铵癸酸盐 | 16530-70-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 中文名称: 铵癸酸盐
• 英文名称: ammonium decanoate
• 英文别名: Decanoic acid, ammonium salt (1:1)；azane;decanoic acid
• CAS: 16530-70-4
• 化学式: C₁₀H₂₀O₂*H₃N
• 分子量: 189.298
• InChiKey: CJIAXHWXANNZPB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.25
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.9
• 拓扑面积：
  41.1
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 海关编码：
  2923900090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  铵癸酸盐 在 octanedioic acid ; neutral ammonium salt 作用下， 19.9 ℃ 、7999.96 MPa 条件下， 以29.0%的产率得到癸醯胺
  参考文献：
  名称：

  Study of the reactivity of ammonium carboxylates in the synthesis of amides under high-pressure deformation conditions

  摘要：

  DOI：

  10.1007/bf00962116
• 作为产物：
  描述：

  正癸酸 在 氨 作用下， 以 水 为溶剂， 以607 mg的产率得到铵癸酸盐
  参考文献：
  名称：

  ylene单酸酐二酯：用于合成不对称取代的per四羧酸衍生物的通用中间体

  摘要：

  已经设计并合成了可溶性per一酸酐二酯。它已成功地用作合成第一批不对称per四羧酸四酯和一系列不对称per二酯单酰亚胺的有效中间体，收率很高。还证明了其在不对称per二酰亚胺合成中的应用。这种通用中间体的可用性将使the四羧酸四酯和per二酯单酰亚胺方便地整合到复杂的功能分子体系中。

  DOI：

  10.1016/j.tetlet.2008.11.084
• 作为试剂：
  描述：

  perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic acid-3,4-anhydride-9,10-bis(decylester) 在 咪唑 、 铵癸酸盐 作用下， 反应 1.0h， 以88%的产率得到perylene-3,4-dicarboximide-9,10-di-(decyloxycarbonyl)
  参考文献：
  名称：

  ylene单酸酐二酯：用于合成不对称取代的per四羧酸衍生物的通用中间体

  摘要：

  已经设计并合成了可溶性per一酸酐二酯。它已成功地用作合成第一批不对称per四羧酸四酯和一系列不对称per二酯单酰亚胺的有效中间体，收率很高。还证明了其在不对称per二酰亚胺合成中的应用。这种通用中间体的可用性将使the四羧酸四酯和per二酯单酰亚胺方便地整合到复杂的功能分子体系中。

  DOI：

  10.1016/j.tetlet.2008.11.084

文献信息

• Bactericidal method of using compounds of fatty acids and ammonium fatty acid salts
  申请人：FALCON LAB, LLC

  公开号：US10426163B1

  公开（公告）日：2019-10-01

  A compound containing one mole of a free fatty acid and one mole of the ammonium salt of the fatty acid and represented by the structural formula (I): CH3(CH2)xCOOH.CH3(CH2)xCOO−NH4+  (I) wherein x is 6, 7 or 8. Bacterial contaminated surfaces may be disinfected or bacteria removed from a bacterial contaminated surface by applying onto the surface a bactericidally effective amount of the compound.

  一摩尔游离脂肪酸和一摩尔脂肪酸铵盐组成的化合物，其结构式表示为(I):CH3(CH2)xCOOH. ( )xCOO−NH4+，其中x为6、7或8。可以通过在受细菌污染的表面上施加足量的该化合物来消毒细菌污染的表面或从细菌污染的表面上去除细菌。
• Production of A-21978C derivatives
  申请人：ELI LILLY AND COMPANY

  公开号：EP0178152A2

  公开（公告）日：1986-04-16

  An improved process is provided for producing A-21978C cyclic peptide derivatives having a C2-C14 alkonoyl side chain which comprises feeding a C2-C14 alkanoic acid, or an ester or salt thereof, to the A-21978C-producing culture during the production stages of the fermentation. In addition, a new process is provided for producing the A-21978C antibiotics which comprises cultivating under aerobic conditions a new strain of microorganism.

