1-ethylcyclopentyl propanoate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 1-ethylcyclopentyl propanoate
• 英文别名: (1-Ethylcyclopentyl) propanoate
• 化学式: C₁₀H₁₈O₂
• 分子量: 170.252
• InChiKey: LORJTZGFDJKTAD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.9
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-乙炔基环戊醇 在 4-二甲氨基吡啶 、 5%-palladium/activated carbon 、 氢气 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 为溶剂， 20.0~80.0 ℃ 、3.0 MPa 条件下， 反应 23.0h， 生成 1-ethylcyclopentyl propanoate
  参考文献：
  名称：

  [EN] ETHERS AND ESTERS OF 1-SUBSTITUTED CYCLOALKANOLS FOR USE AS AROMA CHEMICALS
  [FR] ÉTHERS ET ESTERS DE CYCLOALCANOLS SUBSTITUÉS EN POSITION 1 DESTINÉS À ÊTRE UTILISÉS EN TANT QUE PRODUITS CHIMIQUES AROMATIQUES

  摘要：

  本发明涉及使用1-取代环烷醇的醚或酯，或两种或两种以上的1-取代环烷醇的醚或酯的混合物，或其立体异构体，或两种或两种以上的其立体异构体作为香气化学品的用途；用于修改香味组合物的气味特性；以及含有1-取代环烷醇的醚或酯，或两种或两种以上的1-取代环烷醇的醚或酯的混合物，或其立体异构体，或两种或两种以上的其立体异构体的香气化学品组合物；以及制备香味组合物或修改香味组合物的气味特性的方法。该发明还涉及特定的1-取代环烷醇的醚或酯。

  公开号：

  WO2020079007A1

文献信息

• COMPOUND AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP2100870A1

  公开（公告）日：2009-09-16

  A compound shown by the following formula (1) can be used as a material for a radiation-sensitive composition capable of forming a resist film which effectively responds to electron beams or the like, exhibits low roughness, and can form a high precision minute pattern in a stable manner.

  下式（1）所示的化合物可用作辐射敏感组合物的材料，该组合物能够形成对电子束等有效响应的抗蚀剂薄膜，粗糙度低，并能稳定地形成高精度的微小图案。
• ETHERS AND ESTERS OF 1-SUBSTITUTED CYCLOALKANOLS FOR USE AS AROMA CHEMICALS
  申请人：BASF SE

  公开号：EP3640234A1

  公开（公告）日：2020-04-22

  The present invention relates to the use of an ether or an ester of a 1-substituted cycloalkanol or of mixtures of two or more ethers or esters of 1-substituted cycloalkanols or of a stereoisomer thereof or of a mixture of two or more stereoisomers thereof as aroma chemicals; to the use thereof for modifying the scent character of a fragranced composition; to an aroma chemical composition containing an ether or an ester of a 1-substituted cycloalkanol or of mixtures of two or more ethers or esters of 1-substituted cycloalkanols or of a stereoisomer thereof or of a mixture of two or more stereoisomers thereof; and to a method of preparing a fragranced composition or for modifying the scent character of a fragranced composition. The invention further relates to specific ethers or esters of 1-substituted cycloalkanols.

  本发明涉及一种 1-取代环烷醇的醚或酯或两种或两种以上 1-取代环烷醇的醚或酯的混合物或其立体异构体或其两种或两种以上立体异构体的混合物作为芳香化学品的用途；涉及其用于改变芳香组合物的香味特征；一种香料化学组合物，其中含有 1-取代环烷醇的醚或酯，或两种或两种以上 1-取代环烷醇的醚或酯的混合物，或其立体异构体，或其两种或两种以上立体异构体的混合物；以及一种制备香料组合物或改变香料组合物香味特征的方法。 本发明还涉及 1-取代环烷醇的特定醚或酯。
• Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film and method of forming pattern
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10234759B2

  公开（公告）日：2019-03-19

  Provided is an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition including a resin (A) and any of compounds (B) of general formula (I) below. (In general formula (I), Rf represents a fluorine atom or a monovalent organic group containing at least one fluorine atom; R1 represents a hydrogen atom or a monovalent substituent containing no fluorine atom; X1 represents a monovalent organic group having at least two carbon atoms, or a methyl group in which a substituent other than a fluorine atom is optionally introduced, provided that X1 may be bonded to R1 to thereby form a ring; and Z represents a moiety that when exposed to actinic rays or radiation, is converted to a sulfonic acid group, an imidic acid group or a methide acid group).

  本发明提供了一种对辐照或辐射敏感的树脂组合物，该组合物包括树脂(A)和以下通式(I)的任何化合物(B)。(在通式（I）中，Rf 代表氟原子或含有至少一个氟原子的一价有机基团；R1 代表氢原子或不含氟原子的一价取代基；X1 代表至少含有两个碳原子的一价有机基团，或可选择引入氟原子以外的取代基的甲基，条件是 X1 可与 R1 键合，从而形成一个环；以及 Z 代表当暴露于放热射线或辐射时会转化为磺酸基团、酰亚胺酸基团或甲酰胺酸基团的分子）。
• Pattern forming method, method for manufacturing electronic device, laminate film, and composition for forming upper layer film
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US11249395B2

  公开（公告）日：2022-02-15

  One embodiment of the present invention provides a pattern forming method including a step for forming an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film on a substrate using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a step for forming an upper layer film on the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using a composition for forming an upper layer film, a step for exposing a laminate film including the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and the upper layer film, and a step for developing the exposed laminate film using a developer including an organic solvent. The composition for forming an upper layer film contains a resin (XA), a resin (XB) containing fluorine atoms, a basic compound (XC), and a solvent (XD), and the resin (XA) is a resin not containing fluorine atoms, or in a case where the resin (XA) contains fluorine atoms, the resin (XA) is a resin having a lower content of fluorine atoms than that in the resin (XB), based on a mass.

  本发明的一个实施例提供了一种图案形成方法，包括使用感光树脂或辐射敏感树脂组合物在基底上形成感光膜或辐射敏感膜的步骤、使用用于形成上层薄膜的组合物在感光膜或辐射敏感膜上形成上层薄膜的步骤，曝光包括感光膜或辐射敏感膜和上层薄膜的层压薄膜的步骤，以及使用包括有机溶剂的显影剂显影曝光的层压薄膜的步骤。用于形成上层薄膜的组合物包含树脂 (XA)、含氟原子的树脂 (XB)、碱性化合物 (XC) 和溶剂 (XD)，并且树脂 (XA) 是不含氟原子的树脂，或者在树脂 (XA) 含有氟原子的情况下，树脂 (XA) 是氟原子含量低于树脂 (XB) 中氟原子含量的树脂（基于质量）。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION COMPRISING A FLUORINE-CONTAINING POLYMER
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP2003148B1

  公开（公告）日：2017-07-19