1-羧基-3-甲基丙烯酰氧基金刚烷 | 212580-10-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 1-羧基-3-甲基丙烯酰氧基金刚烷
• 英文名称: 3-methacryloyloxyadamantane-1-carboxylic acid
• 英文别名: 1-Carboxy-3-methacryloyloxyadamantane；3-(2-methylprop-2-enoyloxy)adamantane-1-carboxylic acid
• CAS: 212580-10-4
• 化学式: C₁₅H₂₀O₄
• 分子量: 264.321
• InChiKey: BJGCYZMFJALKRF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.73
• 拓扑面积：
  63.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-羧基-3-甲基丙烯酰氧基金刚烷 在 N,N'-二环己基碳二亚胺 作用下， 以 二氯甲烷 、 乙腈 为溶剂， 反应 4.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  塩、酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  【课题】提高注册图案的线边粗糙度（LER）。 【解决方法】提供了以下内容：包含盐的化合物，产生酸的剂，含有盐来源的结构单元的树脂，以及包含树脂和酸发生剂的注册组合物和使用该注册组合物制造注册图案的方法。 【选择图】无。

  公开号：

  JP2018043976A
• 作为产物：
  描述：

  1-金刚烷醇 在 盐酸 、 吩噻嗪 、 硫酸 、 硝酸 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 氯仿 、 水 为溶剂， 反应 24.25h， 生成 1-羧基-3-甲基丙烯酰氧基金刚烷
  参考文献：
  名称：

  ヒドロキシアダマンタンカルボン酸化合物の製造方法

  摘要：

  提供一种以更简便且更高收率制备羟基金刚烷羧酸化合物的方法。制备3-羟基金刚烷-1-羧酸的方法包括以下步骤：步骤1：在浓度为90质量％以上的硫酸溶液中，使金刚烷醇和一氧化碳或一氧化碳源按式（1）反应；以及步骤2：向得到的溶液中加入硝酸，制备3-羟基金刚烷-1-羧酸。【选图】无

  公开号：

  JP2016084315A

文献信息

• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：Ichikawa Koji

  公开号：US20110014566A1

  公开（公告）日：2011-01-20

  A salt represented by the formula (I-Pa): wherein X pa represents a single bond or a C1-C4 alkylene group, R pa represents a single bond, a C4-C36 divalent alicyclic hydrocarbon group or a C6-C36 divalent aromatic hydrocarbon group, and one or more methylene groups in the divalent alicyclic hydrocarbon group can be replaced by —O— or —CO—, Y pa represents a polymerizable group, and Z pa+ represents an organic cation.

  由公式(I-Pa)表示的盐，其中Xpa代表单一键或C1-C4亚烷基团，Rpa代表单一键、C4-C36二价脂环烃基团或C6-C36二价芳香烃基团，且脂环烃基团中的一个或多个亚甲基基团可以被—O—或—CO—替换，Ypa代表可聚合团，Zpa+代表有机阳离子。
• COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160052860A1

  公开（公告）日：2016-02-25

  A compound represented by the formula (I). wherein R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C 1 to C 6 alkyl group that may have a halogen atom; R 2 represents a C 1 to C 12 fluorinated saturated hydrocarbon group; W 1 represents a C 5 to C 18 divalent alicyclic hydrocarbon group; A 1 and A 2 independently represents a single bond or *-A 3 -X 1 -(A 4 -X 2 ) a —; A 3 and A 4 independently represents a C 1 to C 6 alkanediyl group; X 1 and X 2 independently represents —O—, —CO—O— or —O—CO—; a represents 0 or 1; and * represents a bond to an oxygen atom.

