1-(氯甲氧基)-2,2-二甲基丙烷 | 62153-54-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 1-(氯甲氧基)-2,2-二甲基丙烷
• 英文名称: 1-chloromethoxy-2,2-dimethylpropane
• 英文别名: 1-(Chloromethoxy)-2,2-dimethylpropane
• CAS: 62153-54-2
• 化学式: C₆H₁₃ClO
• mdl: MFCD19232952
• 分子量: 136.622
• InChiKey: YYOXXWPBNOYTIX-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  133.1±13.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.939±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(氯甲氧基)-2,2-二甲基丙烷 以92%的产率得到4-neopentyloxymethoxyphenyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  MONOMER, POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  一种聚合物是由一种具有酸敏感基团的羟基苯甲酸甲酯单体合成得到的。该聚合物作为基础树脂的正性光阻组合物具有极高的曝光前后碱溶解速率对比度、高分辨率、曝光后图案的良好轮廓和极小的线边粗糙度、缓慢的酸扩散速率和良好的蚀刻抗性。

  公开号：

  US20110294070A1
• 作为产物：
  描述：

  聚合甲醛 、 新戊醇 在 盐酸 、 sodium sulfate 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 0.5h， 生成 1-(氯甲氧基)-2,2-二甲基丙烷
  参考文献：
  名称：

  [EN] ORGANIC COMPOUNDS
  [FR] COMPOSÉS ORGANIQUES

  摘要：

  公开号：

  WO2009156462A3

文献信息

• 含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体及其合成方法
  申请人：上海博栋化学科技有限公司

  公开号：CN111138288A

  公开（公告）日：2020-05-12

  本发明公开了一种含五元环状β‑酮结构的光刻胶树脂单体及其合成方法，属于化学合成及光刻材料领域。该光刻胶树脂单体的结构通式为：或式中，R1为甲基或氢；R2、R3分别独立地为氢、烷基、环烷基中的一种；R4为烷基或环烷基；n为不小于1的整数；R’为氢、烷基、环烷基中的一种。该光刻胶树脂单体具有曝光前后溶解度差异大的特点，其能够降低粗糙度，提高灵敏度和分辨率，有利于形成均一性良好的光刻图案。
• 一种含多环β-酮结构的光敏型光刻胶树脂单体及其合成方法
  申请人：徐州博康信息化学品有限公司

  公开号：CN111875500A

  公开（公告）日：2020-11-03

  本发明公开了一种含多环β‑酮结构的光敏型光刻胶树脂单体，涉及光刻胶树脂单体领域，其结构式如下所示：其中R1为甲基或者H，R2、R3分别独立的为氢、烷基、环烷基，R4为烷基或者环烷基，且R2和R4、R3和R4或者R2和R3可以通过共价键连接形成环状结构；n为1‑10的整数，该树脂单体具有曝光前后溶解度差异大，能够降低粗糙度，提高灵敏度和分辨率，有利于形成均一性良好的光刻图案,耐刻蚀性能良好。
• POLYMERIZABLE ESTER COMPOUND, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：HASEGAWA Koji

  公开号：US20130017484A1

  公开（公告）日：2013-01-17

  Polymerizable ester compounds having formula (1) are novel wherein R 1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R 2 is an acid labile group, Aa is a divalent hydrocarbon group which may be separated by —O— or —C(═O)—, and k 1 is 0 or 1. They are useful as monomers to produce polymers which are transparent to radiation ≦500 nm. Radiation-sensitive resist compositions comprising the polymers as base resin exhibit excellent developed properties.

  具有式（1）的可聚合酯化合物是新颖的，其中R1为H、F、甲基或三氟甲基，R2为酸敏感基团，Aa为二价的碳氢基团，可以通过—O—或—C（═O）—分离，k1为0或1。它们可用作单体，用于生产对辐射≦500 nm透明的聚合物。以这些聚合物作为基础树脂的辐射敏感抗蚀剂组合物表现出优异的显影性能。
• ORGANIC COMPOUNDS
  申请人：Adams Christopher

  公开号：US20110082129A1

  公开（公告）日：2011-04-07

  The present invention provides novel organic compounds of Formula I: methods of use, and pharmaceutical compositions thereof.

  本发明提供了化合物I的新型有机化合物，使用方法和其药物组成物。
• Organic compounds
  申请人：Novartis AG

  公开号：US08030334B2

  公开（公告）日：2011-10-04

  The present invention provides novel organic compounds of Formula I: methods of use, and pharmaceutical compositions thereof.

  本发明提供了新型有机化合物I的方法：使用方法和药物组成物。