chloromethyl(2-indanyl)ether | 1198572-67-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 茚满类
• 英文名称: chloromethyl(2-indanyl)ether
• 英文别名: 2-(chloromethoxy)-2,3-dihydro-1H-indene
• CAS: 1198572-67-6
• 化学式: C₁₀H₁₁ClO
• 分子量: 182.65
• InChiKey: JSJPWXFNMONXMQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  甲基丙烯酸 、 2-茚醇 、 chloromethyl(2-indanyl)ether 在 盐酸 、 无水氯化钙 、 三乙胺 、 paraformaldehyde 作用下， 以 二氯甲烷 、 甲苯 为溶剂， 以90%的产率得到(indane-2-yloxy)methyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  Polymerizable compound, polymer, positive resist composition, and patterning process using the same

  摘要：

  本发明提供了一种聚合物，适用于作为正向光刻胶组成的基础树脂，特别是化学放大正向光刻胶组成，具有更高的分辨率、更大的曝光容差、更小的稀密差异、更好的工艺适用性、曝光后更好的图案构形，以及比传统正向光刻胶更出色的蚀刻抗性；使用该聚合物的正向光刻胶组成；一种图案化工艺；以及一种新型的可聚合化合物，以获得类似的聚合物。本发明通过一种聚合物实现，其至少一个羧基的氢原子被下述通式（2）所表示的酸敏感基团所取代，使用该聚合物的正向光刻胶组成，一种图案化工艺，以及一种新型的可聚合化合物，以获得类似的聚合物。

  公开号：

  US20090297979A1
• 作为产物：
  描述：

  2-茚醇 、 聚合甲醛 、 无水氯化钙 、 盐酸 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 19.0h， 以to obtain 183 g of chloromethyl(2-indanyl)ether as an oily matter的产率得到chloromethyl(2-indanyl)ether
  参考文献：
  名称：

  Polymerizable compound, polymer, positive resist composition, and patterning process using the same

  摘要：

  本发明提供了一种聚合物，适用作为正向光刻组合物的基础树脂，特别是化学增强型正向光刻组合物，具有更高的分辨率、更大的曝光容差、更小的稀疏-密集尺寸差异、更好的工艺适用性、曝光后更好的图案配置以及比传统正向光刻更优异的蚀刻耐性；使用相同的正向光刻组合物；一种图案化工艺；以及一种新型可聚合化合物，以获得类似的聚合物。本发明通过一种聚合物实现，该聚合物的至少一个羧基的氢原子被下述通式（2）所表示的酸敏感基团取代，使用相同的正向光刻组合物，进行图案化工艺，以及一种新型可聚合化合物，以获得类似的聚合物。

  公开号：

  US20090297979A1

文献信息

• US8129086B2
  申请人：——

  公开号：US8129086B2

  公开（公告）日：2012-03-06
• Polymerizable compound, polymer, positive resist composition, and patterning process using the same
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20090297979A1

  公开（公告）日：2009-12-03

  The present invention provides; a polymer suitable as a base resin for a positive resist composition, in particular a chemically amplified positive resist composition, having a higher resolution, a larger exposure allowance, a smaller sparse-dense size difference, a better process applicability, a better pattern configuration after exposure, and in addition, a further excellent etching resistance, than a conventional positive resist; a positive resist composition using the same; a patterning process; and a novel polymerizable compound to obtain a polymer like this. The present invention was accomplished by a polymer whose hydrogen atom of at least a carboxyl group is substituted by an acid labile group represented by the following general formula (2), a positive resist composition using the same, a patterning process, and a novel polymerizable compound to obtain a polymer like this.

  本发明提供了一种聚合物，适用于作为正向光刻胶组成的基础树脂，特别是化学放大正向光刻胶组成，具有更高的分辨率、更大的曝光容差、更小的稀密差异、更好的工艺适用性、曝光后更好的图案构形，以及比传统正向光刻胶更出色的蚀刻抗性；使用该聚合物的正向光刻胶组成；一种图案化工艺；以及一种新型的可聚合化合物，以获得类似的聚合物。本发明通过一种聚合物实现，其至少一个羧基的氢原子被下述通式（2）所表示的酸敏感基团所取代，使用该聚合物的正向光刻胶组成，一种图案化工艺，以及一种新型的可聚合化合物，以获得类似的聚合物。