3-methyl-2-oxaspiro[4,5]decan-1-yl methacrylate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 氧唑烯
• 英文名称: 3-methyl-2-oxaspiro[4,5]decan-1-yl methacrylate
• 英文别名: 3-methyl-2-oxaspiro[4,5]decan-1-yl acrylate；3-Methyl-2-oxaspiro[4.5]decan-1-yl methacrylate；(3-methyl-2-oxaspiro[4.5]decan-1-yl) 2-methylprop-2-enoate
• 化学式: C₁₄H₂₂O₃
• 分子量: 238.327
• InChiKey: ZMANZLJDUYEAOD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.9
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.79
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  N,1-dicyclohexylmethanimine 在 吡啶 、 2,2'-亚甲基双-(4-甲基-6-叔丁基苯酚) 、 乙基溴化镁 、 溶剂黄146 作用下， 以 四氢呋喃 、 正己烷 、 水 为溶剂， 20.0~50.0 ℃ 、101.33 kPa 条件下， 反应 56.5h， 生成 3-methyl-2-oxaspiro[4,5]decan-1-yl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  Ester compounds and their preparation, polymers, resist compositions and patterning process

  摘要：

  具有式（1）至（4）的新型酯化合物，其中A1是具有碳-碳双键的可聚合官能团，A2是氧，亚甲基或乙烯基，R1是单价的碳氢基团，R2是H或单价的碳氢基团，任何一对R1和/或R2都可以形成脂肪族碳氢环，R3是单价的碳氢基团，n为0至6，这些化合物可以聚合成聚合物。以这些聚合物为基础树脂的抗蚀剂组合物具有热稳定性和对高能辐射的敏感性，具有优异的敏感性和分辨率，并适用于电子束或深紫外线微图案化。

  公开号：

  US07902385B2

文献信息

• ESTER COMPOUNDS AND THEIR PREPARATION, POLYMERS, RESIST COMPOSITIONS AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20110039204A1

  公开（公告）日：2011-02-17

  Novel ester compounds having formulae (1) to (4) wherein A 1 is a polymerizable functional group having a carbon-carbon double bond, A 2 is oxygen, methylene or ethylene, R 1 is a monovalent hydrocarbon group, R 2 is H or a monovalent hydrocarbon group, any pair of R 1 and/or R 2 may form an aliphatic hydrocarbon ring, R 3 is a monovalent hydrocarbon group, and n is 0 to 6 are polymerizable into polymers. Resist compositions comprising the polymers as a base resin are thermally stable and sensitive to high-energy radiation, have excellent sensitivity and resolution, and lend themselves to micropatterning with electron beam or deep-UV.

  具有公式（1）至（4）的新型酯化合物，其中A1是具有碳-碳双键的可聚合官能团，A2是氧、亚甲基或乙烯基，R1是一价碳氢基团，R2是氢或一价碳氢基团，任意一对R1和/或R2可以形成脂环烃环，R3是一价碳氢基团，n为0至6，这些化合物可聚合成聚合物。以这些聚合物为基础树脂的抗蚀剂组合物具有热稳定性和对高能辐射的敏感性，具有优异的敏感性和分辨率，并适用于电子束或深紫外微图案化。
• US7902385B2
  申请人：——

  公开号：US7902385B2

  公开（公告）日：2011-03-08
• US7998657B2
  申请人：——

  公开号：US7998657B2

  公开（公告）日：2011-08-16
• Ester compounds and their preparation, polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：Ohashi Masaki

  公开号：US20080008965A1

  公开（公告）日：2008-01-10

  Novel ester compounds having formulae (1) to (4) wherein A 1 is a polymerizable functional group having a carbon-carbon double bond, A 2 is oxygen, methylene or ethylene, R 1 is a monovalent hydrocarbon group, R 2 is H or a monovalent hydrocarbon group, any pair of R 1 and/or R 2 may form an aliphatic hydrocarbon ring, R 3 is a monovalent hydrocarbon group, and n is 0 to 6 are polymerizable into polymers. Resist compositions comprising the polymers as a base resin are thermally stable and sensitive to high-energy radiation, have excellent sensitivity and resolution, and lend themselves to micropatterning with electron beam or deep-UV.

  具有以下化学式（1）至（4）的新酯化合物，其中A1是具有碳-碳双键的可聚合官能团，A2是氧、亚甲基或乙烯基，R1是一价碳氢基团，R2是氢或一价碳氢基团，任意一对R1和/或R2可能形成脂肪烃环，R3是一价碳氢基团，n为0至6，可聚合成聚合物。作为基础树脂的聚合物组成物具有热稳定性，并对高能辐射敏感，具有出色的敏感度和分辨率，并适用于电子束或深紫外微图案化。