2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-yl)propan-2-ol

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 茚满类
• 英文名称: 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-yl)propan-2-ol
• 英文别名: 2-(2-indanyl)-2-propanol
• 化学式: C₁₂H₁₆O
• 分子量: 176.258
• InChiKey: FFVDDKKWYQBVRW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-yl)propan-2-ol 在 4-二甲氨基吡啶 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 6.25h， 生成 2-(2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-yl)propan-2-yl)-4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane
  参考文献：
  名称：

  不含金属催化剂的光致烷基CO键硼化。

  摘要：

  已开发出无金属催化剂，蓝色可见光诱导的未活化叔烷基甲基草酸酯的C–O键硼化，以提供叔烷基硼酸酯。在标准的光诱导条件下，从被咪唑基亚硫酰基活化的仲醇中获得适量的硼酸酯。初步的机理研究证实了（DMF）2 -B 2 cat 2加合物的参与，该加合物弱吸收437 nm的光以引发Bcat自由基。提出了一种自由基链方法，其中烷基被接合。

  DOI：

  10.1039/d0cc04776g

文献信息

• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20130084529A1

  公开（公告）日：2013-04-04

  A positive resist composition comprising a polymer having carboxyl groups substituted with an acid labile group having formula (1), (2) or (3) exhibits a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure, a high resolution, a reduced acid diffusion rate, and forms a pattern with good profile, minimal edge roughness, and etch resistance. In formula (1), R 1 , R 2 , R 5 , R 6 , R 8 , and R 9 are alkyl, aryl, or alkenyl, R 3 , R 4 , R 7 , R 10 , and R 11 are hydrogen, alkyl, alkoxy, acyloxy, halogen, cyano, nitro, hydroxyl or trifluoromethyl, M is methylene or ethylene, R is a single bond or linking group.
• US4166131A
  申请人：——

  公开号：US4166131A

  公开（公告）日：1979-08-28
• US8574817B2
  申请人：——

  公开号：US8574817B2

  公开（公告）日：2013-11-05