(1,2-二氯-丙基)-甲基醚 | 100523-95-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: (1,2-二氯-丙基)-甲基醚
• 英文名称: (1,2-dichloro-propyl)-methyl ether
• 英文别名: (1,2-Dichlor-propyl)-methyl-aether；1,2-Dichlor-1-methoxy-propan；1,2-Dichloro-1-methoxypropane；1,2-dichloro-1-methoxypropane
• CAS: 100523-95-3
• 化学式: C₄H₈Cl₂O
• 分子量: 143.013
• InChiKey: SOCGTXGZWFOJKL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.9
• 重原子数：
  7
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  甲醇 、 丙醛 在 氯 作用下， 生成 (1,2-二氯-丙基)-甲基醚
  参考文献：
  名称：

  DE902494

  摘要：

  公开号：

文献信息

• [EN] PROTECTANT, METHOD FOR PRODUCING COMPOUND PROTECTED BY PROTECTANT, RESIN PROTECTED BY PROTECTANT, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION CONTAINING RESIN PROTECTED BY PROTECTANT, PATTERN-FORMING MATERIAL, PHOTOSENSITIVE FILM, CURED RELIEF PATTERN, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND SEMICONDUCTOR DEVICE<br/>[FR] PROTECTEUR, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN COMPOSÉ PROTÉGÉ PAR LE PROTECTEUR, RÉSINE PROTÉGÉE PAR LE PROTECTEUR, COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE CONTENANT LA RÉSINE PROTÉGÉE PAR LE PROTECTEUR, MATIÈRE DE FORMATION DE MOTIF, FILM PHOTOSENSIBLE, MOTIF EN RELIEF DURCI, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2013141376A1

  公开（公告）日：2013-09-26

  　保存安定性に優れるカルボキシル基又はヒドロキシル基の保護剤、該保護剤によりカルボキシル基又はヒドロキシル基が保護され、保存安定性に優れる樹脂、解像性及び感度に優れる前記保護された樹脂を含有する感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いたパターン形成材料、感光性膜、及び硬化膜、並びに該感光性樹脂組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、それにより得られた硬化レリーフパターン及び該硬化レリーフパターンを具備する半導体装置を提供する。　下記一般式（Ｉ）で表される化合物であるヒドロキシル基又はカルボキシル基の保護剤。（上記一般式中、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基又はハロゲン原子を表し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも１つは、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基又はハロゲン原子である。　Ｒ３は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。　Ｒ１及びＲ２が互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ１又はＲ２がＲ３と結合して環を形成していてもよい。Ｘは前記ヒドロキシル基又はカルボキシル基の作用により脱離し得る基を表す。）
• DE902494
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——