1-(2-adamantyloxy)-2-methylpropylmethacrylate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 1-(2-adamantyloxy)-2-methylpropylmethacrylate
• 英文别名: [1-(2-Adamantyloxy)-2-methylpropyl] 2-methylprop-2-enoate
• 化学式: C₁₈H₂₈O₃
• 分子量: 292.419
• InChiKey: DUIIVGRJQUQGDY-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.8
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-金刚烷醇 在 盐酸 、 2,2'-亚甲基双-(4-甲基-6-叔丁基苯酚) 、 potassium tert-butylate 、 sodium hydride 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 正己烷 、 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 21.0h， 生成 1-(2-adamantyloxy)-2-methylpropylmethacrylate
  参考文献：
  名称：

  아세탈 화합물, 그의 제조 방법, 고분자 화합물, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법

  摘要：

  本发明提供一种由式1表示的缩醛化合物。<式1>（其中R1代表氢原子、甲基或三氟甲基，R2代表碳原子数为1至10的直链、支链或环状一价烃基，R3和R4各自独立地代表氢原子或碳原子数为1至10的直链、支链或环状一价烃基、R2和R3可键合在一起，与所键合的碳原子形成脂族烃环，X1可为单键或碳原子数为1至4的直链或支链二价烃基。)本发明的抗蚀剂材料，特别是化学放大正极抗蚀剂材料，在微加工技术，特别是氩焰光刻技术中具有非常高的分辨率，对精密微加工非常有用。 缩醛化合物缩醛化合物制备方法聚合物化合物抗蚀剂材料图案形成方法。

  公开号：

  KR101532099B1

文献信息

• ACETAL COMPOUNDS AND THEIR PREPARATION, POLYMERS, RESIST COMPOSITIONS AND PATTERNING PROCESS
  申请人：HASEGAWA Koji

  公开号：US20100136485A1

  公开（公告）日：2010-06-03

  An acetal compound of formula (1) is provided wherein R 1 is H, methyl or trifluoromethyl, R 2 is a monovalent C 1 -C 10 hydrocarbon group, R 3 and R 4 are H or a monovalent C 1 -C 10 hydrocarbon group, R 2 and R 3 may together form an aliphatic hydrocarbon ring, and X 1 is a single bond or a divalent C 1 -C 4 hydrocarbon group. A polymer comprising recurring units derived from the acetal compound is used as a base resin to formulate a resist composition which exhibits a high resolution when processed by micropatterning technology, especially ArF lithography.

  提供了一个式为（1）的缩醛化合物，其中R1为H、甲基或三氟甲基，R2为一价的C1-C10烃基，R3和R4为H或一价的C1-C10烃基，R2和R3可能共同形成脂肪烃环，X1为单键或二价的C1-C4烃基。由这种缩醛化合物衍生的重复单位构成的聚合物被用作基础树脂，制备耐光刻蚀性能高的光刻胶组合物，特别适用于微细图案技术处理，尤其是ArF光刻技术。
• US8420290B2
  申请人：——

  公开号：US8420290B2

  公开（公告）日：2013-04-16
• 아세탈 화합물, 그의 제조 방법, 고분자 화합물, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤(519980708960)

  公开号：KR101532099B1

  公开（公告）日：2015-06-26

  본 발명은 화학식 1로 표시되는 아세탈 화합물을 제공한다. <화학식 1> (식 중, R1은 수소 원자, 메틸기 또는 트리플루오로메틸기를 나타내고, R2는 탄소수 1 내지 10의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 1가 탄화수소기를 나타내고, R3, R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 10의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 1가 탄화수소기를 나타내고, R2와 R3은 서로 결합하여 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께 지방족 탄화수소환을 형성할 수도 있으며, X1은 단결합 또는 탄소수 1 내지 4의 직쇄상 또는 분지상의 2가 탄화수소기를 나타낸다.) 본 발명의 레지스트 재료, 특히 화학 증폭 포지티브형 레지스트 재료는 미세 가공 기술, 특히 ArF 리소그래피 기술에 있어서 매우 높은 해상성을 가지고, 정밀한 미세 가공에 매우 유용하다. 아세탈 화합물 아세탈 화합물의 제조 방법 고분자 화합물 레지스트 재료 패턴 형성 방법.

  本发明提供一种由式1表示的缩醛化合物。<式1>（其中R1代表氢原子、甲基或三氟甲基，R2代表碳原子数为1至10的直链、支链或环状一价烃基，R3和R4各自独立地代表氢原子或碳原子数为1至10的直链、支链或环状一价烃基、R2和R3可键合在一起，与所键合的碳原子形成脂族烃环，X1可为单键或碳原子数为1至4的直链或支链二价烃基。)本发明的抗蚀剂材料，特别是化学放大正极抗蚀剂材料，在微加工技术，特别是氩焰光刻技术中具有非常高的分辨率，对精密微加工非常有用。 缩醛化合物缩醛化合物制备方法聚合物化合物抗蚀剂材料图案形成方法。