tert-butyl 2,3-epoxy-3-(5-norbornen-2-yl)-propionate | 381664-91-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 环氧化物
• 英文名称: tert-butyl 2,3-epoxy-3-(5-norbornen-2-yl)-propionate
• 英文别名: tert-butyl 3-(2-bicyclo[2.2.1]hept-5-enyl)oxirane-2-carboxylate
• CAS: 381664-91-1
• 化学式: C₁₄H₂₀O₃
• 分子量: 236.311
• InChiKey: OMEXPSWTPAOBTK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.79
• 拓扑面积：
  38.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tert-butyl 2,3-epoxy-3-(5-norbornen-2-yl)-propionate 、 马来酸酐 以yielding an alternating copolymer of tert-butyl 2,3-epoxy-3-(5-norbornen-2-yl)propionate/maleic anhydride的产率得到Tert-butyl 2,3-epoxy-3-(5-norbornen-2-yl)propionate maleic anhydride
  参考文献：
  名称：

  Novel ester compounds having alicyclic and oxirane structures and method for preparing the same

  摘要：

  提供了化学式为（1）的酯类化合物。其中，1R1为氢或甲基，R2为三级C4-20烷基，k = 0或1。以该酯类化合物为基础树脂的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有优异的敏感性、分辨率、蚀刻抵抗力和基底附着力，适用于使用电子束或深紫外线进行微细图案制备。

  公开号：

  US20020035279A1
• 作为产物：
  描述：

  5-降冰片烯-2-甲醛 、 氯乙酸叔丁酯 在 potassium tert-butylate 作用下， 以 四氢呋喃 、 水 为溶剂， 以95%的产率得到tert-butyl 2,3-epoxy-3-(5-norbornen-2-yl)-propionate
  参考文献：
  名称：

  Novel ester compounds having alicyclic and oxirane structures and method for preparing the same

  摘要：

  提供了化学式为（1）的酯类化合物。其中1R1为氢或甲基，R2为三级C4-20烷基，k=0或1。含有该酯类化合物聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有优异的敏感性、分辨率、蚀刻耐性和基板附着性，并适用于使用电子束或深紫外线进行微观图案制备。

  公开号：

  US20020035279A1

文献信息

• Ester compounds having alicyclic and oxirane structures and method for preparing the same
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US06500971B2

  公开（公告）日：2002-12-31

  An ester compound of formula (1) is provided. R1 is H or methyl, R2 is tertiary C4-20 alkyl, and k=0 or 1. A resist composition comprising as the base resin a polymer resulting from the ester compound is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity, resolution, etching resistance and substrate adhesion, and is suited for micropatterning using electron beams or deep-UV.

  提供了化学式为（1）的酯类化合物。其中，R1为氢或甲基，R2为三级C4-20烷基，k=0或1。以该酯类化合物为基础树脂的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有优异的敏感性、分辨率、蚀刻抗性和基底附着性，并适用于使用电子束或深紫外线进行微细图案化。
• US6500971B2
  申请人：——

  公开号：US6500971B2

  公开（公告）日：2002-12-31
• Novel ester compounds having alicyclic and oxirane structures and method for preparing the same
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20020035279A1

  公开（公告）日：2002-03-21

  An ester compound of formula (1) is provided. 1 R 1 is H or methyl, R 2 is tertiary C 4-20 alkyl, and k=0 or 1. A resist composition comprising as the base resin a polymer resulting from the ester compound is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity, resolution, etching resistance and substrate adhesion, and is suited for micropatterning using electron beams or deep-UV.

  提供了化学式为（1）的酯类化合物。其中1R1为氢或甲基，R2为三级C4-20烷基，k=0或1。含有该酯类化合物聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有优异的敏感性、分辨率、蚀刻耐性和基板附着性，并适用于使用电子束或深紫外线进行微观图案制备。