2,2-二甲基丙基丁酸酯 | 2050-00-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 中文名称: 2,2-二甲基丙基丁酸酯
• 英文名称: tert-amyl butyrate
• 英文别名: 2-methylbutan-2-yl butanoate
• CAS: 2050-00-2
• 化学式: C₉H₁₈O₂
• 分子量: 158.241
• InChiKey: VTZSXMMBJHMLEE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  -73°C (estimate)
• 沸点：
  183.34°C (estimate)
• 密度：
  0.8809 (estimate)
• 保留指数：
  955;963;972;977;977

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.89
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,2-二甲基丙基丁酸酯 在 sulfonic cation-exchange resin KU-23 作用下， 生成 2-甲基-2-丁烯 、 丁酸
  参考文献：
  名称：

  Kashkarova, I. B.; Rozhnov, A. M.; Verevkin, S. P., Russian Journal of Applied Chemistry, 1994, vol. 67, # 9.1, p. 1305 - 1308

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2-甲基-2-丁醇 、 正丁醛 在 六甲基磷酰三胺 、 溴 、 碳酸氢钠 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 以34%的产率得到2,2-二甲基丙基丁酸酯
  参考文献：
  名称：

  Br 2 -HMPT-NaHCO 3将醇与醛进行新的氧化酯化反应。

  摘要：

  描述了在碳酸氢钠存在下使用溴/ HMPT络合物进行的新的醛介导的氧化酯化反应。

  DOI：

  10.1016/0040-4039(90)80204-y

文献信息

• QUATERNARY AMMONIUM SALT COMPOUND, COMPOSITION FOR FORMING A RESIST UNDER LAYER FILM, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20150357204A1

  公开（公告）日：2015-12-10

  A quaternary ammonium salt compound is represented by the following formula (A-1), wherein, R 1 , R 2 , and R 3 each represent an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or an aralkyl group, a part or all of hydrogen atoms in these groups may be substituted by a hydroxyl group(s), an alkoxy group(s), or a halogen atom(s), and these groups may include one or more of a carbonyl group and an ester bond; R 4 represents a single bond, an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, or an aralkylene group, a part or all of hydrogen atoms in these groups may be substituted by an alkoxy group(s) or a halogen atom(s), and these groups may include one or more of an ether bond, a carbonyl group, an ester bond, and an amide bond; and A − represents a non-nucleophilic counter ion.

  一个四元铵盐化合物由以下式（A-1）表示，其中，R1、R2和R3分别代表烷基、烯基、芳基或芳基烷基，这些基团中的氢原子的一部分或全部可以被羟基、烷氧基或卤原子取代，这些基团中可能包括一个或多个羰基和酯键；R4代表一个单键、烷基、烯基、芳基或芳基烷基，这些基团中的氢原子的一部分或全部可以被烷氧基或卤原子取代，这些基团中可能包括一个或多个醚键、羰基、酯键和酰胺键；A−代表一个非亲核对离子。
• N-(1,2,5-OXADIAZOL-3-YL)BENZAMIDES AND THEIR USE AS HERBICIDES
  申请人：Köhn Arnim

  公开号：US20110152084A1

  公开（公告）日：2011-06-23

  There are described N-(1,2,5-oxadiazol-3-yl)benzamides of the general formula (I) as herbicides. In this formula (I), X, Y, Z and R are radicals such as hydrogen, organic radicals such as alkyl, and other radicals such as halogen.

  通用公式（I）中描述了N-(1,2,5-噁二唑-3-基)苯甲酰胺作为除草剂。在这个公式（I）中，X、Y、Z和R是氢、烷基等有机基团以及卤素等其他基团。
• Increasing the catalytic efficiency of<i>Candida rugosa</i>lipase for the synthesis of<i>tert</i>-alkyl butyrates in low-water media
  作者：Abir B. Majumder、Munishwar N. Gupta

  DOI：10.3109/10242422.2011.615392

  日期：2011.12

  Abstract Reactions involving tert-alcohols and their esters are generally not catalyzed by lipases. Candida rugosa lipase is one of the few lipases which shows at least limited catalytic activity towards tert-alcohols and their esters. Using transesterification of tributyrin with tertiary butyl and amyl alcohols as a model reaction, it is shown that precipitation of lipase by a tertiary alcohol in the

  摘要 涉及叔醇及其酯的反应通常不受脂肪酶催化。Candida rugosa 脂肪酶是少数对叔醇及其酯显示至少有限催化活性的脂肪酶之一。使用三丁酸甘油酯与叔丁醇和戊醇的酯交换作为模型反应，结果表明，与用冻干粉末获得的速率相比，在具有最佳浓度的缓冲液存在下，叔醇对脂肪酶的沉淀使催化活性提高了 7 倍。甘油三酯与叔醇的比例优化和培养基工程得到的初始速率比冻干粉末高 41 倍。因此，使用简单的酶制剂，
• ANTIMICROBIAL POLYMYXINS FOR TREATMENT OF BACTERIAL INFECTIONS
  申请人：MICURX PHARMACEUTICALS, INC.

  公开号：US20160185823A1

  公开（公告）日：2016-06-30

  The present invention provides antimicrobial polymyxin compounds of the following formula I: or pharmaceutically acceptable salts, hydrates, or solvates thereof that are antibacterial agents, pharmaceutical compositions containing them, methods for their use, and methods for preparing these compounds.

  本发明提供以下式I的抗微生物多粘菌素化合物或其药学上可接受的盐、水合物或溶剂化物，它们是抗菌剂，包含它们的制药组合物，使用它们的方法以及制备这些化合物的方法。
• Composition for forming resist underlayer film and patterning process using the same
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2540780A1

  公开（公告）日：2013-01-02

  The invention provides a composition for forming a silicon-containing resist underlayer film comprising: (A) a silicon-containing compound obtained by a hydrolysis-condensation reaction of a mixture containing, at least, one or more hydrolysable silicon compound shown by the following general formula (1) and one or more hydrolysable compound shown by the following general formula (2), and (B) a silicon-containing compound obtained by a hydrolysis-condensation reaction of a mixture containing, at least, one or more hydrolysable silicon compound shown by the following general formula (3) and one or more hydrolysable silicon compound shown by the following general formula (4). There can be provided a composition for forming a resist underlayer film applicable not only to a resist pattern obtained in a negative development but also to a resist pattern obtained in a conventional positive development, and a patterning process using this composition.          R1m1R2m2R3m3Si(OR)(4-m1-m2-m3)     (1)          U(OR4)m4(OR5)m5     (2)          R6m6R7m7R8m8Si(OR9)(4-m6-m7-m8)     (3)          Si(OR10)4     (4)

  本发明提供了一种用于形成含硅抗蚀剂底层薄膜的组合物，该组合物包括 (A)由至少含有下式(1)所示的一种或多种可水解硅化合物和下式(2)所示的一种或多种可水解化合物的混合物经水解-缩合反应得到的含硅化合物，和(B)由至少含有下式(3)所示的一种或多种可水解硅化合物和下式(4)所示的一种或多种可水解硅化合物的混合物经水解-缩合反应得到的含硅化合物。本发明提供了一种用于形成抗蚀剂底层薄膜的组合物，该组合物不仅适用于在负显影中获得的抗蚀剂图案，也适用于在传统正显影中获得的抗蚀剂图案，还提供了一种使用该组合物的图案化工艺。 R1m1R2m2R3m3Si(OR)(4-m1-m2-m3) (1) U(OR4)m4(OR5)m5 (2) R6m6R7m7R8m8Si(OR9)(4-m6-m7-m8) (3) Si(OR10)4 (4)

表征谱图