1-(7-oxanorbornan-2-yl)cyclopentanol

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1-(7-oxanorbornan-2-yl)cyclopentanol
• 英文别名: 1-(7-oxabicyclo[2.2.1]heptan-2-yl)cyclopentan-1-ol
• 化学式: C₁₁H₁₈O₂
• 分子量: 182.263
• InChiKey: OXOLZTWHBOKBRB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.5
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  29.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(7-oxanorbornan-2-yl)cyclopentanol 、 丙烯酰氯 在 4-二甲氨基吡啶 、 三乙胺 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 1.0h， 以84%的产率得到1-(7-oxanorbornan-2-yl)cyclopentyl acrylate
  参考文献：
  名称：

  Novel ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process

  摘要：

  具有式（1）的新型酯化合物，其中A1是具有双键的可聚合官能团，A2是呋喃基，四氢呋喃基或氧杂-去氢萘二基，R1和R2分别是一价碳氢基团，或者R1和R2可以结合形成带有碳原子的脂肪族碳氢环，R3是氢或可以含有杂原子的一价碳氢基团，可以聚合成聚合物。包含这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有改善的敏感性、分辨率和蚀刻抗性，并且适用于使用电子束或深紫外线进行微图案制作。

  公开号：

  US20040068124A1
• 作为产物：
  描述：

  1,4-二溴丁烷 、 methyl 7-oxabicyclo<2.2.1>heptane-2-carboxylate 在 magnesium 、 水 、 氯化铵 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 1-(7-oxanorbornan-2-yl)cyclopentanol
  参考文献：
  名称：

  Novel ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process

  摘要：

  具有式（1）的新型酯化合物，其中A1是具有双键的可聚合官能团，A2是呋喃基，四氢呋喃基或氧杂-去氢萘二基，R1和R2分别是一价碳氢基团，或者R1和R2可以结合形成带有碳原子的脂肪族碳氢环，R3是氢或可以含有杂原子的一价碳氢基团，可以聚合成聚合物。包含这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有改善的敏感性、分辨率和蚀刻抗性，并且适用于使用电子束或深紫外线进行微图案制作。

  公开号：

  US20040068124A1

文献信息

• ACID-LABILE ESTER MONOMER HAVING SPIROCYCLIC STRUCTURE, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Kinsho Takeshi

  公开号：US20100304295A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  An acid-labile ester monomer of spirocyclic structure has formula (1) wherein Z is a monovalent group having a polymerizable double bond, X is a divalent group which forms a cyclopentane, cyclohexane or norbornane ring, R 2 is H or monovalent hydrocarbon, R 3 and R 4 are H or monovalent hydrocarbon, or R 3 and R 4 , taken together, stand for a divalent group which forms a cyclopentane or cyclohexane ring, and n is 1 or 2. A polymer obtained from the acid-labile ester monomer has so high reactivity in acid-catalyzed elimination reaction that the polymer may be used to formulate a resist composition having high resolution.

  一种酸敏感酯单体具有螺环结构，其化学式如下（1），其中Z是具有可聚合双键的一价基团，X是形成环戊烷、环己烷或诺邦烷环的二价基团，R2是H或一价碳氢基团，R3和R4是H或一价碳氢基团，或者R3和R4一起表示形成环戊烷或环己烷环的二价基团，n为1或2。从酸敏感酯单体获得的聚合物在酸催化消除反应中具有很高的反应性，因此可以用于制备具有高分辨率的抗蚀组合物。
• Ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US07132215B2

  公开（公告）日：2006-11-07

  Novel ester compounds having formula (1) wherein A1 is a polymerizable functional group having a double bond, A2 is furandiyl, tetrahydrofurandiyl or oxanorbornanediyl, R1 and R2 each are a monovalent hydrocarbon group, or R1 and R2 may bond together to form an aliphatic hydrocarbon ring with the carbon atom, and R3 is hydrogen or a monovalent hydrocarbon group which may contain a hetero atom are polymerizable into polymers. Resist compositions comprising the polymers are sensitive to high-energy radiation, have an improved sensitivity, resolution, and etching resistance, and lend themselves to micropatterning with electron beams or deep-UV rays.

  具有式（1）的新型酯化合物，其中A1是具有双键的可聚合官能团，A2是呋喃基，四氢呋喃基或氧杂莽环基，R1和R2各自是一价的碳氢基团，或者R1和R2可以结合形成带有碳原子的脂肪族碳氢环，R3是氢或者可能含有杂原子的一价碳氢基团，可以聚合成聚合物。含有这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有更好的敏感度、分辨率和蚀刻抵抗性，并适用于电子束或深紫外线微细图案化。
• Movel photoacid generators, resist compositons, and patterning processes
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2033966A2

  公开（公告）日：2009-03-11

  Photoacid generators generate sulfonic acids of formula (1a) or (1c) upon exposure to high-energy radiation.         R1-COOCH(CF3)CF2SO3-H+     (1a)         R1-O-COOCH(CF3)CF2SO3-H+     (1c) R1 is a C20-C50 hydrocarbon group having a steroid structure. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.

  光酸发生器在受到高能辐射后会生成式 (1a) 或 (1c) 的磺酸。 R1-COOCH(CF3)CF2SO3-H+ (1a) R1-O-COOCH(CF3)CF2SO3-H+ (1c) R1 是具有类固醇结构的 C20-C50 碳氢基团。光酸发生器与树脂兼容，可以控制酸扩散，因此适合用于化学放大抗蚀剂组合物。
• US7132215B2
  申请人：——

  公开号：US7132215B2

  公开（公告）日：2006-11-07
• US8791288B2
  申请人：——

  公开号：US8791288B2

  公开（公告）日：2014-07-29