(2,4-dinitrophenyl)(phenyl)methanol

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: (2,4-dinitrophenyl)(phenyl)methanol
• 英文别名: (2,4-Dinitrophenyl)-phenylmethanol
• 化学式: C₁₃H₁₀N₂O₅
• 分子量: 274.233
• InChiKey: RUZGTCHRVGWOGA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  112
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  吲哚啉 、 (2,4-dinitrophenyl)(phenyl)methanol 在 四乙基碘化铵 、 溶剂黄146 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 24.0h， 以61%的产率得到(2-((1H-indol-1-yl)amino)-4-nitrophenyl)(phenyl)methanone
  参考文献：
  名称：

  邻硝基苯甲醇和二氢吲哚的光诱导 N-N 偶联得到 N-Aryl-1-氨基吲哚

  摘要：

  通过光诱导N-N偶联反应建立了一种合成N-芳基-1-氨基吲哚的新方法。该协议是在 TEAI 和乙酸存在下用 24 W 紫外 (UV) 发光二极管 (LED) (385–405 nm) 照射处理邻硝基苄醇和二氢吲哚。带有醛基的产物可以进一步转化为基于罗丹明 6G 衍生物11 的荧光探针，显示出对 Fe 3+的高度特异性和灵敏度。

  DOI：

  10.1021/acs.orglett.1c02227
• 作为产物：
  描述：

  2,4-二硝基苯甲醛 、 苯硼酸 在 1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene 、 air 、 sodium acetate 、 copper(II) acetate monohydrate 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 以89%的产率得到(2,4-dinitrophenyl)(phenyl)methanol
  参考文献：
  名称：

  乙酸铜（II）催化芳基硼酸加成到芳香醛中

  摘要：

  已经开发了用于合成甲醇衍生物的新颖的铜催化方案。在乙酸铜（II）和dppf的存在下，通过将芳族硼酸加成到芳族醛中来制备甲醇衍生物，收率很好。此外，在这些转换中不需要严格排除空气或湿气。

  DOI：

  10.1021/jo802225j

文献信息

• Copper(II) Acetate-Catalyzed Addition of Arylboronic Acids to Aromatic Aldehydes
  作者：Hanmei Zheng、Qiang Zhang、Jiuxi Chen、Miaochang Liu、Shuanghua Cheng、Jinchang Ding、Huayue Wu、Weike Su

  DOI：10.1021/jo802225j

  日期：2009.1.16

  A novel copper-catalyzed protocol for the synthesis of carbinol derivatives has been developed. In the presence of copper(II) acetate and dppf, carbinol derivatives were prepared by the addition of arylboronic acids to aromatic aldehydes in good to excellent yields. Moreover, the rigorous exclusion of air or moisture is not required in these transformations.

  已经开发了用于合成甲醇衍生物的新颖的铜催化方案。在乙酸铜（II）和dppf的存在下，通过将芳族硼酸加成到芳族醛中来制备甲醇衍生物，收率很好。此外，在这些转换中不需要严格排除空气或湿气。
• From <i>in vitro</i> to <i>in cellulo</i>: structure–activity relationship of (2-nitrophenyl)methanol derivatives as inhibitors of PqsD in <i>Pseudomonas aeruginosa</i>
  作者：Michael P. Storz、Giuseppe Allegretta、Benjamin Kirsch、Martin Empting、Rolf W. Hartmann

  DOI：10.1039/c4ob00707g

  日期：——

  More than 60 derivatives of (2-nitrophenyl)methanol were synthesized and evaluated regarding their potency to inhibit PqsD. In vitro and in cellulo structure–activity relationships were derived.

