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1-ethylcyclohexyl propanoate

中文名称
——
中文别名
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英文名称
1-ethylcyclohexyl propanoate
英文别名
(1-Ethylcyclohexyl) propanoate
1-ethylcyclohexyl propanoate化学式
CAS
——
化学式
C11H20O2
mdl
——
分子量
184.279
InChiKey
OSHVQSVNEAHGSP-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.1
  • 重原子数:
    13
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.91
  • 拓扑面积:
    26.3
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    环己酮4-二甲氨基吡啶 、 12 % Pd/C 、 氢气sodium methylate三乙胺 作用下, 以 四氢呋喃1,4-二氧六环 为溶剂, 57.0 ℃ 、2.0 MPa 条件下, 反应 115.0h, 生成 1-ethylcyclohexyl propanoate
    参考文献:
    名称:
    [EN] ETHERS AND ESTERS OF 1-SUBSTITUTED CYCLOALKANOLS FOR USE AS AROMA CHEMICALS
    [FR] ÉTHERS ET ESTERS DE CYCLOALCANOLS SUBSTITUÉS EN POSITION 1 DESTINÉS À ÊTRE UTILISÉS EN TANT QUE PRODUITS CHIMIQUES AROMATIQUES
    摘要:
    本发明涉及使用1-取代环烷醇的醚或酯,或两种或两种以上的1-取代环烷醇的醚或酯的混合物,或其立体异构体,或两种或两种以上的其立体异构体作为香气化学品的用途;用于修改香味组合物的气味特性;以及含有1-取代环烷醇的醚或酯,或两种或两种以上的1-取代环烷醇的醚或酯的混合物,或其立体异构体,或两种或两种以上的其立体异构体的香气化学品组合物;以及制备香味组合物或修改香味组合物的气味特性的方法。该发明还涉及特定的1-取代环烷醇的醚或酯。
    公开号:
    WO2020079007A1
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文献信息

  • CYCLIC COMPOUND, PHOTORESIST BASE MATERIAL AND PHOTORESIST COMPOSITION
    申请人:Shibata Mitsuru
    公开号:US20100190107A1
    公开(公告)日:2010-07-29
    A cyclic compound shown by the following formula (I):
    一个由以下公式(I)所示的环状化合物:
  • SULFONIUM SALT, PHOTO-ACID GENERATOR, AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
    申请人:Suzuki Issei
    公开号:US20110300482A1
    公开(公告)日:2011-12-08
    There is provided a sulfonium salt having high photosensitivity to the i-line. The invention relates to a sulfonium salt represented by formula (1) described below: [in formula (1), R 1 to R 6 each independently represent an alkyl group, a hydroxy group, an alkoxy group, an alkylcarbonyl group, an arylcarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an arylthiocarbonyl group, an acyloxy group, an arylthio group, an alkylthio group, an aryl group, a heterocyclic hydrocarbon group, an aryloxy group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a hydroxy(poly) alkyleneoxy group, an optionally substituted amino group, a cyano group, a nitro group, or a halogen atom, m 1 to m 6 each represent the number of occurrences of each of R 1 to R 6 , m 1 , m 4 , and m 6 each represent an integer of 0 to 5, m 2 , m 3 , and m 5 each represent an integer of 0 to 4, and X − represents a monovalent polyatomic anion].
    提供了一种具有对i线高光敏度的磺鎓盐。本发明涉及一种由下式(1)表示的磺鎓盐:[在式(1)中,R1至R6各自独立地表示烷基、羟基、烷氧基、烷基羰基、芳基羰基、烷氧羰基、芳氧羰基、芳基硫代羰基、酰氧基、芳基硫基、烷基硫基、芳基、杂环碳氢基、芳氧基、烷基亚砜基、芳基亚砜基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、羟基(聚)烷氧基、可选取代的氨基、氰基、硝基或卤素原子,m1至m6各自表示R1至R6的出现次数,其中m1、m4和m6各自表示0至5的整数,m2、m3和m5各自表示0至4的整数,X-表示单价多原子阴离子]。
  • ETHERS AND ESTERS OF 1-SUBSTITUTED CYCLOALKANOLS FOR USE AS AROMA CHEMICALS
    申请人:BASF SE
    公开号:EP3640234A1
    公开(公告)日:2020-04-22
    The present invention relates to the use of an ether or an ester of a 1-substituted cycloalkanol or of mixtures of two or more ethers or esters of 1-substituted cycloalkanols or of a stereoisomer thereof or of a mixture of two or more stereoisomers thereof as aroma chemicals; to the use thereof for modifying the scent character of a fragranced composition; to an aroma chemical composition containing an ether or an ester of a 1-substituted cycloalkanol or of mixtures of two or more ethers or esters of 1-substituted cycloalkanols or of a stereoisomer thereof or of a mixture of two or more stereoisomers thereof; and to a method of preparing a fragranced composition or for modifying the scent character of a fragranced composition. The invention further relates to specific ethers or esters of 1-substituted cycloalkanols.
    本发明涉及一种 1-取代环烷醇的醚或酯或两种或两种以上 1-取代环烷醇的醚或酯的混合物或其立体异构体或其两种或两种以上立体异构体的混合物作为芳香化学品的用途;涉及其用于改变芳香组合物的香味特征;一种香料化学组合物,其中含有 1-取代环烷醇的醚或酯,或两种或两种以上 1-取代环烷醇的醚或酯的混合物,或其立体异构体,或其两种或两种以上立体异构体的混合物;以及一种制备香料组合物或改变香料组合物香味特征的方法。 本发明还涉及 1-取代环烷醇的特定醚或酯。
  • Hard-mask forming composition and method for manufacturing electronic component
    申请人:TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
    公开号:US11248086B2
    公开(公告)日:2022-02-15
    A hard-mask forming composition, which is used for forming a hard mask used in lithography, including a first resin and a second resin, in which an amount of carbon contained in the first resin is 85% by mass or more with respect to the total mass of all elements constituting the first resin, and the amount of carbon contained in the second resin is 70% by mass or more with respect to the total mass of all elements constituting the second resin and less than the amount of carbon contained in the first resin.
    一种硬掩模成型组合物,用于成型光刻中使用的硬掩模,包括第一树脂和第二树脂,其中第一树脂中的碳含量占构成第一树脂的所有元素总质量的 85% 或以上,第二树脂中的碳含量占构成第二树脂的所有元素总质量的 70% 或以上,且低于第一树脂中的碳含量。
  • CATHODE SUBSTRATE
    申请人:Misumi Koichi
    公开号:US20090123838A1
    公开(公告)日:2009-05-14
    A cathode substrate which enables achievement of a battery having a high output voltage and a high energy density, and being superior in charge and discharge cycle characteristics; a secondary cell in which the cathode substrate is used; a resin composition for use in forming the cathode substrate; and a method for producing the cathode substrate are provided. According to cathode substrate 10 including metal film 13 formed on support 11 provided with patterned organic film 12 molded by a thermal imprint process or a photoimprint process, a battery having a high output voltage and a high energy density, and being superior in charge and discharge cycle characteristics can be provided.
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