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3,3'-二氨基-4,4'-联苯二醇 | 4194-40-5

中文名称
3,3'-二氨基-4,4'-联苯二醇
中文别名
(2Z)-2,3-二氯丙-2-烯醛
英文名称
3,3'-diamino-[1,1'-biphenyl]-4,4'-diol
英文别名
3,3'-diamino-4,4'-dihydroxy-biphenyl;3,3'-diamino-4,4'-dihydroxybiphenyl;3,3'-diaminobiphenyl-4,4'-diol;3.3'-diamino-4.4'-dioxy-diphenyl;2-amino-4-(3-amino-4-hydroxyphenyl)phenol
3,3'-二氨基-4,4'-联苯二醇化学式
CAS
4194-40-5
化学式
C12H12N2O2
mdl
——
分子量
216.239
InChiKey
KZLDGFZCFRXUIB-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    >300 °C
  • 沸点:
    452.9±45.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.384±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.5
  • 重原子数:
    16
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    92.5
  • 氢给体数:
    4
  • 氢受体数:
    4

安全信息

  • 海关编码:
    2922199090
  • 储存条件:
    室温

SDS

SDS:c72add9f9c70024522731030e5f5a4fd
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上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    3,3'-二氨基-4,4'-联苯二醇 反应 40.17h, 生成
    参考文献:
    名称:
    非共轭部花青染料二聚体中的激子和电荷转移相互作用:系链双色团和准分子的新型溶剂致变色行为
    摘要:
    一系列的部花青染料二聚体连接在不同位点,间隔基范围为 0 到 5 个亚甲基,并合成了相应的单体。已经通过紫外/可见吸收光谱、稳态荧光和荧光寿命测量研究了溶液和硬质玻璃中随后产生的部花青染料“聚集体”的形成、结构和激发态特性。具有 0 和 1 亚甲基间隔的二聚体必须以或多或少的延伸构象存在;因此,它们显示出非常弱且与距离相关的“J”型激子耦合,这在吸收光谱和荧光光谱中都很明显。对于具有 2、3 和 5 亚甲基间隔基的二聚体,在非极性溶剂中的吸收光谱与很大程度上扩展的构型和很少或没有明显的激子耦合一致。然而,对于极性更大的溶剂,观察到吸收光谱蓝移,表明折叠构型导致“H”二聚体。对于后者的二聚体,荧光光谱...
    DOI:
    10.1021/ja983778h
  • 作为产物:
    描述:
    4,4'-二羟基联苯 在 palladium on activated charcoal 、 硝酸一水合肼溶剂黄146 作用下, 以 乙醇 为溶剂, 反应 24.0h, 生成 3,3'-二氨基-4,4'-联苯二醇
    参考文献:
    名称:
    氧化还原非纯杂原子多齿席夫碱配体 的Fe(ii)聚合物的设计,合成和表征:负微分电阻和记忆行为†
    摘要:
    在目前的工作中,基于Fe(II)离子自组装并合成新设计的多齿席夫碱配体的有机金属杂化聚合物的独特负负电阻(NDR)和记忆效应已经得到了证明。报告。使用紫外可见分光光度计在吸光度研究中密切监测聚合过程。尖锐的等渗点的存在和配体对金属浓度的1:1吸光度饱和证实了聚合物的逐步生长。还基于模型配体开发了模型单体铁络合物,目的是通过比较研究更好地了解聚合物的性能,但令人惊讶的是,配体和模型配体在相同的Fe(II)下均以不同的方式进行配位)-金属离子在相似的反应条件下,尽管它们具有相同的结合位点。已经发现,单体模型络合物是顺磁性的,而金属聚合物本质上是抗磁性的。聚合物薄膜的FESEM图像显示存在均匀分布的颗粒间中孔,这通过表面积分析进一步证实。通过AFM研究在HOPG表面发现了一条长单链聚合物。循环伏安法研究表明,共轭配体和金属聚合物均具有电化学活性。在ITO上制造的器件的双稳态存储行为已显示出负的差
    DOI:
    10.1039/c8nj04106g
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文献信息