  超过60种(2-硝基苯基)甲醇衍生物被合成并评估其抑制PqsD的效力。得出了体外和体内结构-活性关系。
• 一种N-(2-芳基甲醛)-1-氨基吲哚衍生物及其合成方法与应用
  申请人：湖南大学

  公开号：CN113548998B

  公开（公告）日：2022-05-31

  本发明公开了一种N‑(2‑芳基甲醛)‑1‑氨基吲哚衍生物及其合成方法及应用，以吲哚啉类化合物和邻硝基苄醇类化合物为主要原料，以醋酸为酸，四乙基碘化铵为添加剂，二氯甲烷为溶剂，在室温下使用385‑405nm紫外光照射，反应24h后得到N‑(2‑芳基甲醛)‑1‑氨基吲哚衍生物。该方法具有成本低，产率较高，操作简便，无金属和光催化剂，绿色环保等优点，具有潜在的工业应用前景；同时也揭示了一类基于醛基修饰的N‑(2‑取代苯基)‑1‑氨基吲哚衍生物荧光探针及其合成方法，具有简单易于操作，产率较高，所得荧光探针具有高效灵敏的特点。
• Verfahren zur Herstellung von Abbildungen
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0155231A2

  公开（公告）日：1985-09-18

  Ein positiv arbeitender Photolack wird galvanisch auf einem Substrat abgeschieden, der Einwirkung eines vorbestimmten Musters aktinischer Strahlung ausgesetzt und anschliessend entwickelt. Die belichteten- Stellen werden durch Kontakt mit dem Entwickler entfernt. Ist das Substrat ein metallkaschiertes Laminat, so kann die freigelegte Metalloberfläche weggeätzt werden. Der restliche Lack wird anschliessend durch erneuten Kontakt mit einem Lösungsmittel, gegebenenfalls nach einer weiteren Belichtung, entfernt. Geeignete galvanisch abscheidbare Photolacke sind o-Nitrocarbinolester, o-Nitrocarbinolacetale, deren Polyester oder endgruppenverkappte Derivate; auch Chinondiazidsulfonylester phenolischer Novolake, die salzbildende Gruppen, insbesondere Carboxyl- oder Aminogruppen, im Molekül aufweisen, zählen zu diesen Photolakken. Das Verfahren eignet sich zur Herstellung von Druckplatten oder von gedruckten Schaltungen. Insbesondere gedruckte Schaltungen, die auf beiden Seiten eines Laminates aufgebracht werden und die durch Metallbrücken in der Leiterplatte miteinander verbunden sind, lassen sich mit dem Verfahren herstellen.

  将正极光刻胶电镀到基底上，暴露在预定模式的光辐射下，然后进行显影。通过与显影剂接触，可去除暴露的区域。 如果基底是金属覆层，则可蚀刻掉暴露的金属表面。如有必要，在进一步曝光后，再与溶剂接触，将剩余的漆去除。适用的电沉积光致抗蚀剂包括邻硝基甲醇酯、邻硝基甲醇乙缩醛、它们的聚酯或端封衍生物；分子中含有成盐基团，特别是羧基或氨基的酚醛新醇的醌重氮化物磺酰酯也属于此类光致抗蚀剂。 该工艺适用于印制板或印刷电路的生产。特别是，可以使用该工艺生产印制电路板，这些电路板被应用于层压板的两面，并通过印制电路板中的金属桥相互连接。
• Copolymerisate mit 0-Nitrocarbinolestergruppierungen und deren Verwendung
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0271010A2

  公开（公告）日：1988-06-15

  Die Erfindung betrifft Copolymerisate mit o-Nitrocarbinolestergruppierungen und deren Verwendung. Die erfindungsgemäßen Copolymerisate enthalten 5 bis 50 Mol.% Monomere mit o-Nitrocarbinolestergruppierungen, 95 bis 50 Mol.% O-substituiertes p-Hydroxistyrol, sowie 0 bis 30 Mol.% anderer copolymerisierbarer Monomerer. Sie eignen sich als Photoresiste.

  本发明涉及具有邻硝基甲醇酯基团的共聚物及其用途。 根据本发明的共聚物含有 5 至 50 摩尔%的邻硝基甲醇酯基团单体、95 至 50 摩尔%的 O-取代对羟基苯乙烯和 0 至 30 摩尔%的其他可共聚单体。 它们适合用作光致抗蚀剂。