【課題】優れたラインエッジラフネスのレジストパターンを製造することができる化合物、レジスト組成物に用いる樹脂及びレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、R1及びR2は、置換基を有してもよい炭化水素基等;Xは、S又はI;mは0又は1の整数;X1及びX2は、O又はN;R3及びR4は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又は炭化水素基等;sは0〜3の整数;tは0〜4の整数;A−は式(I−A1)又は式(I−A2)のアニオン;R5i及びR6iは、フッ素原子を有するアルキル基等;Q1及びQ2はフッ素原子又はペルフルオロアルキル基;Lb1は置換基を有していてもよい2価の飽和炭化水素基等;Yは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい1価の脂環式炭化水素基等を表す。]【選択図】なし
这个专利描述的是一种用于制造具有优良线条边缘粗糙度的光刻胶图案的化合物、光刻胶组合物中使用的
树脂以及光刻胶组合物。【解决方案】包括由式(I)表示的盐、酸发生剂和光刻胶组合物。【式中,R₁和R₂可以是带有取代基的烃基等;X是S或I;m是0或1的整数;X₁和X₂是O或N;R₃和R₄是卤素原子、羟基或烃基等;s是0〜3的整数;t是0〜4的整数;A⁻是式(I⁻A₁)或式(I⁻A₂)的阴离子;R₅i和R₆i是带有
氟原子的烷基等;Q₁和Q₂是
氟原子或
全氟烷基;Lb₁是带有取代基的二价饱和烃基等;Y表示带有取代基的甲基或带有取代基的单价脂
环烃基等。】【选择图】无