三对甲苯基锍三氟甲烷磺酸盐 | 127820-38-6

• 物质功能分类: 生物 - 细胞培养 - 添加剂
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 中文名称: 三对甲苯基锍三氟甲烷磺酸盐
• 中文别名: 三(4-甲苯基)锍三氟甲烷磺酸盐
• 英文名称: tris(4-methylphenyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate
• 英文别名: triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate；tri-p-tolylsulfonium triflate；tris(4-tolyl)sulfonium triflate；Tri-p-tolylsulfonium Trifluoromethanesulfonate；trifluoromethanesulfonate;tris(4-methylphenyl)sulfanium
• CAS: 127820-38-6
• 化学式: CF₃O₃S*C₂₁H₂₁S
• 分子量: 454.534
• InChiKey: ZZJNLOGMYQURDL-UHFFFAOYSA-M

物化性质

• 熔点：
  106 °C
• 溶解度：
  溶于乙醇

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.76
• 重原子数：
  30
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.18
• 拓扑面积：
  66.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

安全信息

• 安全说明：
  S26
• 危险类别码：
  R36/37/38

SDS

三对甲苯基锍三氟甲烷磺酸盐 修改号码：5

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模块 1. 化学品
产品名称： Tri-p-tolylsulfonium Trifluoromethanesulfonate
修改号码： 5

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模块 2. 危险性概述
GHS分类
物理性危害 未分类
健康危害
皮肤腐蚀/刺激 第2级
严重损伤/刺激眼睛 2A类
环境危害 未分类
GHS标签元素
图标或危害标志
信号词 警告
危险描述 造成皮肤刺激
造成严重眼刺激
防范说明
[预防] 处理后要彻底清洗双手。
穿戴防护手套/护目镜/防护面具。
[急救措施] 眼睛接触：用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续冲洗。
眼睛接触：求医/就诊
皮肤接触：用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激：求医/就诊。
脱掉被污染的衣物，清洗后方可重新使用。

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模块 3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名)： 三对甲苯基锍三氟甲烷磺酸盐
百分比： >95.0%(LC)(T)
CAS编码： 127820-38-6
俗名： Tris(4-methylphenyl)sulfonium Trifluoromethanesulfonate , Tri-p-
tolylsulfonium Triflate
三对甲苯基锍三氟甲烷磺酸盐 修改号码：5

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模块 3. 成分/组成信息
分子式： C22H21F3O3S2

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模块 4. 急救措施
吸入： 将受害者移到新鲜空气处，保持呼吸通畅，休息。若感不适请求医/就诊。
皮肤接触： 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激或发生皮疹：求医/就诊。
眼睛接触： 用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续清洗。
如果眼睛刺激：求医/就诊。
食入： 若感不适，求医/就诊。漱口。
紧急救助者的防护： 救援者需要穿戴个人防护用品，比如橡胶手套和气密性护目镜。

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模块 5. 消防措施
合适的灭火剂： 干粉，泡沫，雾状水，二氧化碳
特殊危险性： 小心，燃烧或高温下可能分解产生毒烟。
特定方法： 从上风处灭火，根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火：如果安全，移去可移动容器。
消防员的特殊防护用具： 灭火时，一定要穿戴个人防护用品。

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模块 6. 泄漏应急处理
个人防护措施，防护用具， 使用个人防护用品。远离溢出物/泄露处并处在上风处。
紧急措施： 泄露区应该用安全带等圈起来，控制非相关人员进入。
环保措施： 防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料： 清扫收集粉尘，封入密闭容器。注意切勿分散。附着物或收集物应该立即根据合适的
法律法规处置。

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模块 7. 操作处置与储存
处理
技术措施： 在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。防止粉尘扩散。处理后彻底清洗双手
和脸。
注意事项： 如果粉尘或浮质产生，使用局部排气。
操作处置注意事项： 避免接触皮肤、眼睛和衣物。
贮存
储存条件： 保持容器密闭。存放于凉爽、阴暗处。
远离不相容的材料比如氧化剂存放。
光敏
包装材料： 依据法律。

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模块 8. 接触控制和个体防护
工程控制： 尽可能安装封闭体系或局部排风系统，操作人员切勿直接接触。同时安装淋浴器和洗
眼器。
个人防护用品
呼吸系统防护： 防尘面具。依据当地和政府法规。
手部防护： 防护手套。
眼睛防护： 安全防护镜。如果情况需要，佩戴面具。
皮肤和身体防护： 防护服。如果情况需要，穿戴防护靴。

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模块 9. 理化特性
外形（20°C）： 固体
三对甲苯基锍三氟甲烷磺酸盐 修改号码：5

