三(4-叔丁基苯基)锍全氟-1-丁烷磺酸 | 241806-75-7

• 物质功能分类: 化学试剂 - 有机试剂
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 卤代烷
• 中文名称: 三(4-叔丁基苯基)锍全氟-1-丁烷磺酸
• 英文名称: tris-(4-t-butylphenyl)sulfonium nonafluorobutane sulfonate
• 英文别名: Tris(4-tert-butylphenyl)sulfonium perfluoro-1-butanesulfonate；1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate;tris(4-tert-butylphenyl)sulfanium
• CAS: 241806-75-7
• 化学式: C₄F₉O₃S*C₃₀H₃₉S
• 分子量: 730.799
• InChiKey: HWZAQSLOKICOMP-UHFFFAOYSA-M

物化性质

• 熔点：
  194-197 °C (lit.)
• 溶解度：
  γ-丁内酯：~10%
• 稳定性/保质期：
  在指定条件下稳定，远离氧化物。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  10.63
• 重原子数：
  48
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.47
• 拓扑面积：
  66.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  12

安全信息

• 安全说明：
  S22,S24/25
• WGK Germany：
  3
• 储存条件：
  存放在密封容器中，并放置在阴凉、干燥处。请务必远离氧化剂。

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  potassium nonaflate 、 tris(4-tert-butylphenyl)sulfonium bromide 以 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 18.0h， 以85%的产率得到三(4-叔丁基苯基)锍全氟-1-丁烷磺酸
  参考文献：
  名称：

  从电子激发态的[Ir（COD）（μ-ME电子转移的驱动力依赖2 PZ）] 2到光-酸发生器

  摘要：

  我们报告的电子转移（ET），电子被激发的反应物[Ir（COD）（μ-Me中速率2 PZ）] 2与鎓盐光产酸剂（PAG的）。PAG的还原电位跨越一个大的电化学窗口，可以确定ET反应的驱动力依赖性。ET的速率常数从电子激发的[Ir（COD）（μ-ME 2 PZ）] 2至鎓PAG在通过将反应驱动力，直到达到在乙腈中扩散极限来确定。

  DOI：

  10.1021/acs.jpca.7b07777
• 作为试剂：
  描述：

  bis(4-tert-butylphenyl)sulfoxide 、 三氟乙酸酐 、 全氟-1-丁磺酸 、 叔丁基苯 在 ice 、 乙醚 、 水 、 magnesium sulfate 、 三(4-叔丁基苯基)锍全氟-1-丁烷磺酸 作用下， 反应 32.0h， 以Thus, 66.1 g (60.2%) of white crystals of tris-(4-t-butylphenyl) sulfonium nonafluorobutane sulfonate (m.p. 198-200° C.) was obtained的产率得到三(4-叔丁基苯基)锍全氟-1-丁烷磺酸
  参考文献：
  名称：

  Radiation-sensitive composition of chemical amplification type

  摘要：

  本发明涉及一种化学增感放射敏感组合物，包含羟基苯乙烯树脂和生成氟代烷基磺酸的硫离子或碘离子盐前体作为光酸发生剂，其中所述光酸发生剂是由式(I)所表示的氟代烷基磺酸的硫离子或碘离子盐制成：Y+ASO3−  (I)其中，A代表CF3CHFCF2或CF3CF2CF2CF2；Y代表R1、R2、R3、R4和R5各自独立地代表烷基、单环或双环烷基、环烷基羰基、苯基、萘基、蒽基、苯并环戊二烯基、吡喃基、噻吩基、芳烷基或芳基羰基亚甲基组，或R1、R2和R3中的任意两个或R4和R5中的任意两个共同代表形成五元或六元环的烷基或氧烷基，其中硫或碘作为中间原子，所述环可以选择性地与芳基团融合。

  公开号：

  US06358665B1

文献信息

• PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：Robinson Alex

  公开号：US20120251953A1

  公开（公告）日：2012-10-04

  Certain methanofullerene derivatives are described, having side chains with acid-labile protecting groups. The methanofullerene derivatives may find application as photoresist materials, and particularly as positive-tone photoresists.

  描述了某些具有酸敏保护基的甲烷富勒烯衍生物。这些甲烷富勒烯衍生物可能被用作光刻胶材料，特别是作为正相光刻胶。
• Compositions and Methods Incorporating Photocatalysts
  申请人：Baker Ellen Schmidt

  公开号：US20090285768A1

  公开（公告）日：2009-11-19

  The various embodiments provide a composition including an active material having functional groups capable of covalent attachment to a substrate in the presence of an acid or a base, a photocatalyst capable of generating an acid or a base upon exposure to light, and a vehicle. The compositions may also include surfactants, emulsifiers, oxidants, and other components. A method for treating a substrate is also disclosed. The method includes the steps of applying at least one active material having functional groups to the substrate, applying a photocatalyst to the substrate, and exposing the photocatalyst and the at least one active material to light for forming covalent attachments between the functional groups and constituent groups on the substrate. The compositions and methods described herein are useful in personal care product and consumer care product applications, for example.

