3-(isopropylimino)-2-methylbutan-2-ol

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 3-(isopropylimino)-2-methylbutan-2-ol
• 英文别名: 3-(Isopropylimino)-2-methylbutan-2-ol；2-methyl-3-propan-2-yliminobutan-2-ol
• 化学式: C₈H₁₇NO
• 分子量: 143.229
• InChiKey: MHWYDPHNJIHGJA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.8
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.88
• 拓扑面积：
  32.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-(isopropylimino)-2-methylbutan-2-ol 、 iron(II) chloride 在 potassium hydride 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 19.0h， 以68%的产率得到bis(3-(isopropylimino)-2-methylbutan-2-olate)iron(II) dimer
  参考文献：
  名称：

  Synthesis and characterization of first row transition metal complexes containing α-imino alkoxides as precursors for deposition of metal films

  摘要：

  公式（I）描述了一种通过与还原剂反应形成金属的化合物，其中M是周期表2至12族中选择的金属；而R1、R2、R3和R4分别独立地是H或C1-C8烷基。

  公开号：

  US09758866B2
• 作为产物：
  描述：

  3-羟基-3-甲基-2-丁酮 、 异丙胺 以 苯 为溶剂， 60.0 ℃ 、889.26 Pa 条件下， 反应 18.0h， 以to afford L1H as a colorless liquid (2.270 g, 81%)的产率得到3-(isopropylimino)-2-methylbutan-2-ol
  参考文献：
  名称：

  Synthesis And Characterization Of First Row Transition Metal Complexes Containing a-Imino Alkoxides As Precursors For Deposition Of Metal Films

  摘要：

  一种用于通过与还原剂反应形成金属的化合物，其化学式（I）如下：其中，M是周期表2至12组中选择的金属；R1、R2、R3和R4各自独立地为H或C1-C8烷基。

  公开号：

  US20140227444A1

文献信息

• METAL ALKOXIDE COMPOUND, THIN-FILM-FORMING MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM, AND ALCOHOL COMPOUND
  申请人：ADEKA CORPORATION

  公开号：US20150175642A1

  公开（公告）日：2015-06-25

  Disclosed is a metal alkoxide compound having physical properties suitable for a material for forming thin films by CVD, and particularly, a metal alkoxide compound having physical properties suitable for a material for forming metallic-copper thin films. A metal alkoxide compound is represented by general formula (I). A thin-film-forming material including the metal alkoxide compound is described as well. (In the formula, R 1 represents a methyl group or an ethyl group, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 3 represents a C 1-3 linear or branched alkyl group, M represents a metal atom or a silicon atom, and n represents the valence of the metal atom or silicon atom.

  揭示了一种具有适合用于CVD形成薄膜材料的物理性质的金属烷氧化物化合物，特别是一种具有适合用于形成金属铜薄膜材料的金属烷氧化物化合物。金属烷氧化物化合物由通式（I）表示。还描述了包括金属烷氧化物化合物的薄膜形成材料。（在公式中，R1代表甲基基团或乙基基团，R2代表氢原子或甲基基团，R3代表C1-3直链或支链烷基基团，M代表金属原子或硅原子，n代表金属原子或硅原子的价。
• Synthesis And Characterization Of First Row Transition Metal Complexes Containing a-Imino Alkoxides As Precursors For Deposition Of Metal Films
  申请人：WAYNE STATE UNIVERSITY

  公开号：US20140227444A1

  公开（公告）日：2014-08-14

  A compound that is useful for forming a metal by reaction with a reducing agent is described by formula (I): wherein M is a metal selected from Groups 2 through 12 of the Periodic Table; and R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are each independently H or C 1 -C 8 alkyl.

  一种用于通过与还原剂反应形成金属的化合物，其化学式（I）如下：其中，M是周期表2至12组中选择的金属；R1、R2、R3和R4各自独立地为H或C1-C8烷基。
• Synthesis and characterization of first row transition metal complexes containing α-imino alkoxides as precursors for deposition of metal films
  申请人：Wayne State University

  公开号：US09758866B2

  公开（公告）日：2017-09-12

  A compound that is useful for forming a metal by reaction with a reducing agent is described by formula (I): wherein M is a metal selected from Groups 2 through 12 of the Periodic Table; and R1, R2, R3, and R4 are each independently H or C1-C8 alkyl.

  公式（I）描述了一种通过与还原剂反应形成金属的化合物，其中M是周期表2至12族中选择的金属；而R1、R2、R3和R4分别独立地是H或C1-C8烷基。