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2-[对(1-溴-2-甲基丙基)苯基]丙酸 | 75625-98-8

中文名称
2-[对(1-溴-2-甲基丙基)苯基]丙酸
中文别名
——
英文名称
2-propionic acid
英文别名
2-[p-(1-Bromo-2-methylpropyl)phenyl]propionic Acid;2-[4-(1-bromo-2-methylpropyl)phenyl]propanoic acid
2-[对(1-溴-2-甲基丙基)苯基]丙酸化学式
CAS
75625-98-8
化学式
C13H17BrO2
mdl
——
分子量
285.181
InChiKey
JMYFDQVXABRDFF-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    112.5-117.1 °C
  • 沸点:
    363.6±22.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.330±0.06 g/cm3(Predicted)
  • 溶解度:
    可溶于二氯甲烷、甲醇

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.8
  • 重原子数:
    16
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.46
  • 拓扑面积:
    37.3
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    2

SDS

SDS:5c93772ed626bc47282a2e9298f08053
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上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
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反应信息

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文献信息

  • COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN AND METHOD FOR FORMING FINED PATTERN USING SAME
    申请人:Okamura Toshira
    公开号:US20140127478A1
    公开(公告)日:2014-05-08
    The present invention provides a resist pattern-forming composition capable of forming a resist pattern excellent in etching resistance. The invention also provides a resist pattern formation method using that composition. The composition comprises pure water and a water-soluble resin having aromatic group-containing substituents in its side chain. The composition also contains a free acid or an acid group combined with the water-soluble resin.
    本发明提供了一种能够形成具有优异蚀刻抗性的光阻图案的光阻图案形成组合物。该发明还提供了使用该组合物的光阻图案形成方法。该组合物包括纯水和具有含芳香基取代基的侧链的水溶性树脂。该组合物还含有自由酸或与水溶性树脂结合的酸基。
  • KURTZ R. R.; HOUSER D. J., J. ORG. CHEM., 1981, 46, NO 1, 202-203
    作者:KURTZ R. R.、 HOUSER D. J.
    DOI:——
    日期:——
  • US9298094B2
    申请人:——
    公开号:US9298094B2
    公开(公告)日:2016-03-29
  • A 1,6-eliminative epoxide cleavage in the synthesis of an ibuprofen metabolite
    作者:Richard R. Kurtz、David J. Houser
    DOI:10.1021/jo00314a053
    日期:1981.1
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