| 1408289-79-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• CAS: 1408289-79-1
• 化学式: C₅H₇F₂O₇S*C₁₈H₁₅S
• 分子量: 512.552
• InChiKey: OIQJUQZYWIKWBJ-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  34.0
• 可旋转键数：
  8.0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.17
• 拓扑面积：
  123.96
• 氢给体数：
  2.0
• 氢受体数：
  7.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  七氟丁酰氯 、 在 吡啶 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 21.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  这段文本描述了一种旨在提供能够使用良好的掩膜误差因子（MEF）制造光刻胶图案的光刻胶组合物和制造光刻胶图案的方法。解决方案涉及由式（I）表示的盐。【式中，QA1和QA2表示氟原子或全氟烷基。Lb1表示三价或四价饱和碳氢基，该饱和碳氢基中的-CH2-可以被-O-或-CO-取代，该饱和碳氢基中的氢原子可以被氟原子或羟基取代。R1表示氢原子、氟原子或羟基。m为0〜2，nn表示2或3。Z1+表示有机对离子。】【选择图】无

  公开号：

  JP2018090565A
• 作为产物：
  描述：

  在 盐酸 作用下， 以 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 3.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  JP5966403

  摘要：

  公开号：

文献信息

• SALT, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：YOSHIDA Isao

  公开号：US20130052588A1

  公开（公告）日：2013-02-28

  A photoresist composition containing a resin that is hardly soluble or insoluble, but which is soluble in an aqueous alkali solution by action of an acid, and a salt represented by formula (I): wherein Q 1 , Q 2 , L 1 , W 1 , W 2 , R 1 , R 2 , t1 and t2 are defined in the specification, and Z + represents an organic cation.

  一种光刻胶组合物，包含一种树脂，该树脂几乎不溶解或不溶解，但在酸的作用下可溶解于水性碱溶液中，并且包含由式(I)表示的盐：其中Q1、Q2、L1、W1、W2、R1、R2、t1和t2在规范中定义，Z+代表有机阳离子。