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5-hydroxy-5-methyltetrahydro-2H-pyran-2-one

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
5-hydroxy-5-methyltetrahydro-2H-pyran-2-one
英文别名
5-Hydroxy-5-methyloxan-2-one
5-hydroxy-5-methyltetrahydro-2H-pyran-2-one化学式
CAS
——
化学式
C6H10O3
mdl
——
分子量
130.144
InChiKey
ZIGJFNVSOKITFD-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -0.3
  • 重原子数:
    9
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.83
  • 拓扑面积:
    46.5
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    3

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    甲醇乙酰丙酸乙酯二异丙氧基二氯化钛 作用下, 反应 72.0h, 以54%的产率得到5-hydroxy-5-methyltetrahydro-2H-pyran-2-one
    参考文献:
    名称:
    Homogeneous and heterogeneous photoredox-catalyzed hydroxymethylation of ketones and keto esters: catalyst screening, chemoselectivity and dilution effects
    摘要:
    通过甲醇进行的均相钛和染料催化以及非均相半导体颗粒催化的酮类光羟甲基化反应进行了研究,以评估最活跃的光催化剂体系。二烷氧基钛二氯化物是对苯乙酮以及其他芳香族和脂肪族酮类进行化学选择性羟甲基化的最有效物种。对于半导体催化来说,邻苯二醇偶联是主要过程,而酮类还原主导着Ti(OiPr)4/甲醇或异丙醇体系。在TiO2催化中应用稀释效应会导致羟甲基化增加,而邻苯二醇偶联减少。
    DOI:
    10.3762/bjoc.10.114
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文献信息

  • PHOTORESIST COMPOSITIONS COMPRISING DIAMONDOID DERIVATIVES
    申请人:Liu Shenggao
    公开号:US20090075203A1
    公开(公告)日:2009-03-19
    Novel positive-working photoresist compositions are disclosed. The monomers of the base resin of the resist contain diamondoid-containing pendant groups higher than adamantane in the polymantane series; for example, diamantane, triamantane, tetramantane, pentamantane, hexamantane, etc. The diamondoid-containing pendant group may have hydrophilic-enhancing substituents such as a hydroxyl group, and may contain a lactone group. Advantages of the present compositions include enhanced resolution, sensitivity, and adhesion to the substrate.
  • ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION
    申请人:Tsuchimura Tomotaka
    公开号:US20100248149A1
    公开(公告)日:2010-09-30
    Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including (P) a resin which contains (A) a repeating unit having an ionic structure moiety capable of producing an acid anion on the side chain upon irradiation with an actinic ray or radiation, wherein a cation moiety of the ionic structure moiety has an acid-decomposable group or an alkali-decomposable group.
  • US7304190B2
    申请人:——
    公开号:US7304190B2
    公开(公告)日:2007-12-04
  • US8895222B2
    申请人:——
    公开号:US8895222B2
    公开(公告)日:2014-11-25
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