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模块 9. 理化特性
外观： 晶体-粉末
颜色： 白色类白色
气味： 无资料
pH: 无数据资料
熔点：
106°C
沸点/沸程 无资料
闪点： 无资料
爆炸特性
爆炸下限： 无资料
爆炸上限： 无资料
密度： 无资料
溶解度：
[水] 无资料
[其他溶剂]
溶于： 乙醇

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模块 10. 稳定性和反应性
化学稳定性： 一般情况下稳定。
危险反应的可能性： 未报道特殊反应性。
须避免接触的物质 氧化剂
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳, 氟化氢, 硫氧化物

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模块 11. 毒理学信息
急性毒性： 无资料
对皮肤腐蚀或刺激： 无资料
对眼睛严重损害或刺激： 无资料
生殖细胞变异原性： 无资料
致癌性：
IARC = 无资料
NTP = 无资料
生殖毒性： 无资料

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模块 12. 生态学信息
生态毒性：
鱼类： 无资料
甲壳类： 无资料
藻类： 无资料
残留性 / 降解性： 无资料
潜在生物累积 （BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数： 无资料
土壤吸收系数 （Koc）： 无资料
亨利定律 无资料
constaNT(PaM3/mol):

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模块 13. 废弃处置
如果可能，回收处理。请咨询当地管理部门。建议在可燃溶剂中溶解混合，在装有后燃和洗涤装置的化学焚烧炉中
焚烧。废弃处置时请遵守国家、地区和当地的所有法规。
三对甲苯基锍三氟甲烷磺酸盐 修改号码：5

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模块 14. 运输信息
联合国分类： 与联合国分类标准不一致
UN编号： 未列明

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模块 15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》（2002年1月26日国务院发布，2011年2月16日修订）: 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。

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模块16 - 其他信息
N/A

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  三对甲苯基锍三氟甲烷磺酸盐 、 苯酚 在 cesium hydroxide 作用下， 以 1,4-二氧六环 为溶剂， 反应 24.0h， 以77%的产率得到4-甲基二苯基醚
  参考文献：
  名称：

  三芳基ulf三氟甲磺酸盐对醇和苯酚的碱介导的O-芳基化作用。

  摘要：

  在不含过渡金属的条件下，开发了温和有效的三芳基ulf三氟甲磺酸酯进行醇和酚（ROH）芳基化的方案。各种醇，包括在芳基环上带有给电子或吸电子基团的伯，仲和叔醇以及苯酚，可以平稳转化为相应的芳族醚，产率中等至优异。反应在一定的碱存在下于50或80°C进行24小时，并显示出良好的官能团耐受性。不对称的三芳基ulf盐的碱介导的芳基化反应可以选择性地将sulf的芳基转移到ROH上，具体取决于它们固有的电子性质。

  DOI：

  10.1002/asia.201900968
• 作为产物：
  描述：

  4,4’-二甲基二苯硫醚 、 bis(4-methylphenyl)iodonium trifluoromethanesulfonate 以 1,2-二氯乙烷 为溶剂， 反应 15.0h， 以94%的产率得到三对甲苯基锍三氟甲烷磺酸盐
  参考文献：
  名称：

  使用芳基ulf盐作为交叉偶联伙伴的Sonogashira反应

  摘要：

  三芳基ulf，烷基和氟烷基（二芳基）ulf和芳基（二烷基）ulf三氟甲磺酸盐已成功用作Sonogashira反应中的交叉偶联新家族，如芳基重氮盐，二芳基碘鎓盐和四苯基phosph盐。发现末端炔烃在室温下在Pd-和Cu-共催化下与三芳基（或三氟甲磺酸（2,2,2-三氟乙基）二苯基mild轻度反应，以高达> 99％的产率得到相应的芳基炔。该方案代表在Pd / Cu催化的Sonogashira反应中首次使用芳基ulf盐作为交叉偶联伴侣。

  DOI：

  10.1021/acs.orglett.7b02764

文献信息

• Arylation of <i>ortho</i>-Hydroxyarylenaminones by Sulfonium Salts and Arenesulfonyl Chlorides: An Access to Isoflavones
  作者：Satenik Mkrtchyan、Viktor O. Iaroshenko

  DOI：10.1021/acs.joc.0c02294

  日期：2021.4.2

  diversities of bench-stable and easy-to-use sulfonium salts and arenesulfonyl chlorides. Both developed methods, namely the light-mediated photoredox and electrophilic arylation, showed good efficiency, and are feasible for the preparation of 3-arylchromones in good-to-excellent yields. This work showcases the first described attempt where the sulfonium salts and arenesulfonyl chlorides were successfully utilized

  本文中，我们公开了三种新方法，这些方法可通过大量稳定和易于使用的sulf盐和芳烃磺酰氯将邻羟基羟基亚胺基芳基化后，直接有效地合成3-芳基色酮。两种开发的方法，即光介导的光氧化还原和亲电芳基化，均显示出良好的效率，并且对于以良好至优异的产率制备3-芳基色酮是可行的。这项工作展示了首次描述的尝试，其中成功地利用了salts盐和芳烃磺酰氯来构建色酮杂环系统。
• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND, AND ACID GENERATOR
  申请人：HADA Hideo

