3-methylene-1-oxaspiro[4.5]decane-2,6-dione

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 3-methylene-1-oxaspiro[4.5]decane-2,6-dione
• 英文别名: 3-Methylidene-1-oxaspiro[4.5]decane-2,6-dione；3-methylidene-1-oxaspiro[4.5]decane-2,6-dione
• 化学式: C₁₀H₁₂O₃
• 分子量: 180.203
• InChiKey: XZHFEBLNADNGJD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.2
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.6
• 拓扑面积：
  43.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  cis-1,2-cyclohexane 、 2-(羟甲基)丙烯酸甲酯 在 十二羰基三钌 、 1-金刚烷甲酸 、 1,3-双(二苯基膦)丙烷 作用下， 以 间二甲苯 为溶剂， 反应 20.0h， 以59%的产率得到3-methylene-1-oxaspiro[4.5]decane-2,6-dione
  参考文献：
  名称：

  钌催化丙烯酸酯与二醇和α-羟基羰基化合物的羟基烷基化形成螺-和α-亚甲基-γ-丁内酯

  摘要：

  在钌(0)-催化的氢羟烷基化条件下，邻二醇1a-1l和丙烯酸甲酯2a以良好至极好的产率转化为相应的内酯3a-3l。丙烯酸甲酯 2a 与氢安​​息香 1f、安息香二脱氢-1f 和苄基四脱氢-1f 的反应形成相同的内酯 3f 产物，表明该过程可以以与氧化还原水平无关的方式部署。多种取代的丙烯酸酯 2a-2h 参与了螺内酯的形成，如 N-苄基-3-羟基吲哚 1o 向环加合物 4a-4h 的转化所示。羟基取代的甲基丙烯酸酯 2i 与二醇 1b、1f、1j 和 1l 的羟基烷基化形成 α-外型-亚甲基-γ-丁内酯 5b、5f、5j 和 5l，收率中等至良好。一个催化循环涉及 1, 假设 2-二羰基丙烯酸酯氧化偶联形成氧杂环戊二烯环中间体。通过单晶 X 射线衍射表征了具有催化能力的单核钌 (II) 配合物。使用对位取代的 1-苯基-1,2-丙二醇 1g、1m 和 1n 以及密度泛函理论计算，探讨了电子

  DOI：

  10.1021/ja410533y

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, POLYMER AND COMPOUND
  申请人：JSR Corporation

  公开号：US20130216951A1

  公开（公告）日：2013-08-22

  A radiation-sensitive resin composition includes a polymer, an acid generating agent, and an organic solvent. The polymer includes a first structural unit derived from a compound represented by a formula (1), and a second structural unit derived from a compound represented by a formula (2). R 1 represents an organic group having a valency of (a+2) that represents a ring structure having 3 to 8 carbon atoms together with the carbon atom constituting a lactone ring. R 2 represents a fluorine atom, a hydroxyl group, an organic group having 1 to 20 carbon atoms or the like.

  一种辐射敏感的树脂组合物，包括聚合物、产生酸的剂和有机溶剂。聚合物包括从公式（1）表示的化合物衍生的第一结构单元和从公式（2）表示的化合物衍生的第二结构单元。R1代表具有价数为（a+2）的有机基团，该有机基团与构成内酯环的碳原子一起形成具有3到8个碳原子的环结构。R2代表氟原子、羟基、具有1到20个碳原子的有机基团或类似物。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, POLYMER, AND COMPOUND
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP2623558A1

  公开（公告）日：2013-08-07

  A radiation-sensitive resin composition includes: a polymer having a first structural unit derived from a compound represented by a formula (1), and a second structural unit derived from a compound represented by a formula (2); an acid generator; and an organic solvent. In the formula (1), R1 represents a ring structure having 3 to 8 carbon atoms taken together with a carbon atom constituting a lactone ring; R2 represents a fluorine atom, a hydroxyl group or an organic group having 1 to 20 carbon atoms; and a is an integer of 0 to 6. In a case where a is 2 or greater, a plurality of R2s are identical or different, or represent a ring structure taken together with each other. At least one group of R1 and R2 has a hetero atom or a halogen atom.

  一种辐射敏感树脂组合物包括：一种聚合物，其第一结构单元由式（1）表示的化合物衍生而来，第二结构单元由式（2）表示的化合物衍生而来；一种酸发生器；以及一种有机溶剂。在式 (1) 中，R1 代表具有 3 至 8 个碳原子的环结构，与一个碳原子一起构成内酯环；R2 代表氟原子、羟基或具有 1 至 20 个碳原子的有机基团；a 为 0 至 6 的整数。在 a 为 2 或更大的情况下，多个 R2 相同或不同，或彼此代表一个环结构。R1 和 R2 中至少有一个基团具有杂原子或卤原子。
• US20140255854A1
  申请人：——

  公开号：US20140255854A1

  公开（公告）日：2014-09-11
• US9229323B2
  申请人：——

  公开号：US9229323B2

  公开（公告）日：2016-01-05
• US9459532B2
  申请人：——

  公开号：US9459532B2

  公开（公告）日：2016-10-04