  • COMPOSITION CONTAINING VINYL-GROUP-CONTAINING COMPOUND
    申请人:TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
    公开号:US20160046552A1
    公开(公告)日:2016-02-18
    A composition containing a novel vinyl-group-containing compound. This composition contains a vinyl-group-containing compound represented by general formula (1). In the formula: W 1 and W 2 represent a group represented by general formula (2) (where a ring (Z) is an aromatic hydrocarbon ring, X is a single bond or —S—, R 1 is a single bond or a C1-4 alkylene group, R 2 is a specific substituent group such as a monovalent hydrocarbon, and m is an integer equal to 0 or higher), a group represented by general formula (4) (where the ring (Z), X, R 1 , R 2 , and m are as previously stated), a hydroxyl group, or a (meth)acryloyloxy group; rings (Y 1 , Y 2 ) are aromatic hydrocarbon rings; R represents a single bond or a specific divalent group; R 3a and R 3b represent a cyano group, a halogen atom, or a monovalent hydrocarbon group; and n1 and n2 are integers of 0-4.
    这个组合物包含一种含有新颖乙烯基团的化合物。该组合物包含一个由通式(1)表示的含有乙烯基团的化合物。在该式中:W1和W2代表由通式(2)表示的一个基团(其中环(Z)是芳香烃环,X是一个单键或—S—,R1是一个单键或C1-4烷基基团,R2是特定的取代基团,如一价碳氢化合物,m是大于或等于0的整数),一个由通式(4)表示的基团(其中环(Z)、X、R1、R2和m如前述),一个羟基,或一个(甲基)丙烯酰氧基团;环(Y1、Y2)是芳香烃环;R代表一个单键或一个特定的二价基团;R3a和R3b代表氰基、卤素原子或一价碳氢基团;n1和n2是0-4的整数。
  • NOVEL TETRACARBOXYLIC DIANHYDRIDE, POLYIMIDE RESIN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITIONS, PATTERNING PROCESS, METHOD FOR FORMING CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, SURFACE PROTECTIVE FILM, AND ELECTRONIC PARTS
    申请人:SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
    公开号:US20190169211A1
    公开(公告)日:2019-06-06
    The present invention has been made in view of the circumstances herein. An object of the present invention is to provide: a tetracarboxylic dianhydride which can lead to a polyimide usable as a base resin of a photosensitive resin composition capable of forming a fine pattern and obtaining high resolution without impairing excellent characteristics such as mechanical strength and adhesiveness; a polyimide resin obtained by using the tetracarboxylic dianhydride; and a method for producing the polyimide resin. The tetracarboxylic dianhydride is shown by the following general formula (1).
    本发明是基于本文中的情况而作出的。本发明的目的是提供:一种四羧酸二酐,可导致聚酰亚胺,作为感光树脂组合物的基树脂,能够形成细微图案并获得高分辨率,同时不损害优异的特性,如机械强度和粘附性;通过使用该四羧酸二酐获得的聚酰亚胺树脂;以及生产该聚酰亚胺树脂的方法。该四羧酸二酐由以下通用式(1)所示。
  • [EN] PHOTOALIGNING MATERIALS<br/>[FR] MATÉRIAUX DE PHOTOALIGNEMENT
    申请人:ROLIC AG
    公开号:WO2013050121A1
    公开(公告)日:2013-04-11
    The present invention relates to polymer, homo- or copolymer or oligomer for the photoalignment of liquid crystals, especially for the planar orientation of liquid crystals, comprising a main chain and a side chain, wherein the side chain and/or main chain comprises a polar group, compositions thereof, and its use for optical and electro optical devices, especially liquid crystal devices (LCDs).
    本发明涉及用于液晶的光调向的聚合物、同聚物或寡聚物,特别用于液晶的平面取向,包括主链和侧链,其中侧链和/或主链包含极性基团,以及其组合物,以及其在光学和电光设备中的应用,特别是液晶设备(LCD)。