  公开号：US20120264061A1

  公开（公告）日：2012-10-18

  A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) including a compound represented by (b1-1), a compound represented by (b1-1′) and/or a compound represented by (b1-1″) (R 1 ″-R 3 ″ represents an aryl group or an alkyl group, provided that at least one of R 1 ″-R 3 ″ represents a substituted aryl group being substituted with a group represented by (b1-1-0), and two of R 1 ″-R 3 ″ may be mutually bonded to form a ring with the sulfur atom; X represents a C 3 -C 30 hydrocarbon group; Q 1 represents a carbonyl group-containing divalent linking group; X 10 represents a C 1 -C 30 hydrocarbon group; Q 3 represents a single bond or a divalent linking group; Y 10 represents —C(═O)— or —SO 2 —; Y 11 represents a C 1 -C 10 alkyl group or a fluorinated alkyl group: Q 2 represents a single bond or an alkylene group; and W represents a C 2 -C 10 alkylene group).

  一种抗蚀组合物，包括在酸和酸发生剂组分（B）的作用下，在碱性显影溶液中表现出改变溶解性的基础组分（A），所述酸发生剂组分（B）包括由（b1-1）表示的化合物，由（b1-1'）表示的化合物和/或由（b1-1''）表示的化合物（R1''-R3''表示芳基或烷基，但至少其中一个R1''-R3''表示被(b1-1-0)表示的基团取代的取代芳基，且其中两个R1''-R3''可以相互键合以形成与硫原子形成环的环；X表示C3-C30烃基；Q1表示含有羰基的二价连接基团；X10表示C1-C30烃基；Q3表示单键或二价连接基团；Y10表示—C(═O)—或—SO2—；Y11表示C1-C10烷基或氟代烷基；Q2表示单键或烷基基团；W表示C2-C10烷基基团。
• NOVEL COMPOUND
  申请人：UTSUMI Yoshiyuki

  公开号：US20120149916A1

  公开（公告）日：2012-06-14

  A compound represented by general formula (c1) (R 1 represents an alicyclic group of 5 or more carbon atoms which may have a substituent; X represents a divalent linking group; Y represents a linear, branched or cyclic alkylene group or an arylene group; Rf represents a hydrocarbon group containing a fluorine atom; and M + represents an organic cation or a metal cation).

  一个由一般公式表示的化合物（c1）（R1代表一个含有5个或更多碳原子的脂环基团，可能带有取代基; X代表双价连接基团; Y代表线性、支链或环烷基团或芳基团; Rf代表含有氟原子的烃基团; M+代表有机阳离子或金属阳离子）。
• Resist composition, method of forming resist pattern, novel compound, and acid generator
  申请人：Kawaue Akiya

  公开号：US20100136478A1

  公开（公告）日：2010-06-03

  A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including an acid generator (B1) containing a compound having a cation moiety represented by general formula (I) (in the formula, R 5 represents an organic group having a carbonyl group, an ester bond or a sulfonyl group; and Q represents a divalent linking group).

  一种抗蚀组合物，包括在酸发生剂的作用下在碱性显影溶液中表现出改变溶解度的基础组分（A）和在暴露后产生酸的酸发生剂组分（B），酸发生剂组分（B）包括含有由通式（I）表示的阳离子基团的化合物的酸发生剂（B1）（在该式中，R5代表具有羰基、酯键或磺酰基的有机基团；Q代表二价连接基团）。
• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN AND POLYMERIC COMPOUND
  申请人：Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.

  公开号：US20140221673A1

  公开（公告）日：2014-08-07

  A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the base component (A) containing a polymeric compound (A1) having a structural unit (a5) represented by general formula (a5-0) shown below (R 1 represents a sulfur atom or an oxygen atom; R 2 represents a single bond or a divalent linking group; and Y represents an aromatic hydrocarbon group or an aliphatic hydrocarbon group having a polycyclic group, provided that the aromatic hydrocarbon group or the aliphatic hydrocarbon may have a carbon atom or a hydrogen atom thereof substituted with a substituent.

  一种抗蚀组合物，包括基础组分（A），在酸的作用下在显影溶液中表现出改变的溶解性，以及在暴露后生成酸的酸发生器组分（B），基础组分（A）包含具有下述通用式（a5-0）所示的结构单元（a5）的聚合物化合物（A1）（R1代表硫原子或氧原子；R2代表单键或二价连接基团；Y代表芳香烃基团或具有多环基团的脂肪烃基团，前提是芳香烃基团或脂肪烃基团可以有其中的碳原子或氢原子被取代的取代基）。