  各种实施例提供了一种组合物，包括具有在酸或碱存在下能够与基底共价结合的功能基团的活性材料，能够在光照下生成酸或碱的光催化剂，以及载体。该组合物还可以包括表面活性剂、乳化剂、氧化剂和其他组分。还公开了一种处理基底的方法。该方法包括将至少一种具有功能基团的活性材料应用于基底，将光催化剂应用于基底，并将光照射到光催化剂和至少一种活性材料，以形成功能基团与基底上的成分基团之间的共价结合。这里描述的组合物和方法在个人护理产品和消费者护理产品应用中是有用的。
• [EN] CYCLOPROPENIUM POLYMERS AND METHODS FOR MAKING THE SAME<br/>[FR] POLYMÈRES DE CYCLOPROPÉNIUM ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION
  申请人：UNIV COLUMBIA

  公开号：WO2014022365A1

  公开（公告）日：2014-02-06

  The present invention provides, inter alia, a process for incorporating a cyclopropenium ion into a polymeric system. Processes for making cross-linked polymers, linear polymers, and dendritic polymers, as well as for incorporating a cyclopropenium ion onto a preformed polymer are also provided. Further provided are stable, polycationic compounds, various polymers that contain stable cyclopropenium cations, and substrates containing such polymers. The use of these polymers in water purification systems, antimicrobial coatings, ion-transport membranes, cell supports, drug delivery vehicles, and gene therapeutic vectors are also provided.

  本发明提供了将环丙烯离子引入聚合体系的方法。还提供了制备交联聚合物、线性聚合物和树枝状聚合物的方法，以及将环丙烯离子引入预先形成的聚合物的方法。此外，还提供了稳定的多阳离子化合物、含有稳定环丙烯阳离子的各种聚合物，以及含有这些聚合物的基板。还提供了在水净化系统、抗微生物涂层、离子传输膜、细胞支撑、药物输送载体和基因治疗载体中使用这些聚合物的方法。
• Photoacid generators for use in photoresist compositions
  申请人：ARCH SPECIALTY CHEMICALS, INC.

  公开号：US20020197558A1

  公开（公告）日：2002-12-26

  A photoacid compound having the following general structure: R—O(CF 2 ) n SO 3 X wherein n is an integer between about 1 to 4; R is selected from the group consisting of: substituted or unsubstituted C 1 -C 12 linear or branched alkyl or alkenyl, substituted or unsubstituted araalkyl, substituted or unsubstituted aryl, substituted or unsubstituted bicycloalkyl, substituted or unsubstituted tricycloalkyl, hydrogen, alkyl sulfonic acid, substituted or unsubstituted perfluoroalkyl, the general structure F((CF 2 ) p O) m (CF 2 ) q — wherein p is between about 1 to 4, m is between about 0 to 3 and q is between about 1 to 4, and substituted or unsubstituted partially fluorinated alkyl, halofluoroalkyl, perfluoroalkylsulfonic, or glycidyl; and X is selected from the group consisting of: organic cations and covalently bonded organic radicals.

  具有以下一般结构的光酸化合物：R—O（CF2）nSO3X，其中n是介于1到4之间的整数；R选自以下组合：取代或未取代的C1-C12线性或支链烷基或烯基，取代或未取代的araalkyl，取代或未取代的芳基，取代或未取代的双环烷基，取代或未取代的三环烷基，氢，烷基磺酸，取代或未取代的部分氟化烷基，一般结构F（（CF2）pO）m（CF2）q—其中p介于1到4之间，m介于0到3之间，q介于1到4之间，以及取代或未取代的部分氟化烷基，卤氟烷基，全氟烷基磺酸或环氧丙基；X选自有机阳离子和共价键合有机基团的组合。
• Organic Bismuth Compound, Method for Producing Same, Living Radical Polymerization Initiator, Method for Producing Polymer Using Same, and Polymer
  申请人：Yamago Shigeru

  公开号：US20070265404A1

  公开（公告）日：2007-11-15

  An organobismuth compound represented by the formula (1) wherein R 1 and R 2 are C 1 -C 8 alkyl, aryl, substituted aryl or an aromatic heterocyclic group, R 3 and R 4 are each a hydrogen atom or C 1 -C 8 alkyl, and R 5 is aryl, substituted aryl, an aromatic heterocyclic group, acyl, amido, oxycarbonyl or cyano.

  一种有机铋化合物，其化学式为(1)，其中R1和R2为C1-C8烷基、芳基、取代芳基或芳香族杂环基，R3和R4分别为氢原子或C1-C8烷基，R5为芳基、取代芳基、芳香族杂环基、酰基、酰胺基、氧羰基或氰基。