  • RESIN COMPOSITION
    申请人:TORAY INDUSTRIES, INC.
    公开号:US20190241716A1
    公开(公告)日:2019-08-08
    The present invention provides a resin composition having a high sensitivity and serving to produce a cured film with a low water absorption rate. The resin composition includes: (a) an alkali-soluble resin and (b1) an amido-phenol compound containing a phenolic hydroxyl group in which a monovalent group as represented by the undermentioned general formula (1) is located at the ortho position and/or (b2) an aromatic amido acid compound containing a carboxy group in which a monovalent group as represented by the undermentioned general formula (2) is located at the ortho position: wherein in general formula (1), X is a monovalent organic group having an alkyl group that contains 2 to 20 carbon atoms and bonds directly to the carbonyl carbon in general formula (1) or a monovalent organic group that has —(YO) n —; and in general formula (2), U is a monovalent organic group that has an alkyl group containing 2 to 20 carbon atoms and bonding directly to the amide nitrogen in general formula (2) or a monovalent organic group that has —(YO) n —; wherein Y is an alkylene group containing 1 to 10 carbon atoms and n is an integer of 1 to 20.
    本发明提供了一种树脂组合物,具有高灵敏度,并用于生产具有低吸水率的固化膜。该树脂组合物包括:(a)可溶于碱的树脂和(b1)含有酚羟基的酰胺酚化合物,其中酚羟基化合物中的单价基在邻位上,和/或(b2)含有羧基的芳香酰胺酸化合物,其中羧基化合物中的单价基在邻位上,其通式如下所示:在通式(1)中,X是一个单价有机基,具有含有2到20个碳原子的烷基,并直接连接到通式(1)中的羰基碳,或具有—(YO)n—的单价有机基;在通式(2)中,U是一个单价有机基,具有含有2到20个碳原子的烷基,并直接连接到通式(2)中的酰胺氮,或具有—(YO)n—的单价有机基;其中Y是含有1到10个碳原子的烷基,n是1到20的整数。
  • NOVEL COMPOUND, POLYIMIDE RESIN AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING METHOD AND METHOD OF FORMING CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, SURFACE PROTECTIVE FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT
    申请人:International Business Machines Corporation
    公开号:US20210317270A1
    公开(公告)日:2021-10-14
    Provided is a compound that can be used as a base resin for a photosensitive resin composition. The photosensitive resin can form a fine pattern and can achieve high resolution without impairing mechanical strength and solubility. The compound is represented by the general formula (1): wherein Z represents a linear, branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 2 to 30 carbon atoms; X 1 to X 3 represent any of —CO 2 —, —CONR X1 —, —O—, —NR X1 —, —S—, —SO 2 —, —SO 3 — and —SO 2 NR X1 — and may be the same as or different from each other, provided that R X1 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms; Ar represents a divalent aromatic group having 2 to 30 carbon atoms; L 1 and L 2 independently represent a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms; and x and y are each independently 0 or 1.
    提供的是一种可以用作光敏树脂组合物的基树脂的化合物。这种光敏树脂可以形成精细图案,并且可以在不影响机械强度和溶解性的情况下实现高分辨率。该化合物由通式(1)表示:其中Z代表具有2到30个碳原子的线性、支链或环状二价碳氢基团;X1到X3代表任何一种—CO2—、—CONRX1—、—O—、—NRX1—、—S—、—SO2—、—SO3—和—SO2NRX1—中的一种,并且它们可以相同也可以不同,只要RX1是氢原子或具有1到30个碳原子的一价碳氢基团;Ar代表具有2到30个碳原子的二价芳香基团;L1和L2分别代表具有1到30个碳原子的二价碳氢基团;x和y分别独立地为0或1。
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