  提供了一种生产具有 C2-C14 烷酰基侧链的 A-21978C 环肽衍生物的改进工艺，该工艺包括在发酵的生产阶段向生产 A-21978C 的培养物中加入 C2-C14 烷酸或其酯或盐。 此外，还提供了一种生产 A-21978C 抗生素的新工艺，该工艺包括在有氧条件下培养一种新的微生物菌株。
• POLYESTER RESIN COMPOSITIONS AND PROCESSES FOR THE PREPARATION THEREOF
  申请人：KANEKA CORPORATION

  公开号：EP1026203A1

  公开（公告）日：2000-08-09

  Polyester resin compositions each comprising a polyester resin and a silane-treated foliated phyllosilicate, wherein the silane-treated foliated phyllosilicate is one prepared by incorporating a swellable phyllosilicate salt with an organo-silane of the general formula (I) : YnSiX4-n (wherein n is an integer of 0 to 3; Y is an optionally substituted C1 - C25 hydrocarbon group; and X is a hydrolyzable group or hydroxyl, with the proviso that when n or 4-n is 2 or above, nY's or (4-n)X's may be the same or different from each other) and the maximum layer thickness of the silane-treated foliated phyllosilicate in the composition is larger than 100 Å but smaller than 2000Å.

  聚酯树脂组合物，每种组合物包括聚酯树脂和硅烷处理过的叶状硅酸酯，其中硅烷处理过的叶状硅酸酯是通过将可溶胀的叶状硅酸酯盐与通式(I)的有机硅烷结合而制备的：YnSiX4-n（其中 n 为 0 至 3 的整数；Y 为任选取代的 C1 - C25 烃基；X 为可水解基团或羟基，但当 n 或 4-n 为 2 或以上时，nY 或（4-n）X 可彼此相同或不同），且组合物中硅烷处理过的叶状植物硅酸盐的最大层厚度大于 100 埃但小于 2000 埃。
• Photosensitive composition and method for forming pattern using the same
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：EP1612602A2

  公开（公告）日：2006-01-04

  A positive working photosensitive composition which is useful in the manufacturing step of a semiconductor such as IC, the manufacture of a circuit board such as liquid crystals and thermal heads, and other fabrication steps and has an excellent resolution and line edge roughness, and a method for forming a pattern using the same, are provided, which are a photosensitive composition containing (A) a resin having a repeating unit having a specific group, whose solubility in an alkaline developer increases by the action of an acid, and a method for forming a pattern using the same.

  本发明提供了一种可用于集成电路等半导体的制造步骤、液晶和热敏头等电路板的制造以及其他制造步骤，并具有出色的分辨率和线边粗糙度的正向工作光敏组合物，以及使用该组合物形成图案的方法，该组合物是一种光敏组合物，其中含有(A)具有特定基团的重复单元的树脂，其在碱性显影剂中的溶解度在酸的作用下会增加，以及使用该组合物形成图案的方法。
• RADIATION CURABLE COMPOSITION, STORING METHOD THEREOF, FORMING METHOD OF CURED FILM, PATTERNING METHOD, USE OF PATTERN, ELECTRONIC COMPONENTS AND OPTICAL WAVEGUIDE
  申请人：Hitachi Chemical Company, Ltd.

  公开号：EP1672426A1

  公开（公告）日：2006-06-21

  The present invention provides a radiation curing composition comprising (a): a siloxane resin, (b): a photoacid generator or photobase generator, and (c): a solvent capable of dissolving component (a) and containing an aprotic solvent.

  本发明提供了一种辐射固化组合物，该组合物包括（a）：硅氧烷树脂；（b）：光酸发生器或光碱发生器；以及（c）：能够溶解（a）组分并含有壬烷溶剂的溶剂。