chlorocarbonyldifluoromethanesulofnic acid sodium salt | 1421591-10-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: chlorocarbonyldifluoromethanesulofnic acid sodium salt
• 英文别名: Sodium;2-chloro-1,1-difluoro-2-oxoethanesulfonate；sodium;2-chloro-1,1-difluoro-2-oxoethanesulfonate
• CAS: 1421591-10-7
• 化学式: C₂ClF₂O₄S*Na
• 分子量: 216.525
• InChiKey: VVOMLXLWFXKQFI-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -3.11
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  82.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-hydroxyphenyl.diphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate 、 chlorocarbonyldifluoromethanesulofnic acid sodium salt 在 N,N-二异丙基乙胺 作用下， 以 1,2-二氯乙烷 为溶剂， 反应 3.0h， 以65%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  SULFONIUM COMPOUND, PHOTOACID GENERATOR, AND RESIST COMPOSITION

  摘要：

  提供以下式（1）所表示的磺化物化合物，含有该磺化物化合物的光酸发生剂，以及含有该光酸发生剂的抗蚀组合物：其中X代表一个电子给体基团；R1和R2各自独立地代表一个烷基基团或类似物；R4至R6各自独立地代表一个烷基基团或类似物；R3代表一个环烯二基基团或类似物；以及−A代表一个阴离子。该磺化物化合物具有通过在一个分子的阳离子区引入不同吸收剂来控制的光子产量，可解决当该磺化物化合物被应用为光酸发生剂时使用不同光酸发生剂混合物的不便，具有在抗蚀剂中优异的溶解性，并具有增强的分辨率和线边粗糙度。

  公开号：

  US20130035503A1
• 作为产物：
  描述：

  difluorosulfoacetic acid sodium salt 在 氯化亚砜 作用下， 反应 3.0h， 以80%的产率得到chlorocarbonyldifluoromethanesulofnic acid sodium salt
  参考文献：
  名称：

  SULFONIUM COMPOUND, PHOTOACID GENERATOR, AND RESIST COMPOSITION

  摘要：

  提供以下式（1）所表示的磺化物化合物，含有该磺化物化合物的光酸发生剂，以及含有该光酸发生剂的抗蚀组合物：其中X代表一个电子给体基团；R1和R2各自独立地代表一个烷基基团或类似物；R4至R6各自独立地代表一个烷基基团或类似物；R3代表一个环烯二基基团或类似物；以及−A代表一个阴离子。该磺化物化合物具有通过在一个分子的阳离子区引入不同吸收剂来控制的光子产量，可解决当该磺化物化合物被应用为光酸发生剂时使用不同光酸发生剂混合物的不便，具有在抗蚀剂中优异的溶解性，并具有增强的分辨率和线边粗糙度。

  公开号：

  US20130035503A1

文献信息

• SULFONIUM COMPOUND, PHOTOACID GENERATOR, AND RESIST COMPOSITION
  申请人：OH Jung Hoon

  公开号：US20130035503A1

  公开（公告）日：2013-02-07

  A sulfonium compound represented by the following formula (1), a photoacid generator containing the sulfonium compound, and a resist composition containing the photoacid generator are provided: wherein X represents an electron donor group; R 1 and R 2 each independently represent an alkyl group or the like; R 4 to R 6 each independently represent an alkyl group, or the like; R 3 represents a cyclic alkenediyl group or the like; and −A represents an anion. The sulfonium compound has a photon yield that is controllable by introducing different absorbers to the cation region in one molecule, can address the inconvenience of using a mixture of different photoacid generators when the sulfonium compound is applied as a photoacid generator, has excellent miscibility in a resist, and has enhanced resolution and line edge roughness.

  提供以下式（1）所表示的磺化物化合物，含有该磺化物化合物的光酸发生剂，以及含有该光酸发生剂的抗蚀组合物：其中X代表一个电子给体基团；R1和R2各自独立地代表一个烷基基团或类似物；R4至R6各自独立地代表一个烷基基团或类似物；R3代表一个环烯二基基团或类似物；以及−A代表一个阴离子。该磺化物化合物具有通过在一个分子的阳离子区引入不同吸收剂来控制的光子产量，可解决当该磺化物化合物被应用为光酸发生剂时使用不同光酸发生剂混合物的不便，具有在抗蚀剂中优异的溶解性，并具有增强的分辨率和线边粗糙度。