全氟辛基磺酰胺丙基三甲基铵碘化物 | 1652-63-7

• 物质功能分类: 有机原料 - 烃类化合物及其衍生物 - 烃类卤化物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 卤代烷
• 中文名称: 全氟辛基磺酰胺丙基三甲基铵碘化物
• 中文别名: 全氟辛基季胺碘化物；3-[[(十七烷氟辛基)磺酰]氨基]-N,N,N-三甲基-1-丙铵碘化物；全氟辛烷基季铵碘化物；N,N-二甲基-3-全氟辛基磺酰胺基丙基铵盐碘化物；全氟辛基季铵碘化物；FC-134；全氟烷基磺酰胺基季铵盐碘化物；FC-135
• 英文名称: (3-(((Heptadecafluorooctyl)sulphonyl)amino)propyl)trimethylammonium iodide
• 英文别名: 3-(1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-heptadecafluorooctylsulfonylamino)propyl-trimethylazanium;iodide
• CAS: 1652-63-7
• 化学式: C14H16F17IN2O2S
• 分子量: 726.23
• InChiKey: MLIMEVJPZQAQQE-UHFFFAOYSA-M

物化性质

• 熔点：
  274 °C (dec.)
• 密度：
  1,6 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.97
• 重原子数：
  37
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  54.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  21

安全信息

• 危险品标志：
  Xi
• WGK Germany：
  1
• RTECS号：
  FJ5950000
• 海关编码：
  2942000000
• 安全说明：
  S24/25
• 危险类别码：
  R36/37/38

制备方法与用途

氟辛基季胺碘化物（FC-134）与DNA相互作用的研究

氟辛基季胺碘化物（FC-134）作为共振光散射探针，被用于研究其与DNA之间的相互作用。尽管FC-134本身具有较弱的光散射信号，但当它与核酸结合后，光散射信号显著增强，并且共振光散射强度与DNA浓度成正比关系。基于此特性，研究人员建立了测定DNA的方法，并优化了相关条件，使其能够有效用于合成样品的分析。

氟辛基季胺碘化物（FC-134）的应用

氟辛基季胺碘化物是一种全氟阳离子表面活性剂，因其显著降低表面张力的特性，在酸、碱及中性介质中均表现出良好的活性。它广泛用于多种应用领域，包括润湿剂、铺展剂、匀染剂、轻水型灭火剂、胶片涂布剂以及电子波峰助焊剂等。此外，该物质还可作为纤维、纸张、皮革等材料的疏水疏油及防垢处理剂。

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  N-[3-(二甲基氨基)丙基]十七氟辛烷磺酰胺 、 碘甲烷 生成 全氟辛基磺酰胺丙基三甲基铵碘化物
  参考文献：
  名称：

  OHTOSHI, SACHIO, SEHKIYU GAKKAJSI, 32,(1989) N, S. 277-285

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Method for treating metallic or ceramic surfaces at high temperatures
  申请人：TEIJIN LIMITED

  公开号：EP0102240A2

  公开（公告）日：1984-03-07

  A novel method is provided for treating metallic or ceramic surfaces (hot plates, metallic molds and the likel at a high temperature of 200°C or above, wherein organic treating agents (finishes, release agents and the like) will not form a tar or sludge. According to this method, the continuous operation can be conducted due to neither stanining on the metallic surfaces nor stop of the machine for a heater cleaning. Examples of the organic treating agents to be used include a polyalkylene glycol thermally decomposable at 150°C or above in air and a fluorine-containing compound, preferably the nonionic type, having a fluoroalkyl group in the molecule.

  本发明提供了一种在 200°C 或以上高温下处理金属或陶瓷表面（热板、金属模具等）的新方法，其中有机处理剂（整理剂、脱模剂等）不会形成焦油或污泥。根据这种方法，既不会在金属表面形成污垢，也不会因清洗加热器而停机，因此可以进行连续操作。可使用的有机处理剂包括可在 150°C 或更高温度下在空气中热分解的聚亚烷基二醇，以及分子中含有氟烷基的含氟化合物（最好是非离子型）。
• ETCHANT FOR SILICON WAFER SURFACE SHAPE CONTROL AND METHOD FOR MANUFACTURING SILICON WAFERS USING THE SAME
  申请人：Koyata Sakae

  公开号：US20090042390A1

  公开（公告）日：2009-02-12

  It is possible to reduce workloads of a both-side simultaneous polishing process or a single-side polishing process, and to achieve both of the maintenance of the wafer flatness and the reduction in wafer front side roughness upon completing a flattening process. A method for manufacturing silicon wafers according to the present invention includes a flattening process 13 of grinding or lapping front and back sides of a thin disc-shaped silicon wafer obtained by slicing a silicon single crystal ingot, an etching process of immersing the silicon wafer in an etchant for controlling a silicon wafer surface shape in which a fluorochemical surfactant is uniformly mixed in an alkaline aqueous solution to etch the front and back sides of the silicon wafer, and a both-side simultaneous polishing process 16 of simultaneously polishing the front and back sides of the etched silicon wafer or a single-side polishing process of polishing the front and back sides of the etched wafer for every side, in this order.
• SURFACE LAYER
  申请人：XEROX CORPORATION

  公开号：US20140154502A1

  公开（公告）日：2014-06-05

  There is described a surface layer or coating of a fluoropolymer. Dispersed in the fluoropolymer is a compound of the formula: wherein R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 each, independently of the others, are —H, alkyl, aryl, arylalkyl, or alkylaryl, R is a group of the formula —COOH, —COOM, —R 5 —COOH, —R 5 —COOM, —X—R 5 —COOH, or —X—R 5 —COOM wherein X and R 5 are as defined herein, M is a cationic metal, A represents a saccharide monomer repeating unit having one or more R groups, B represents a saccharide monomer repeating unit having no R groups, m is an integer representing the number of repeating A units, and n is an integer representing the number of repeating B units.
• US4344993A
  申请人：——

  公开号：US4344993A

  公开（公告）日：1982-08-17
• US4374924A
  申请人：——

  公开号：US4374924A

  公开（公告）日：1983-02-22