(2-methacryloyloxymethyl-2-adamantyl)methyl methacrylate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: (2-methacryloyloxymethyl-2-adamantyl)methyl methacrylate
• 英文别名: [2-(2-Methylprop-2-enoyloxymethyl)-2-adamantyl]methyl 2-methylprop-2-enoate
• 化学式: C₂₀H₂₈O₄
• 分子量: 332.44
• InChiKey: OQFFQCLAJOCRFH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.1
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.7
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  甲基丙烯酸 、 2,2-bishydroxymethyl adamantane 在 2,2'-亚甲基双-(4-甲基-6-叔丁基苯酚) 、 对甲苯磺酸 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 6.0h， 以16%的产率得到(2-hydroxymethyl-2-adamantyl)methyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  Hydroxyl-containing monomer, polymer, resist composition, and patterning process

  摘要：

  公开号：

  EP2103592B1

文献信息

• HYDROXYL-CONTAINING MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Kinsho Takeshi

  公开号：US20090239179A1

  公开（公告）日：2009-09-24

  A hydroxyl-containing monomer of formula (1) is provided wherein R 1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R 2 and R 3 are monovalent C 1 -C 15 hydrocarbon groups, or R 2 and R 3 may form an aliphatic ring. The monomers are useful for the synthesis of polymers which have high transparency to radiation of up to 500 nm and the effect of controlling acid diffusion so that the polymers may be used as a base resin to formulate radiation-sensitive resist compositions having a high resolution.

  提供了一种含有羟基单体的化学式（1），其中R1为H、F、甲基或三氟甲基，R2和R3为一价的C1-C15烃基，或R2和R3可以形成脂肪环。这些单体可用于合成具有高透射性的聚合物，透射范围高达500纳米，并具有控制酸扩散的效果，因此这些聚合物可用作基础树脂，用于制定具有高分辨率的辐射敏感型光阻组成物。
• US8053165B2
  申请人：——

  公开号：US8053165B2

  公开（公告）日：2011-11-08
• Hydroxyl-containing monomer, polymer, resist composition, and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2103592B1

  公开（公告）日：2015-06-03