一种由研磨剂、草酸、乙二胺衍生物、苯并三唑衍生物、水和过氧化氢组成的抛光组合物。 此外，一种用于形成铜印刷线路的抛光工艺，它是一种用于半导体器件的抛光工艺，包括第一抛光步骤，其中在到达阻挡层之前立即完成抛光，而铜层仍略有残留；以及第二和第三抛光步骤，其中对残留的铜层和阻挡层进行抛光、其中，在第二抛光步骤中，使用含有过氧化氢的抛光组合物，通过抛光去除所有待去除的铜层；然后，在第三抛光步骤中，使用不含过氧化氢的抛光组合物，通过抛光去除所有待去除的阻挡层。
• Polishing composition
  申请人：FUJIMI INCORPORATED

  公开号：EP1125999A1

  公开（公告）日：2001-08-22

  A polishing composition, for use in polishing a copper layer or a tantalum or tantalum compound layer on a substrate, comprises an abrasive, an anticorrosive, an oxidising agent, an acid, a pH regulator and water and has a pH within a range of from 2 to 5. The abrasive is colloidal silica or fumed silica, and has a primary particle size of at most 20 nm.

  一种抛光组合物，用于抛光基底上的铜层或钽或钽化合物层，由磨料、防腐剂、氧化剂、酸、pH 值调节剂和水组成，pH 值在 2 至 5 之间。磨料为胶体二氧化硅或气相二氧化硅，主要粒径不超过 20 纳米。