  化合物的化学式为（I）。其中R1代表氢原子、卤素原子或可能含有卤素原子的C1到C6烷基基团；R2代表C1到C12氟化饱和碳氢基团；W1代表C5到C18双价脂环碳氢基团；A1和A2独立地代表单键或*-A3-X1-(A4-X2)a—；A3和A4独立地代表C1到C6烷二基基团；X1和X2独立地代表—O—、—CO—O—或—O—CO—；a代表0或1；*代表与氧原子的键。
• POLYMERIZABLE ANION-CONTAINING SULFONIUM SALT AND POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20100099042A1

  公开（公告）日：2010-04-22

  A polymerizable anion-containing sulfonium salt having formula (1) is provided wherein R 1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R 2 , R 3 and R 4 are C 1 -C 10 alkyl, alkenyl or oxoalkyl or C 6 -C 18 aryl, aralkyl or aryloxoalkyl, or two of R 2 , R 3 and R 4 may bond together to form a ring with S, A is a C 2 -C 20 hydrocarbon group having cyclic structure, and n is 0 or 1. The sulfonium salt generates a very strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation. A resist composition comprising a polymer derived from the sulfonium salt is also provided.

  提供具有式（1）的可聚合含阴离子的亚砜盐，其中R1为H、F、甲基或三氟甲基，R2、R3和R4为C1-C10烷基、烯基或氧代烷基或C6-C18芳基、芳基烷基或芳基氧代烷基，或R2、R3和R4中的两个可以结合在一起形成与S的环，A为具有环状结构的C2-C20烃基团，n为0或1。该亚砜盐在暴露于高能辐射时生成非常强的磺酸。还提供了一种包含从该亚砜盐衍生的聚合物的抗蚀组合物。
• COMPOUND, RESIN AND PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160237190A1

  公开（公告）日：2016-08-18

  A compound represented by formula (I): wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group; R 2 represents a C1-C12 hydrocarbon group; X a and X b each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom; X 11 represents a C1-C12 divalent saturated hydrocarbon group where a hydrogen atom can be replaced by a fluorine atom; and A 1 represents a C1-C12 divalent saturated hydrocarbon group or *-A 2 -X 1 -(A 3 -X 2 ) a -A 4 -, where * represents a binding site to an oxygen atom, A 2 , A 3 and A 4 each independently represent a C1-C12 divalent hydrocarbon group, X 1 and X 2 each independently represent —O—, —CO—O—, —O—CO— or —O—CO—O—, and “a” represents 0 or 1.

  化合物的化学式（I）表示为：其中R1代表氢原子或甲基基团；R2代表一个C1-C12烃基团；Xa和Xb分别代表氧原子或硫原子；X11代表一个C1-C12二价饱和碳氢基团，其中氢原子可以被氟原子取代；A1代表一个C1-C12二价饱和碳氢基团或*-A2-X1-(A3-X2)a-A4-，其中*代表与氧原子结合的位点，A2、A3和A4分别代表一个C1-C12二价碳氢基团，X1和X2分别代表—O—、—CO—O—、—O—CO—或—O—CO—O—，而“a”代表0或1。
• 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2017095444A

  公开（公告）日：2017-06-01

  【課題】良好なフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造できる化合物、樹脂及びこれを含むレジスト組成物の提供。【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、樹脂及びレジスト組成物。［Ｒ０はハロゲン、Ｈ又はハロゲンで置換／非置換のＣ１〜６アルキル；Ｒ１は夫々独立に、環状エーテル構造を含む基又はＨ；Ａ１は単結合、又は、エステル結合、エーテル結合或いはカーボネート結合を有する１若しくは２個のアルカジイル基を有する基；Ａｄはアダマンタンジイル基又はアダマンタントリイル基；ｎは１又は２但しｎが２の場合、Ｒ１の少なくとも１つは環状エーテル構造を含む基］【選択図】なし

  提供具有良好焦深度（DOF）的化合物、树脂以及包含它们的光刻胶组合物。所述组合物由式（I）表示，其中化合物、树脂和光刻胶组合物包括：[R0为卤素、氢或取代/未取代的C1-6烷基；R1分别独立地为含环状醚结构的基或氢；A1为具有一个或两个含有单键、酯键、醚键或碳酸酯键的烯基基；Ad为脱氢壬二烯基或脱氢壬三烯基；n为1或2，但当n为2时，R1中至少有一个含环状醚结构的基]。【选择图】无